二測投影の英語

リソグラフィ装置は、放射線システム、および放射線ビームをパターン化するパターニングデバイスを支持する第一支持体基板を支持する第二支持体、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システム、および投影システムの下に延在するガスの細長いボリューム内で、軸線に沿って延在する干渉計測定ビームを提供する干渉計測定システムを含む。例文帳に追加

This lithography equipment comprises a radiation system, a second support for supporting a first support substrate supporting a patterning device for patterning a radiation beam, a projection system for projecting the patterned beam on the target of the substrate, and an interferometric measurement system for providing an interferometric measurement beam extending along an axis in an elongated volume of gas extending under the projection system. - 特許庁

投影データ補正手段１６は、Ｘ線照射・計測条件記録手段１５に記録されているＸ線照射・計測条件を示すパラメータを基に投影データの補正処理を行ない、Ｘ線管電流，Ｘ線照射パルス幅及び二次元Ｘ線検出器６の検出感度に比例する計測データのゲイン変化を補正する。例文帳に追加

The correcting means 16 executes the correcting processing of projection data based on a parameter showing the X-ray irradiation and measurement conditions recorded in the recording means 15 and corrects the gain variation of measurement data proportional to the X-ray tube current, an X-ray irradiation pulse width and the detected sensitivity of the detector 6. - 特許庁

この光電子は対物レンズ８と、内円筒３内の中間レンズ９と、投影レンズ１０とにより拡大され二次元検出器１１に結像され、試料１２の表面観測がなされる。例文帳に追加

The photo electron is enlarged by an objective lens 8, a middle lens 9 in an internal cylinder 3, and a projection lens 10 for forming an image in a two-dimensional detector 11, and the surface of the sample 12 is observed. - 特許庁

再構成の際、放射線ビームの第二の領域を用いて収集された減弱測定値を利用して、コリメーションによって遮断されたＲＯＩの外部の物体部分からの投影データを推定する。例文帳に追加

In recomposing, projection data from the object part outside of the ROI shut out by collimation is estimated using the attenuated measured value collected using the second region of the radiation beams. - 特許庁

最終レンズの第二の物体側の露光領域が投影光学系の光軸を含まない液浸露光装置において、最終レンズの偏芯測定を容易化しつつ、液体制御を容易化して、高品位な露光を実現可能にする。例文帳に追加

To achieve high quality exposure by facilitating liquid control while facilitating the eccentricity measurement of a final lens in an immersion exposure apparatus in which an exposure region on a second object side of the final lens does not include the optical axis of a projection optical system. - 特許庁

測定物Ｄを載置するための、回転軸を任意の位置に設定できるユーセントリックテーブルＴと、Ｘ線源Ａとそれに対向配置されてユーセントリックテーブル上の測定物の投影像を検出する二次元検出器Ｂとを備える。例文帳に追加

This CT is equipped with a eucentric table T for placing the measuring object D thereon and allowing its axis of rotation to be set at an arbitrary position, an X-ray source A, and a two-dimensional detector B disposed opposite thereto to detect a projected image of the measuring object on the table. - 特許庁

パース図描画手段１６は位置測定手段１４からの自端末の位置情報によって建築物三次元データベース１５を検索して得た自端末の現在位置周辺の建築物の形状やカメラ１１からの焦点距離情報によって求めた視野角の範囲で俯瞰した風景を二次元に投影したパース図を描画する。例文帳に追加

A perspective projection rendering means 16 renders a perspective projection on which the shape of a building on the periphery of the current location of own terminal, acquired by searching a building three-dimensional database 15 based on the positional information on the own terminal from a position measurement means 14, and a landscape overlooked in the range of a view angle sought by focal distance information from the camera 11. - 特許庁