定常プラズマの英語

高周波電源２４は、イオン発生管２１においてプラズマの非定常状態を繰り返し発生するように、プラズマ発生用アンテナ２２に、高周波電力をパルス制御して供給する。例文帳に追加

The high frequency power supply 24 supplies high frequency power by pulse controlling to the plasma generating antenna 22 so that non-steady-state plasma may be generated repeatedly in the ion generating tube 21. - 特許庁

本発明による定常プラズマ生成装置は、放電管１０と、アンテナ部２０と、電流型インバータ回路３０とから主に構成される。例文帳に追加

A stationary plasma generation device principally comprises a discharge tube 10, an antenna part 20, and a current type inverter circuit 30. - 特許庁

次に、処理ガス流および分配が通常処理チャンバで定常状態を達成するまで、処理ガスはプラズマ励起なしに処理チャンバに流し込まれる（２２６）。例文帳に追加

Then, the process gas is continued to flow into the process chamber without plasma excitation until the flow or the distribution of the process gas reaches a steady state in the regular process chamber (226). - 特許庁

前記陰極の易電子放射性材料を含有させた材料からなる先端部の全てを、定常点灯時に電極間に生じるプラズマの領域内に位置させるようにしたことを特徴とする。例文帳に追加

The short arc type discharge lamp is characterized in that the tip part made of the material containing the electron easily-emissive material of the cathode is all positioned in a region of plasma generated between the electrodes while the lamp is steadily on. - 特許庁

このため、パルス電圧又は定常直流電圧をさほど高くしなくても、被処理物３に十分なプラズマ処理ないしはコロナ放電処理を施すことができる高圧・高頻度の放電電圧を得ることができる。例文帳に追加

Therefore, high voltage, high frequency discharge voltage capable of conducting a sufficient plasma treatment or a corona discharge treatment to a treating material 3 can be obtained without increasing so much pulse voltage or steady DC voltage. - 特許庁

パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。例文帳に追加

A magnetically shielded, efficient plasma generation configuration for a pulsed discharge extreme ultraviolet (EUV) source includes two opposed convex electrodes 10 and 20 mounted on axes parallel to a static magnetic field. - 特許庁

反応容器内の母線方向のガス流を安定化することにより、膜厚および膜質が均一な堆積膜を定常的に形成し、量産化を行う上でその歩留まりを飛躍的に向上させたプラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a deposition film by plasma-CVD process, which steadily forms a deposition film of uniform thickness and quality and drastically improves a yield in the mass production, by stabilizing a gas flow in a generatrix direction in a reaction vessel, and to provide an apparatus therefor. - 特許庁

反応容器内に設置された円筒状支持体保持手段の加熱方法を改良することで、画像特性及び電気特性が良好な堆積膜を定常的に形成しうるプラズマＣＶＤ法によるアモルファスシリコン膜の堆積膜形成方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for forming a deposit film of amorphous silicon film by a plasma enhanced CVD method, by which a deposit film excellent in image characteristics and electrical properties can be formed stationarily by improving a method for heating a cylindrical base material holding means which is set in a reactor vessel. - 特許庁