乾式プロセスの英語

乾式静電荷像現像用トナー、該トナーを用いた現像剤、該現像剤を用いる画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ例文帳に追加

TONER FOR DRY STATIC CHARGE DEVELOPMENT, DEVELOPER USING THE SAME, IMAGE FORMING METHOD USING THE DEVELOPER, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE - 特許庁

高選択比で、高処理能力を有したプラズマストリッピング処理方法および乾式アッシングプロセスを提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma stripping method, having a high selective ratio and a high processing capacity and a dry ashing process. - 特許庁

鉛製錬の乾式プロセスから発生する脱Ｃuドロスや脱Ｓbドロスなどの、Ｃu_3Ｓb含有物質を低コストで処理する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating a Cu_3Sb-containing substance such as Cu-removed dross and Sb-removed dross generated in a dry process such as lead smelting. - 特許庁

従来のダイレクト刷版の作製では、複雑な湿式プロセスが必要であるか、または簡便に乾式プロセスで作製したものは印刷に供した場合の使用寿命が短く、印刷品質が劣る。例文帳に追加

To solve such an issue that a complicated wet process is required when a conventional direct printing plate is manufactured or the conventional direct printing plate manufactured by a simple dry process is short-lived for use when it is used for printing and shows a poor print quality. - 特許庁

従来のダイレクト刷版の作製では、複雑な湿式プロセスが必要であるか、または簡便に乾式プロセスで作製したものは印刷に供した場合の使用寿命が短く、印刷品質が劣る。例文帳に追加

To solve problems such that a complex wet process is necessary in conventional direct production of a printing plate, or a printing plate pro duced by a simple dry process has a short service life and is low in printing quality. - 特許庁

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。例文帳に追加

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material. - 特許庁

環境安定性や帯電特性に優れ、高画質な画像を長期にわたって安定して実現し、且つ、電子写真プロセスに高度に適用を可能とする乾式トナーを提供する。例文帳に追加

To provide a dry toner excellent in environmental stability and electrostatic charge characteristics, stably giving images of high image quality over a long period of time and highly applicable to an electrophotographic process. - 特許庁

負極２１は、成膜用基体２１Ａの上に、Ｌｉを析出させるための析出基板２１Ｂと、乾式成膜プロセスにより形成されたＬｉイオン伝導性を有する無機化合物層２１Ｃとが積層された構成を有している。例文帳に追加

The negative electrode 21 has a structure where a deposition substrate 21B for depositing Li and an inorganic compound layer 21C having Li ion conductivity formed by a dry film forming process are laminated on a substrate 21A for film forming. - 特許庁