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英訳・英語 rare gas atom


JST科学技術用語日英対訳辞書での「希ガス原子」の英訳

希ガス原子


「希ガス原子」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 39



例文

空間的にガス原子を隔てるために、不活性ガスを用いて原子ガス釈されてもよい。例文帳に追加

For spatially separating gas atoms, atomic gas may be diluted with an inert gas. - 特許庁

ヘリウムという,原子番号2のガス元素例文帳に追加

a rarely extractable gaseous element whose atomic number is 2, called helium発音を聞く  - EDR日英対訳辞書

クリプトンという原子番号36のガス元素例文帳に追加

a gaseous element whose atomic number is 36, called krypton発音を聞く  - EDR日英対訳辞書

ガスプラズマは金属膜103を構成する金属原子原子量に最も近い原子量を有するガスを含む。例文帳に追加

The rare gas plasma includes rare gases having an amount of atom closest to that of the metal atom for composing the metal film 103. - 特許庁

原子炉から出るオフガス中のガスを高精度に検出する。例文帳に追加

To accurately detect a rare gas in an off gas being emitted from a reactor. - 特許庁

さらに、希ガス原子が膜中に取り込まれるようにFSG膜のCVDあるいはPVDを続けて、希ガス原子含有層3を形成する。例文帳に追加

Further, the CVD or PVD of the FSG film is continued so that rare gas atoms can be taken into the film and a rare gas atom containing layer 3 is formed. - 特許庁

例文

容器内における少なくとも上記ガス中の被測定原子を含むガス及びガスを所定の圧力にする。例文帳に追加

A current is applied to both electrodes, and noble gas and gas of a predetermined pressure containing measured atoms are made into plasma in the hole 37a to emit light. - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「希ガス原子」の英訳

希ガス原子


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「希ガス原子」の英訳

希ガス原子


Weblio専門用語対訳辞書での「希ガス原子」の英訳

希ガス原子

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「希ガス原子」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 39



例文

次に、希ガス原子含有層3上に形成したレジスト4をマスクに用いて、希ガス原子含有層3及びFSG膜2をこの順にエッチングする。例文帳に追加

Next, the rare gas atom containing layer 3 and the FSG film 2 are etched in this order while using a resist 4, which is formed on the rare gas atom containing layer 3, for a mask. - 特許庁

炭素濃度が99.5原子%以上、水素濃度が0.5原子%以下、ガス元素濃度が0.5原子%以下、ヌープ硬度が2000〜6000であることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the concentration of carbon is controlled to ≥99.5 atomic%, the concentration of hydrogen is controlled to ≤0.5 atomic%, the concentration of rare earth elements is controlled to ≤0.5 atomic%, and the knoop hardness is controlled to 2,000 to 6,000. - 特許庁

ガス釈または電源周波数を上げる等の方法により高電子密度のプラズマを生じさせ、高密度の酸素原子または窒素原子を生じさせることにより高品質の誘電体膜を形成する。例文帳に追加

Plasma of a high electron density is generated by a method such as diluting with a rare gas or raising the frequency of a power supply, and a high-quality dielectric film is formed by generating oxygen atoms or nitrogen atoms in a high density. - 特許庁

又は、表面が研磨された高配向性ダイヤモンド膜に対して、負のバイアス電圧を印加せずに、水素ガス中若しくは水素ガス釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理した後、負のバイアス電圧を印加しながら、水素ガス釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理し、更に、負のバイアス電圧を印加せずに、水素ガス中若しくは水素ガス釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理する。例文帳に追加

Alternatively, the method comprises treating the above untreated diamond film with microwave plasma in a hydrogen gas or the gas containing carbon atoms diluted by hydrogen gas without applying the negative bias voltage, treating the resultant film with microwave plasma in the gas containing carbon atoms diluted by hydrogen gas while applying the negative bias voltage, and further treating with microwave plasma in the above hydrogen or carbon atoms-containing gas without applying the negative bias voltage. - 特許庁

負電荷酸素原子が、ガス、窒素及び乾燥空気から選ばれる少なくとも1種以上の気体によって搬送される。例文帳に追加

The negatively charged oxygen atoms are carried by at least one kind or more gas selected from noble gas, nitrogen and dry air. - 特許庁

炭素を除去したシリコン基板を、ガス雰囲気中において熱処理し、シリコン基板表面のシリコン原子を移動させる。例文帳に追加

The silicon substrate, where carbon is removed is heat-treated in a rare gas atmosphere, thus making silicon atoms move on the silicon substrate surface. - 特許庁

次に、CMP法により、希ガス原子含有層3の上面が露出するまで銅膜7及びバリアメタル6をこの順に研磨除去する。例文帳に追加

Next, the copper film 7 and the barrier metal 6 are ground and removed in this order by a CMP method until the upper surface of the rare gas atom containing layer 3 is exposed. - 特許庁

例文

Kr以上の原子量を有するガスを導入して、導入ガスより重い金属元素を含む金属酸化物ターゲットを用い、LaHfO、LaAlO、ZrAlOのように導入ガスより重いLaまたはHfなどの金属元素を含む金属酸化物絶縁膜をスパッタ成膜する。例文帳に追加

A noble gas having an atomic weight above Kr is introduced, and a metal oxide target containing a metal element which is heavier than the introduced noble gas is used to form, by sputtering, the metal oxide insulating film containing a metal element of La, Hf, etc., heavier than the introduced noble gas like LaHfO, LaAlO, and ZrAlO. - 特許庁

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