周波数偏差算出部３８は、不揮発性メモリに記憶された原点用基準周波数３６を用いて、位相シフト回路３４から入力された周波数と原点用基準周波数３６との間の周波数偏差を算出し、変位出力部４０に入力し、変位出力部４０は予め求めておいた相関関係に基づき周波数偏差を変位量に変換する。例文帳に追加

The frequency deviation calculation part 38 calculates a frequency deviation between a frequency input from the phase shift circuit 34 and a reference frequency 36 for the origin by using the reference frequency 36 for the origin stored in a nonvolatile memory, and inputs it into a displacement output part 40, and the displacement output part 40 converts the frequency deviation into a displacement based on a correlation determined beforehand. - 特許庁

原点値対S(０)、X(０)と加工完了点対S(Ｎ)、X(Ｎ)から、砥石磨耗と機械の熱変形と弾性変形を含んだ補正量Δ(Ｎ)を求め、補正量Δ(Ｎ)分だけ加工パターンPP_stdをテーブル１１側にシフトする。例文帳に追加

A correction quantity Δ(N) including the wear of the grinding wheel and the thermal deformation and elastic deformation of a machine is found from the original point value pair S(0), X(0) and the machining completion point pair S(N), X(N), and a machining pattern PP_std is shifted onto the table 11 side by the correction quantity Δ(N) portion. - 特許庁

そして、このマスクの光学像を取得し、遮光膜マスク部１０ｂのフォーカスの中心を原点としたときの、ハーフトーン膜マスク部１０ａのフォーカスの中心からのベストフォーカス位置のシフト量を導出して、実パターンでの位相差の評価を行う。例文帳に追加

The optical image of the mask is acquired and the shift quantity of the best focus position from the center of the focus of the halftone mask part 10a when the center of the focus of the light shielding pattern parts 10b as an origin is derived and the evaluation of the phase difference in the real pattern is executed. - 特許庁