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「主制水工」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 20件
二つの主軸台を有する主軸移動型立形工作機械において、一方の主軸台が工作物授受位置に移動しても他方の主軸台の移動動作に制限をかける必要がなく、また、工作機械の水平方向全体の寸法を大きくすることなく工作物を反転させる工作物反転装置を提供する。例文帳に追加
To provide a work reversing device reversing work without limiting moving action of one head-stock even when the other head-stock moves to a work giving/receiving position, and without increasing the total horizontal size of a machining tool, in a main spindle traveling type vertical machining tool having the two head-stocks. - 特許庁
制御装置4は、主蒸気抽気弁41が開かれて工場設備へ蒸気が供給され、注水制御弁34が開かれて減温器28から再熱蒸気管に注水が行われた場合に、再熱蒸気抽気弁61を開いて再熱蒸気管29から蒸気を工場設備2に供給する。例文帳に追加
The control device 4 opens the reheated steam extraction valve 61 to supply the steam from the reheated steam pipe 29 to the factory equipment 2 when the steam is supplied to the factory equipment by opening the main steam extraction valve 41 and water is injected to the reheated steam pipe from a temperature decreasing device 28 by opening a water injection control valve 34. - 特許庁
使用者は平視から低頭の間の俯角仰角の変化を利用して人工水晶体に作用し移動させる押動力を調整して主動的に人工水晶体を植え込んだ眼球の遠近調節度数を制御でき、或いは外在の磁場を利用して人工水晶体の位置を制御することで眼球の光の屈折度数を制御することができる。例文帳に追加
A user can adjust a pushing force operating and moving the artificial lens using changes in depression angles and elevation angles from a horizontal view to a head lowered view, and leadingly control the accommodation diopter of the eyeball implanted with the artificial lens, or controls the position of the artificial lens using an extrinsic magnetic field so as to control the light refraction diopter of the eyeball. - 特許庁
流体制御機構1は、主として、紫外線を透過し、微細加工が可能な板状チップ2と、板状チップ2上に形成され、光触媒機能を有する酸化チタンを主成分とする光触媒層7と、光触媒層7上に形成され、シリカを主成分とする親水維持層8とを備える。例文帳に追加
This fluid control mechanism 1 is provided with a plate-like chip 2 transmitting mainly an ultraviolet ray and allowing microfabrication; a photocatalyst layer 7 formed on the plate-like chip 2 and containing, as a main constituent, titanium oxide having a photocatalyst function; and a hydrophilicity keeping layer 8 formed on the photocatalyst layer 7 and containing, as a main constituent, silica. - 特許庁
主に食品工場等の高濃度有機物含有排水を小規模,小スペースで安価な手法により、放流規制の厳しい河川等に放流可能な程度にまで水質浄化する。例文帳に追加
To clean wastewater containing organic matters in high concentration mainly generated in a food factory or the like up to a degree dischargeable to heavily regulated rivers regulation. - 特許庁
橋梁の主桁2を押出し工法により下り勾配で架設する際に、主桁2を押出方向へ押し出す水平押出部5と、この水平押出部5における押出速度が複数段階に亘って減速するようにこれを制御するための油圧ポンプ10、インバータ11、操作盤12とを備える。例文帳に追加
The incremental launching construction apparatus comprises: a horizontal launching section 5 for horizontally launching the main girder 2 in a launching direction; and a hydraulic pump 10; an inverter 11 and a console panel 12 for controlling the horizontal launching section 5 so as to decelerate its launching speed in a plurality of stages. - 特許庁
鉄道、道路、上下水道、電気、病院、学校、工場などのインフラの整備を行い、近代教育制度や近代医療制度の整備を進め、朝鮮半島の近代化に役立ったと主張する研究者もいる。例文帳に追加
Some researchers insist that it helped the Korean Peninsula modernized by improving infrastructure such as railways, roads, water and sewerage, electricity, hospitals, schools and factories, and establishing the modern educational system and modern medical system.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
被印刷体上に着ける湿し水量の調量を主として印刷速度に応じて選択する、印刷時の湿し水量を制御する方法について、湿し不足と湿し過剰を、全工程についての、インキと水とのバランスを考慮して調整する方法を提供する。例文帳に追加
To adjust insufficient damping and excessive damping in consideration of the balance of ink and water over the whole process in a method for controlling the quantity of damping water at the time of printing, mainly selecting the control quantity of damping water applied to an object to be printed corresponding to a printing speed. - 特許庁
本発明は、水熱反応という煩雑な工程を経ることなく、資源的な制約が少なくかつ安価な原料を使用して、リチウムフェライト系酸化物正極材料を簡便に製造する方法を提供することを主な目的とする。例文帳に追加
To provide a method for easily producing a lithium ferrite-based oxide positive electrode material by using inexpensive raw materials having little restriction on resources, without going through an intricate step of hydrothermal reaction. - 特許庁
半導体基板ウェハ主面での異物や不純物の凝集を抑制し、排水処理も容易な半導体基板ウェハの洗浄及び乾燥工程におけるウェット処理技術を提供する。例文帳に追加
To provide a wet processing technique in the cleaning and drying process of a semiconductor substrate wafer easy of drain disposal, by suppressing the cohesion of foreign matter or impurities on the main surface of a semiconductor substrate wafer. - 特許庁
