加熱真空蒸発器の英語

圧縮機２、凝縮器３、乾燥器４、毛細管５、蒸発器６を連結して閉回路を形成してなる冷凍サイクル１の前記圧縮機２を外側から熱風で加熱しながら、前記圧縮機２の低圧側に接続された排気用パイプ７から前記閉回路を真空排気する。例文帳に追加

The closed circuit of a refrigerating cycle 1, formed of the closed circuit connecting a compressor 2, a condenser 3, a dryer 4, a capillary tube 5 and an evaporator 6, is evacuated through an air discharging pipe 7, connected to the low-pressure side of the compressor 2 while heating the compressor 2 by hot air from the outside of the same. - 特許庁

香り発生器４は、本体容器１３内の空気が真空引き手段２０により外部へ吸引排出された後、本体容器１３内へ供給される香り液体を、加熱手段２３により溶媒も含めて全量蒸発させて、香り気体として貯留する。例文帳に追加

The flavor generator 4 evaporates the total amount of flavor liquid to be supplied to the main body container 13, including a solvent by the heating means 23 after air in the main body container 13 is sucked and discharged to the outside by the vacuum drawing means 20, and stores as flavoring vapor. - 特許庁

真空容器内で、フッ化マグネシウム(MgF_2)等の金属フッ化物を加熱蒸発させるとともに、四フッ化炭素（CF_4）等のフッ素系ガスを導入し、プラズマ重合を用いた複合式イオンプレーティング法により基材の表面にフッ素系重合膜を形成する。例文帳に追加

In a vacuum vessel, metal fluoride such as magnesium fluoride (MgF_2) is heated and evaporated, further, fluorine-based gas such as carbon tetrafluoride (CF_4) is introduced therein, and a fluorine-based polymerized coating is formed on the surface of a base material by a composite ion plating process using plasma polymerization. - 特許庁

真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により蒸着物質を蒸発源により加熱するに際し、前記蒸着物質を収容する窪み（キャビティー）部からの前記蒸着物質の漏洩現象を抑制し、安定良く蒸着させること、且つ寿命の低下が防止できることが可能となる蒸着源容器を提供する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition source container capable of realizing consistent vapor deposition, and preventing degradation of the lifetime by suppressing a leaking phenomenon of a vapor deposition substance from a recessed part (a cavity) to store the vapor deposition substance when heating the vapor deposition substance by a vapor deposition source in a resistance heating vapor deposition method in a vacuum vapor deposition apparatus. - 特許庁

汚染物質ａより蒸発したポリ塩化ビフェニル蒸気を、前記真空加熱炉１の後段に設けた除塵器５を経て該除塵器５の後段に設けたオイルシャワー塔６に導入し、該オイルシャワー塔６内にて凝縮回収する一方、前記汚染物質ａより飛散した汚染物質の微粒子ａ”を前記除塵器によって捕集する。例文帳に追加

While polychlorinated biphenyl steam evaporated from the contaminant (a) is introduced through a dust removing device 5 provided in the post stage of the vacuum heating furnace 1 to an oil shower column 6 provided in the post stage of the dust removing device 5 and is condensed and recovered inside the oil shower column 6, the particles a" of the contaminant scattering from the contaminant (a) are collected by the dust removing device. - 特許庁

内部に対向するようにターゲット１２と基材１３とが配置された成膜装置１００の真空チャンバ１内にレーザ光分配装置１６を設けることにより、レーザ光発生器３から出射されたレーザ光２０を基材１３を加熱するためのレーザ光２０ａとターゲット１２を蒸発させるためのレーザ光２０ｂとに分配するものである。例文帳に追加

By providing a laser beam distributor 16 in a vacuum chamber 1 of a film deposition apparatus 100 with a target 12 and the base material 13 facing each other and disposed therein, the laser beam 20 emitted from a laser beam generator 3 is distributed to the laser beam 20a to heat the base material 13 and the laser beam 20b to evaporate the target 12. - 特許庁

アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。例文帳に追加

The thin film is formed by heating the vapor deposition material storage container at the temperature above the temperature at which the vapor deposition material is evaporated, applying the positive electric potential to the vapor deposition material storage container, and emitting the electrons emitted from the plasma gun to the vapor deposition material. - 特許庁