周縁分布の英語

熱処理時における基板上の温度分布の面内均一性、特に基板周縁部の温度分布均一性を向上させることができる熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment apparatus capable of improving the in-plane uniformity of the temperature distribution on a substrate at heat treatment, in particular, and improving the uniformity of the temperature distribution in a periphery of the substrate. - 特許庁

塗布液膜の周縁部の上方を覆うようなカバーを設けて、塗布液膜の周縁部において局所的に溶媒蒸気が滞留する空間を作り、この空間の大きさを乾燥中に制御させることによって、塗布液膜周縁部での蒸発速度を調節し、塗布液膜内の濃度分布を均一にすることで周縁部の膜厚不均一を抑制する。例文帳に追加

A cover which covers above the peripheral part of the coating liquid film is provided to form a space where solvent vapor locally stays in the peripheral part of the coating liquid film; the evaporation rate in the coating liquid film peripheral part is adjusted by controlling a size of the space during drying; and the film thickness ununiformity of the peripheral part is controlled by evening up the concentration distribution in the coating liquid film. - 特許庁

被加熱体３を電磁誘導加熱する渦巻き形の加熱コイル４と、加熱コイル４の内周縁および外周縁のうち少なくとも内周縁の側に内周立設部５ａを有し、かつ加熱コイル４の下方を覆った磁性体５を備え、加熱コイル４の内周縁と磁性体の内側立設部５ａとの間には、温度分布改善用の間隔Ａを設けたものである。例文帳に追加

An induction heating apparatus is provided with a spiral heater coil 4 for heating a heated body 3 by electromagnetic induction, an inside standing part 5a on the side of at least inside edge among the inside edge and an outside edge of the heating coil 4 and magnetic substance 5 covering the lower part of the heating coil 4. - 特許庁

制御装置は、照射光が照射される単位波面分割面における照射領域の中央部分の照度分布がほぼ均一になり、周縁部分の照度分布が照射領域のエッジに向かって徐々に小さくなるように制御する。例文帳に追加

The control unit performs control so that the illuminance distribution is substantially uniform at a center part of an irradiation region on a unit wavefront division surface and gradually decreases toward an edge of the irradiation region at a peripheral edge part. - 特許庁

ＰＭＭＡなどの透明な樹脂に、屈折率を制御するための屈折率制御物質を、その径方向における周縁部分よりも中心部分で濃度が高くなるように分布させてなる屈折率分布型のロッドレンズであって、屈折率制御物質として、ジアリールオキサゾールを用いる。例文帳に追加

The graded index rod lens is made by distributing a refractive index control substance for controlling the refractive index in a transparent resin such as PMMA such that the concentration of the refractive index control substance becomes higher on the center part than on the peripheral part in the radial direction, wherein diallyl oxazol is used as the refractive index control substance. - 特許庁

加工量分布の均一性が予め設定された許容値から外れた場合には、予め実験的に求めておいたピストンによる加圧力とウエーハの周縁部での加工量との関係に基づいて加圧力を変更し、加工量分布の均一性を許容範囲内に戻す。例文帳に追加

In the case that uniformity of the working amount distribution deviates from a previously set allowable value, applied pressure is changed on the basis of a relation between the pressure applied by the piston and the working amount in the peripheral part of the wafer which is previously obtained experimentally, and uniformity of the working amount distribution is returned to an allowable range. - 特許庁

その結果、相対的に温度の低下した半導体ウェハーＷの周縁部の全体が均一に加熱されることとなり、半導体ウェハーＷの面内温度分布を均一にすることができる。例文帳に追加

Consequently, the whole peripheral part of the semiconductor wafer W whose temperature dropped relatively is heated up uniformly, thereby uniformizing the in-plane temperature of the semiconductor wafer W. - 特許庁

ピストン１１の後方に配置された電歪素子１２を制御してピストン１１の突き出し量を調整することにより、周縁部におけるウエーハ１と研磨布との間の接触圧力分布の調整を行う。例文帳に追加

The distribution of contact pressure between the wafer 1 in the peripheral fringe part and an abrasive cloth is adjusted by controlling an electrostrictive element 12 arranged behind the piston 11 to adjust a protrusion amount of the piston 11. - 特許庁