嵩研の英語

クロップシャーの剪断刃の研磨には相当の時間を要し、コストが嵩む。例文帳に追加

To solve a problem that quite a long time is taken and much cost is required for polishing a shearing blade of a crop shear. - 特許庁

扁平に嵩低く折畳むことによって格納や携行に便利であり、しかも、指先の感覚で研磨の状況を感覚的に把握しながら作業を行うことができる研磨材を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive material able to be folded up flatly with low bulk to ensure convenience for accommodation and carrying around and capable of performing the operation while one grasps sensuously the situation of polishing with the sense of finger tip. - 特許庁

研磨用スラリーの原料の気相法無機酸化物粒子の嵩密度を増加して保管や輸送に適し、さらに、粉塵として舞うことのないようにする。例文帳に追加

To make a hydrous solid material suitable for storage or transportation and further prevent the solid material from flying as a dust by increasing the bulk density of inorganic oxide particles synthesized by a vapor-phase method which are a raw material for a slurry for polishing. - 特許庁

歯科技工、彫金、宝飾品加工、手工芸などにおいて研削作業を行った際に生ずる再生可能な金属などの有用物を簡単に回収することができ、しかも不使用時に非常に嵩を低くしておくことができる研削作業用集塵器具を提供する。例文帳に追加

To provide a dust collector for grinding work capable of easily recovering usable materials such as recyclable metals produced when executing the grinding work in dental technical working, chasing, jewelry working, handicraft and the like and capable of greatly being reduced in volume when not used. - 特許庁

研磨剤、吸着剤、抗菌剤、光触媒等の機能を有する機能性粒子を、繊維の風合、吸水性、吸湿性、透湿性、保温性、嵩高性等の特性を損なわず、かつ効率よく固定させた機能性繊維シート状物を得る。例文帳に追加

To obtain a functional fiber sheetlike article having functional particles of an abrassive, an adsorbent, an antibacterial agent, a photocatalyst or the like efficiently fixed thereto without damaging the characteristics such as feeling, water absorbability, hygroscopicity, moisture permeability, heat insulating properties, bulkiness or the like of fibers. - 特許庁

本発明は、研磨用固液回収分離装置に関し、切り屑の含有率を下げるために分散液を廃棄していたために当該分散液の回収率が低下してコストが嵩んでいること、また、一次分離及び二次分離の負荷低減によってコストダウンを図ることが課題であって、それを解決することである。例文帳に追加

To solve a problem that recovery rate of a dispersion liquid is lowered and cost is increased since the dispersion liquid is discarded to lower content rate of a chip and to achieve cost reduction by reducing load of primary separation and secondary separation in a solid liquid recovery separation device for polishing. - 特許庁