半加工石英ガラスの英語

半導体用合成石英ガラス基板の加工方法例文帳に追加

METHOD OF PROCESSING SYNTHETIC QUARTZ GLASS SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR - 特許庁

半導体加工用途で使用するための不純物レベル及び欠陥濃度の低い石英ガラスインゴットの提供。例文帳に追加

To provide a quartz glass ingot of ultra low contamination and defect levels for use in semiconductor processing applications. - 特許庁

比較的簡便な方法でサイズ、底面の残し厚さ、平行度等、形状を高精度に安定的に制御され、加工を施す前後の基板全体の形状変化を抑えた、非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用合成石英ガラス基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide in a relatively simple way a synthetic quartz glass substrate for semiconductor having a non-penetration hole, groove or level difference which is controlled in shapes such as a size, remained thickness of bottom surface and parallelism highly accurately and stably, and is reduced a shape change of a whole substrate before and after processing. - 特許庁

バルク表層部において、高濃度の水酸基を均質かつ安定に含有し、バルク内部からの金属不純物の拡散移行を抑制することができ、かつ、耐熱性、加工性にも優れており、ウエハボートや炉芯管等の半導体熱処理用治具に好適に用いることができる石英ガラス部材およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a quarts glass member stably containing high concentration hydroxy groups in a surface layer part of its bulk, capable of suppressing diffusive migration of metallic impurities from inside of the bulk, excellent in thermal resistance and processability, and preferably usable for a jig for heat treatment of a semiconductor such as a wafer boat or furnace core tube, and a method for producing the member. - 特許庁