不安定グラフの英語

リソグラフィ投影装置で使う光学要素を不安定な材料を使わずに効率的且つ効果的にクリーニングする方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an efficient and effective cleaning method of an optical element used in a lithographic projection apparatus without employing any unstable material. - 特許庁

両者のグラフを比較すると米国の成長のバランスの良さ・安定性と我が国の成長のバランスの悪さ・不安定性が浮き彫りとなる。例文帳に追加

A comparison of the two graphs shows balanced and stable growth while in Japan growth is not balanced and not stable. - 経済産業省

着色粒子の表面に高分子鎖をグラフト化する従来の電気泳動粒子は、コア粒子となる着色粒子の粒径や形状や、グラフト化した高分子鎖の厚みにバラツキがあり、電気泳動粒子の分散性や帯電性が不安定となる。例文帳に追加

To provide a stable electrophoretic display by solving a problem in which the shell thickness of particles is apt to be uneven caused by a production method, resulting in unstable dispersibility or electrostatic chargeability of electrophoretic particles. - 特許庁

充填材または充填材の混合物をステレオリソグラフィ系(stereolithography systems)で使用するための輻射線−硬化性組成物への混合の際、組成物の全体における粘度不安定化の問題を解決する手段を提供する。例文帳に追加

To provide means for solving the viscosity unstabilization problem in the whole composition at the blending of filler materials or filler material mixture with the radiation-curable composition for utilizing in stereolithography systems. - 特許庁

試料注入口２４および分取口２７を備え、不安定物質を精製するための液体クロマトグラフ部２をグローブボックス１内に設ける。例文帳に追加

A liquid chromatograph part 2 equipped with a sample injection port 24 and a splitting port 27, for refining the unstable substance is provided in the glove box 1. - 特許庁

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、（Ａ）熱不安定基で保護されたカルボキシル基を有するフラーレン誘導体と、（Ｂ）有機溶剤とを含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。例文帳に追加

The resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography includes (A) a fullerene derivative having a carboxyl group protected by a thermally labile group and (B) an organic solvent. - 特許庁

この方法は、オゾンのような不安定な材料を使わないのでパージガス準備の余分な作業がなく、基板の露出と同時に光学要素をクリーニングでき、従って光学要素をリソグラフィ装置から取外す必要もない。例文帳に追加

According to this method, an unstable material such as ozone or the like is not used whereby an excessive work such as the preparation of the purge gas is not required and the optical element can be cleaned simultaneously with the exposure of the substrate, thereby not requesting the optical element removed from the lithographic apparatus. - 特許庁