この資材を用いて、木材から産出する直径15mm以下の木粒主材と砂と白色セメントと水を配合して、3cm以上の厚さに施工することによって、雑草抑制部を実現する。例文帳に追加
The weed control part is actualized by mixing the granulated wood main material having ≤15 mm diameter produced from lumber with sand, white cement and water and applying the mixture in ≥3 cm thickness to an arbitrary position. - 特許庁
水酸化カリウムを主成分とするパームアッシュカリに過リン酸石灰、重過リン酸石灰、加工リン酸肥料、リン酸苦土肥料などリン酸質肥料を化学反応させ、リン酸二水素カリウムを生成して成る潮解性を抑制したパームアッシュカリ肥料を提供する。例文帳に追加
To provide a palm ash potassium fertilizer having suppressed deliquescency and produced by allowing palm ash potassium consisting essentially of potassium hydroxide to chemically react with a phosphate fertilizer such as double superphosphate of lime, processed phosphate fertilizer or phosphate magnesium fertilizer to form potassium dihydrogen phosphate. - 特許庁
アクリル酸アンモニウムを主成分とする単量体水溶液の重合工程と、得られた含水ゲル状重合体の乾燥工程とを含む、ポリアクリル酸アンモニウム塩系吸水性樹脂の製造方法であって、上記単量体水溶液の単量体濃度が50〜80重量%であり、かつ、得られる吸水性樹脂の含水率が4〜25重量%となるように制御されることを特徴とする、ポリアクリル酸アンモニウム塩系吸水性樹脂の製造方法。例文帳に追加
The manufacturing method of a polyacrylic acid ammonium salt-based water-absorbing resin comprises a polymerization step of a monomer aqueous solution having ammonium acrylate as a main component, and a drying step of a hydrous gelatinous polymer obtained, wherein the monomer concentration of the monomer aqueous solution is controlled to be 50 to 80 wt.%, and the moisture content of the water-absorbing resin is controlled to be 4 to 25 wt.%. - 特許庁
特に加工食品にあっては、「輸入加工食品の自主管理に関する指針(ガイドライン)」に基づき、輸入者に対し、輸出国の食品衛生関連規制の整備及び施行の状況や製造者の衛生管理の水準等を勘案して、輸出国での原材料、製造・加工、保管及び輸送の各段階において必要な確認を行うよう指導する。例文帳に追加
Especially for processed food, importers will be instructed to conduct necessary confirmation in the exporting countries at the stages of acquiring raw materials, production and processing, storing, and transportation based on the “Guidelines on Hygiene Control of Import Processed Foods” and taking consideration of the circumstances of development and implementation of restrictions regarding food hygiene and hygiene control standards for manufacturers in exporting countries. - 厚生労働省
静電荷像現像用トナーの製造工程から発生する、金属イオンと配位結合を形成する有機化合物およびエステル結合を分子の主鎖中に有する重合体のうち少なくとも1つを含む水を処理対象とし、処理水の着色を抑制する水処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a water treating device capable of suppressing the coloring of treated water when using water containing at least one of an organic compound which is produced from a manufacturing process of an electrostatic charge image developing toner and forms a coordinate bond with a metal ion and a polymer having an ester bond in a main chain of a molecule as an object to be treated. - 特許庁
アルミニウムを主成分とする金属材料を誘電率が水よりも小さくかつ水を溶解する非水溶媒を含むpH4〜10の化成液中で陽極酸化して金属材料の表面に無孔性非晶質膜アルミニウム酸化物不動態膜を形成する金属部材の製造方法であって、化成液の粘度を制御する工程を有することを特徴とする金属部材の製造方法。例文帳に追加
In the method of manufacturing a metal member, a metal material containing aluminum as a main component is anodized in an anodization solution having a pH of 4 to 10 and containing a nonaqueous solvent having a dielectric constant smaller than that of water and capable of dissolving water, thereby forming a nonporous amorphous aluminum oxide passivation film on a surface of the metal member. - 特許庁
特に加工食品にあっては、「輸入加工食品の自主管理に関する指針(ガイドライン)(平成 20 年6月5日付け食安発第 0605001 号)」に基づき、輸入者に対し、輸出国の食品安全関連規制の整備及び施行の状況や製造者の安全管理の水準等を勘案して、輸出国での生産等の段階において必要な確認を行うよう指導する。例文帳に追加
Especially for processed food, importers will be instructed to conduct necessary confirmation in the exporting countries at the stages of the production process based on the “Guidelines on Hygiene Control of Import Processed Foods (Notice No. 0605001 of the Department of Food Safety dated June 5, 2008)” and taking consideration of the circumstances of development and implementation of restrictions regarding food safety and safety control standards for manufacturers in exporting countries. - 厚生労働省
このような構成により、III−V族化合物半導体層21を主面両側で囲んでいる下部n型半導体層19および上部n型半導体層23は、半導体デバイスの種々の製造工程において水素がIII−V族化合物半導体層21に混入することを抑制するためのいわゆる保護膜として作用することができる。例文帳に追加
With such a structure, the lower n-type semiconductor layer 19 and the upper n-type semiconductor layer 23, which surround the group III-V compound semiconductor layer 21 on both sides of the main surface, can act as a so-called protective film to suppress hydrogen from mixing into the group III-V compound semiconductor layer 21 in various kinds of manufacturing process of a semiconductor device. - 特許庁
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