半平均法の英語

三分損益法によって1オクターブ間に平均律でない半音の間隔で配された12の音である。例文帳に追加

These are the twelve tones arranged at intervals of semitone, which is not a temperament, within an octave, using the principle of the sanfen sunyi.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

窒素吸着法により得られる、細孔径分布における細孔容積の半値幅は、好ましくは平均細孔径の１／２以下である。例文帳に追加

The half value width of the pore volume in the pore diameter distribution obtained by the nitrogen adsorption method is preferably equal to or less than a half of the average pore diameter. - 特許庁

曲率半径１μｍ以下の点を有する物体Ａが、平均粒径１μｍ以下の粒子である、前記接着方法。例文帳に追加

The object A having the point of 1 μm or less in radius of curvature is a particle of 1 μm or less in average particle size. - 特許庁

このような方法で得られたチタン酸バリウム系半導体磁器は、平均磁器粒径が０．９μｍ以下となる。例文帳に追加

The barium titanate powder has a particle diameter of ≤0.1μm, a crystal structure of a cubic system and a lattice constant of ≥4.020 Å, wherein a very small amount of semiconducting material is solid-soluble. - 特許庁

順方向電圧降下の平均値を低減し、整流素子の低損失化を実現する半導体装置とその駆動方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which realizes low loss of a rectifying element by reducing the average value of forward voltage drop, and to provide a driving method therefor. - 特許庁

また、その製造方法を平均粒子径１０〜４０μｍのα半水石膏粉末に平均粒子径０．０１〜１μｍの酸化亜鉛粉末を０．０１〜０．４重量％加え粉砕し、α半水石膏の平均粒子径を３〜５μｍ小さくすることを特徴とする歯科用石膏粉末の製造方法とする。例文帳に追加

In a method of manufacturing the dental plaster powder, 0.01 to 0.4 wt.% of zinc oxide powder having an average particle size of 0.01-1 μm is added to α hemihydrate plaster powder having an average particle size of 5-37 μm and the resultant mixture is crushed, thereby reducing the average particle size of the α hemihydrate plaster powder by 3-5 μm. - 特許庁

スカート壁（１０）の外周面に配設されているナール（１８）の軸線方向下部（１８Ｂ）における突条部（１７）と非突条部（１９）との平均半径方向段差寸法を、ナールの軸線方向上部（１８Ａ）における突条部と非突条部との平均半径方向段差寸法よりも小さく設定する。例文帳に追加

The dimension of the average radial step difference between the projecting portions (17) and non-projecting portions (19) of the axial lower part (18B) of the knurl (18) disposed on the periphery of the skirt wall (10) is set smaller than that of the average radial step difference between the projecting portions and non-projecting portions of the axial upper part (18A) of the knurl. - 特許庁

表面抵抗が１〜１０００Ω／□のフィルム表面を連続的に複数回電解めっきする工程を含むめっき処理方法であって、前半部の平均めっき処理時間を後半部の平均めっき処理時間より短くする。例文帳に追加

In the plating treatment method including a process where a film surface having the surface resistance of 1 to 1,000 Ω/SQUARE is continuously subjected to electroplating for a plurality of times, the average plating treatment time in the first half part is made shorter than the average plating treatment time in the second half part. - 特許庁