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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 和英辞典 > ローム層の英語・英訳 

ローム層の英語

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主な英訳loam layer

研究社 新和英中辞典での「ローム層」の英訳

ローム層 <ローム>



「ローム層」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 73



例文

第1は、約500オングストロームと約500オングストロームとの間の厚さを有することができる。例文帳に追加

The first layer may have a thickness between about 500 angstroms and about 5,000 angstroms. - 特許庁

酸化膜9を2000オングストローム以上のSiO2 の膜によって形成する。例文帳に追加

The layer 9 is formed of an SiO2 film of a thickness of 2000 angstroms or thicker. - 特許庁

薄い(例えば、〜15オングストローム)二酸化シリコンが基板(102)上に形成される。例文帳に追加

A thin (for example, up to 15 Å) silicon dioxide layer is formed on a substrate 102. - 特許庁

また、光記録3の厚さは300〜800オングストロームの範囲にある。例文帳に追加

The thickness of the optical recording layer 3 ranges from 300 to 800 angstrom. - 特許庁

ローム系炭化物2を包含する鋼線1に表面加工を加えて、上記クローム系炭化物2を鋼線1表面に突出させ、鋼線1表面に保護を積してクローム系炭化物2を固定するワイヤ工具の製造方法。例文帳に追加

In this manufacturing method for the wire tool, a steel wire 1 enclosing a chromium system carbide 2 is subjected to surface machining, thereby projecting the chromium system carbide 2 to the surface of the steel wire 1, and a protective layer is stacked on the surface of the steel wire 1 to fix the chromium system carbide 2. - 特許庁

相互接続導体はアルミニウムであり、反射防止は窒化チタンであり、反射防止は150オングストローム以上650オングストローム以下の厚さを有する。例文帳に追加

The interconnection conductor is aluminum and the antireflection layer is titanium nitride, and the antireflection layer has a thickness of 150 angstrom or more and 650 angstrom or less. - 特許庁

例文

炭化ケイ素スタックは、その上に形成されたより厚い炭化ケイ素(例えば、少なくとも300オングストロームの厚さの炭化ケイ素)を有する薄い炭化ケイ素シード(例えば、約100オングストローム未満の厚さの炭化ケイ素シード)を有する。例文帳に追加

The multi-layer silicon carbide stack has a seed layer of thin silicon carbide layer (for example, a seed layer of silicon carbide having a thickness of less than about 100 Å) having a thicker silicon carbide layer formed thereon ( for example, a silicon carbide layer having at least a thickness of 300 Å). - 特許庁

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JMdictでの「ローム層」の英訳

ローム層

読み方ロームそう

文法情報名詞
対訳 stratum of loam

電気制御英語辞典での「ローム層」の英訳

ローム層

和英河川・水資源用語集での「ローム層」の英訳

ローム層

JST科学技術用語日英対訳辞書での「ローム層」の英訳

ローム層

クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「ローム層」の英訳

ローム層

「ローム層」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 73



例文

電極系が、厚さ1000オングストローム以下の金属膜31からなる第一の部分25と、厚さ1000オングストローム以下の金属下地膜27およびこの金属下地膜上の厚さ300オングストローム以上の金属上膜28を備える第二の部分26とを含む。例文帳に追加

The electrode system comprises a first part 25 made of a metal film 31 whose thickness is 1,000Å or less; and a second part 26 having a metal foundation film 27 whose thickness is 1,000 Å or less and a metal upper layer film 28 whose thickness is at least 300on the metal foundation film. - 特許庁

発光は、少なくとも50オングストロームの厚みを有するウルツ鉱III族窒化物とすることができる。例文帳に追加

The light-emitting layer may be a wurtzite group III nitride layer having a thickness of at least 50 angstroms. - 特許庁

は、銅(Cu)あるいはアルミ(Al)で覆われたナノ粒子で、外は、クローム(Cr)に覆われたナノ粒子である。例文帳に追加

An inner layer is made of nanoparticles coated with Cu or Al, and an outer layer is made of nanoparticles coated with Cr. - 特許庁

土質改良材22は、関東ローム層14および粘性土16が存在する深度の部分だけに投入する。例文帳に追加

The soil improvement material 22 is charged only to a depth of the drilled hole where a Kanto loam layer 14 and viscous soil layer 16 are present. - 特許庁

当該酸化物(418)の成長速度を制御して遅くすると約10オングストローム以下の厚みのが容易にできるようになる。例文帳に追加

When the growth speed of the oxide layer 418 is controlled for delaying, a layer having a thickness of approximately 10 angstroms or less can be easily formed. - 特許庁

更に第1白金81上に第2白金82を例えばスパッタリング法で250〜500℃にて250〜500オングストローム堆積する。例文帳に追加

Furthermore, on the first platinum layer 81, a second platinum layer 82 is deposited, for example, by sputtering method at 250-500°C to 250-500 Å. - 特許庁

SiO_2基板上に、40オングストローム以上、特に140オングストローム以上であって、420オングストローム未満、特に400オングストローム以下の厚みの白金(Pt)バッファーを介して、Y:Ba:Cuの原子比が実質上1:2:3である銅酸化物超電導体から成り、且つ基板と垂直方向にc軸配向した結晶性を有する酸化物超電導薄膜が形成されていることを特徴とする。例文帳に追加

The oxide superconductive thin film composed of a copper oxide super conductor, in which the atomic ratio of Y:Ba:Cu is 1:2:3, and having crystallinity c-axis-oriented in a direction vertical to the substrate is formed through the platinum(Pt) buffer layer having40 Å, particularly140to <420 Å, particularly400thickness on the SiO2 substrate. - 特許庁

例文

光熱変換3はCuSで形成された厚さ40〜400オングストロームの蒸着膜か、In_2O_3で形成された厚さ20〜150オングストロームの蒸着膜である。例文帳に追加

The photothermal conversion layer 3 is a vapor-deposited film with a thickness of 40 to 400 Å, formed of CuS or a vapor-deposited film with a thickness of 20 to 150 Å, formed of In_2O_3. - 特許庁

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