助走域の英語

２回目のスキャン時には、寝台天板を１回目の撮影領域の終了位置から助走範囲分だけ１回目の撮影領域側に戻す。例文帳に追加

At a second scan, the bed top board is returned to a first imaging region side from the completion position of the first imaging region by the runup range. - 特許庁

かかるＤＣフリーパターンは、直流成分の重畳と、ユーザデータ領域に入る前の記録レーザビームの助走期間を兼ねる。例文帳に追加

Such DC free pattern represents both of the superposition of the DC component and the run-up period of recording laser beams at the time before entering to the user's data area. - 特許庁

高圧電極１１，１２と接地電極２１により助走用プラズマ通路部５１ａ，５１ｂを形成し、高圧電極１１，１２とステージ状接地電極２２により選択領域用プラズマ通路部５２ａ，５２ｂを形成する。例文帳に追加

Plasma paths 51a and 51b for development are formed of high voltage electrodes 11 and 12 and a grounded electrode 21, and plasma paths 52a and 52b for a selected area are formed of the high voltage electrodes 11 and 12 and a grounded electrode 22. - 特許庁

このノズルには、横幅よりも広く縦方向へ延びる帯状領域へ噴射するように、縦幅が横幅よりも広く、かつ奥行幅を有する噴射助走部２７が形成される。例文帳に追加

An injection approach 27 with the height made larger than the width and having a depth is formed in the nozzle to inject the contents into a strip-shaped region with the length larger than the width. - 特許庁

助走用プラズマ通路部が、プロセスガスの流れ方向の処理プロファイルが所定の範囲になるまでの路長を有し、前記選択領域用プラズマ通路部が、前記所定部分（選択領域）に対応する路長を有するように、電極１１，２１，１２を寸法設定する。例文帳に追加

The dimensions of the electrodes 11, 21 and 12 are set so that the plasma paths for development may have a path length until a processing profile in the flowing direction of the process gas becomes a prescribed range, and so that the plasma paths for the selected area may have a path length corresponding to the prescribed part (selected area). - 特許庁

間欠読取動作時における画像読取領域内での加速の衝撃を減らして穏やかな助走とすることで、走査光学系の慣性によるオーバシュート等による画像の乱れを防止し得る画像読取装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image reader which can prevent disturbance of an image caused by overshooting or the like due to the inertia of a scanning optical system by reducing the impact of acceleration to gently run the scanning optical system in an image read area at the time of intermittent read operation. - 特許庁

トリメチルアルミニウムガスが処理室３２内加熱領域に入ってから吹出口５９群および吹出口６９群から吹き出されるまでの助走距離が長く、かつ略等しいので、ボート４０の上部と下部とでトリメチルアルミニウムガスの供給量が均一になり、６００℃でウエハ上に形成されたウエハ面内均一性およびウエハ相互間均一性が高まる。例文帳に追加

Since inlet lengths for which trimethylaluminum gas travels after entry to a heating region in the processing chamber 32 till being jetted from the group of jets 59 and the group of jets 69 are long and are approximately equal to each other, the supply amount of trimethylaluminum gas is uniform above and below the boat 40 to enhance uniformity within a wafer surface formed on a wafer at 600°C and uniformity between wafers. - 特許庁