基板水平回転機構の英語

その結果、基板を水平方向に移動する機構の上に基板を回転させる機構を設ける従来の装置に比べて、膜厚測定装置の基板の位置検出に係る構造の大型化を抑制することができるとともに高速かつ高精度な基板９の位置検出を実現することができる。例文帳に追加

As the result, an increase in the size of the structure of the film thickness measuring equipment relating to position detection of the substrate can be held down, compared with conventional equipment wherein the mechanism for rotating the substrate is provided on a mechanism for moving the substrate in the horizontal direction, and also the high-speed and high-accuracy position detection of the substrate 9 can be realized. - 特許庁

処理すべき基板１０を水平に支持して回転させる回転機構２０の周囲に、外カップ４０、中カップ５０及び内カップ６０を同心円状に組み合わせて配置する。例文帳に追加

Outer, intermediate, and inner cups 40, 50, 60 are combined concentrically for arrangement at the periphery of a rotating mechanism 20 rotated by supporting a substrate 10 to be treated horizontally. - 特許庁

基板処理装置１は、スプレノズル２０と、スプレノズル２０を支持部材１２に対して高さ方向及び水平方向に相対移動させるノズル移動機構２１と、基材Ｗを回転させる回転駆動部１４とを備える。例文帳に追加

A substrate processing apparatus 1 comprises a spray nozzle 20, a nozzle movement mechanism 21 relatively moving the spray nozzle 20 with respect to a support member 12 in a height direction and a horizontal direction, and a revolution drive part 14 rotating a wafer W. - 特許庁

また、ＲＦプローブ２１０に接続された回転機構２２０により、設置されたパッケージ基板２００に対して水平および垂直に配置される位相校正用基板２４０にプローブ２１０を接触させる。例文帳に追加

The RF probe 210 is directly brought into contact with a substrate 240 for phase calibration arranged horizontally and perpendicularly to the installed package substrate 200 by a rotating mechanism 220 connected to the RF probe 210. - 特許庁

感光ドラム４１の下方には、下面から支持されるガラス基板９を感光ドラム４１の回転軸Ｊ１に垂直な水平方向に移動する基板移動機構２が設けられる。例文帳に追加

A substrate moving mechanism 2 to move a glass substrate 9 supported from the under surface thereof in a horizontal direction perpendicular to a rotating shaft J1 of the photosensitive drum 41 is disposed under the photosensitive drum 41. - 特許庁

基板ホルダを、大掛かりな回転機構を用いることなく、水平状態から垂直状態、または垂直状態から水平状態に姿勢を変換することができるめっき装置、めっき処理方法及びめっき装置用基板ホルダの姿勢変換方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plating apparatus in which the posture of a substrate holder can be changed from a horizontal state to a vertical state or from a vertical state to a horizontal state without using any large-scale complicated rotating mechanism, to provide a plating method, and to provide a method for changing the posture of a substrate holder for a plating apparatus. - 特許庁

２つの垂直・水平移動機構１００は、基板保持器具１８が連結部材３２に保持された状態で、回転台９の基板保持器具設置孔１３および反応管５の開口部６を介して、基板保持器具１８を反応管５内に挿入する。例文帳に追加

The two perpendicular/horizontal transport mechanisms 100 insert the substrate-holding tool 18 into a reaction pipe 5, through a hole 13 for installing a substrate-holding tool in a rotating carriage 9 and an opening 6 of the reaction pipe 5, in a state of making the jointing member 32 hold the substrate-holding tool 18. - 特許庁

本発明の研磨装置は、基板Ｗのノッチ部を研磨する研磨装置において、基板Ｗを水平に保持し、回転させる回転保持機構３と、研磨テープを用いて基板Ｗを研磨する複数の研磨ヘッドモジュール７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ，７０Ｄと、複数の研磨ヘッドモジュールを互いに独立して移動させる移動機構とを備える。例文帳に追加

This polishing device for polishing a notch part of a substrate W comprises: a rotation holding mechanism 3 for holding the substrate W parallel and rotating it; plural polishing head modules 70A, 70B, 70C, 70D polishing the substrate W using the polishing tape; and a movement mechanism for moving the plural polishing head modules independently. - 特許庁