位置合わせマークの英語

パターン露光用位置合わせマーク及び位置合わせ方法及び露光装置例文帳に追加

MARK AND METHOD FOR ALIGNMENT FOR PATTERN EXPOSURE, AND ALIGNER - 特許庁

位置合わせ用マーク及びこれを用いた位置合わせ方法、素子の転写方法例文帳に追加

POSITIONING MARK AND POSITIONING METHOD USING THE SAME, TRANSFER METHOD OF ELEMENT - 特許庁

位置合わせマーク、電子基板、半導体装置及び位置合わせマークの形成方法例文帳に追加

ALIGNMENT MARK, ELECTRONIC BOARD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF FORMING ALIGNMENT MARK - 特許庁

第一基板側位置合わせマークと、第二基板側位置合わせマークとは視覚的に異なる形態である。例文帳に追加

The first substrate side alignment marks and the second substrate side alignment marks are different in visual form. - 特許庁

マーク位置検出装置、マーク位置検出方法、重ね合わせ測定装置、および、重ね合わせ測定方法例文帳に追加

MARK LOCATION DETECTING APPARATUS, MARK LOCATION DETECTING METHOD, SUPERIMPOSITION MEASURING APPARATUS, AND SUPERIMPOSITION MEASURING METHOD - 特許庁

マーク位置検出装置、マーク位置検出方法、重ね合わせ測定装置、および、重ね合わせ測定方法例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING MARK POSITION AND SUPERPOSITION - 特許庁

複合位置合わせマークは、輪郭により第１の位置合わせ機能に対し位置合わせマークの役割を果たし、輪郭内の構造により第２の位置合わせ機能に対し位置合わせマークの機能を果たす。例文帳に追加

The plurality of the alignment marks perform a role of the alignment mark as an first aligning function with the contour, and perform a function of the alignment mark as a second aligning function with the structure in the contour. - 特許庁

フォトマスクの位置合わせマークの形成方法例文帳に追加

FORMATION METHOD OF POSITIONING MARK FOR PHOTOMASK - 特許庁