化学洗浄液の英語

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物と有機酸とを含有することを特徴とする半導体デバイス用基板の洗浄液である。例文帳に追加

The cleaning solution is used after a chemical mechanical polishing process in production of a semiconductor device, and contains a compound represented by a general formula (I) and an organic acid. - 特許庁

次に、化学吸着していない過剰な感光基を有するシラン化合物を洗浄液に溶解させることにより取り除く。例文帳に追加

Then the silane compound having excess photosensitive groups not chemically adsorbed is removed by dissolving it in a detergent. - 特許庁

次いで、化学吸着していない過剰な感光基を有するシラン化合物を洗浄液に溶解させることにより取り除く。例文帳に追加

Then the silane compound having an excess photosensitive group not chemically adsorbed is dissolved in a cleaning liquid to be removed. - 特許庁

フッ素系スケールを物理的手段ではなく、化学的且つ安定的に洗浄液に溶解させておくことができるようにする。例文帳に追加

To remove fluorine-containing scale not by a physical means but by chemical and stable dissolution in a detergent liquid. - 特許庁

化学機械的研磨装置は研磨パッド１４０、ウェーハキャリア２２０、第1リング２７０、第2リング２８０及び洗浄液供給管２８１を含む。例文帳に追加

A chemical-mechanical polishing device comprises a polishing pad 140, a wafer carrier 220, a first ring 270, a second ring 280 and a cleaning liquid feed pipe. - 特許庁

酸性ガスに対し良好な物理溶解性を有し、かつ水溶液の状態で十分な化学溶解性を発揮する洗浄液の提供。例文帳に追加

To prepare a washing liquid that has an excellent physical solubility to an acid gas and exerts a sufficient chemical solubility in an aqueous condition. - 特許庁

そして所望の方向にガスを吹き付け、洗浄液を液切りすることより化学吸着した感光基を有する膜を配向させる。例文帳に追加

Then a gas is blown in a desired direction and the cleaning liquid is dewatered to align the film having a photosensitive group chemically adsorbed. - 特許庁

外筒１３に開口部２７，２８を形成し、洗浄液２５を注入して隙間部２１に収容された化学物質２３を洗い流す。例文帳に追加

Openings 27 and 28 are formed at an outer cylinder 13, and the washing liquid 25 is injected, thus washing away the chemical substance 23 being accommodated in a gap 21. - 特許庁