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弗化水素処理の英語

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英訳・英語 hydrofluorination


JST科学技術用語日英対訳辞書での「弗化水素処理」の英訳

弗化水素処理


「弗化水素処理」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 20



例文

水素酸を含む素含有排水を処理して、素を、純度97%以上かつ平均粒径5〜100μmの合成蛍石として回収する。例文帳に追加

To recover fluorine as synthetic fluorite having purity of not less than 97% and an average particle diameter of 5 to 100 μm by processing a fluorine-containing waste water containing hydrofluorosilicic acid. - 特許庁

前記2段処理プロセス(28)は、水素酸反応器(30)及び硝酸反応器(32)を含み、且つ前記水素酸反応器(30)と前記硝酸反応器(32)との間で熱を交換する流体を持つことができる。例文帳に追加

The two-stage treating process (28) may include a hydrofluoric reactor (30) and a nitric acid reactor (32), and may have a fluid exchanging heat between the hydrofluoric acid reactor (30) and the nitric acid reactor (32). - 特許庁

基板上の水分除去処理を行い、ついで水素酸とアンモニウムの少なくとも一方を含む洗浄液で基板洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。例文帳に追加

This substrate cleaning method comprises a step to remove moisture on the substrate and a step to clean the moisture-removed substrate by the cleaning liquid containing at least one of ammonium fluoride and hydrofluoric acid. - 特許庁

水素および三硼素の存在下で縮合多環炭水素またはこれを含有する物質を重合させて得られた原料メソフェーズピッチを、500℃以上の温度で熱処理することによって高純度かつ高結晶性の炭素物を得る。例文帳に追加

The high-purity, high-crystallinity carbonized product is obtained by heat-treating raw material mesophase pitch at500°C, wherein the raw material mesophase pitch is obtained by polymerizing a condensed polycyclic hydrocarbon or a substance containing the same in the presence of hydrogen fluoride and boron trifluoride. - 特許庁

このシリコン基板洗浄工程SWは、太陽電池の母材であるシリコン基板を水素酸と過酸水素の混合水溶液に浸漬処理し、シリコン基板上に付着した金属を除去するようにしたものである。例文帳に追加

This silicon board cleaning process SW is formed by carrying out an immersion treatment of the silicon board which is the base material of the solar cell in mixed solution of hydrofluoric acid and hydrogen peroxide, and by removing the metal stuck on the silicon board. - 特許庁

半導体デバイス製造過程において付着したゲルマニウム(Ge)汚染物を除去するために、酸力を有する溶液、例えば、アンモニア−過酸水素水(APM),塩酸−過酸水素水(HPM)、硫酸−過酸水素水(SPM)、王水等による処理、もしくは、酸素プラズマ処理等の酸処理に連続して、酸(HF)含有水溶液による処理を行なう。例文帳に追加

In order to remove a germanium (Ge) contaminant stuck in a manufacturing process of a semiconductor device, a treatment is performed using a solution containing hafnium (HF) after a treatment using an oxidative solution such as an ammonia-hydrogen peroxide solution (APM), hydrochloric acid-hydrogen peroxide solution (HPM), sulfuric acid-hydrogen peroxide solution (SPM), and aqua regia or oxidation treatment such as oxidative plasma treatment. - 特許庁

例文

本発明は、アンモニウムと水素酸の少なくとも一方を含む洗浄液による基板洗浄処理において、同処理の微細加工、均一安定と共に、同洗浄液使用に伴う環境負荷(例えば、資源の消費、廃棄物発生、環境汚染等)の低減を図ることができる洗浄処理方法と洗浄処理装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for cleaning a substrate, which can attain the micro-fabricated, uniform and stable cleaning of the substrate and the reduction of the environmental load (for example, consumption of a resource, generation of waste and environmental pollution) to be caused by using a cleaning liquid containing at least one of ammonium fluoride and hydrofluoric acid when the substrate is cleaned by the cleaning liquid. - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「弗化水素処理」の英訳

弗化水素処理


「弗化水素処理」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 20



例文

原料の縮合多環炭水素水素および三硼素の存在下で重合させることによって得られたピッチと、マグネシアまたは炭酸カルシウムの粒状物とを混合し、得られた混合物を100℃から400℃の温度範囲で不融処理した後、500℃から1200℃の温度範囲で炭素処理し、得られた炭素物を酸洗浄する。例文帳に追加

Pitch obtained by polymerizing polycyclic condensed hydrocarbon as raw material in the presence of hydrogen fluoride and boron trifluoride, and the particulate material of magnesia or calcium carbonate are mixed, the obtained mixture is subjected to insolubilization treatment in the temperature range from 100 to 400°C, and is thereafter subjected to carbonization treatment in the temperature range from 500 to 1,200°C, and the obtained carbonized material is subjected to acid pickling. - 特許庁

縮合多環式炭水素またはこれを含有する物質を水素・三硼素の存在下で重合させて得られたピッチを熱処理し、次いで水酸ナトリウムを70重量%以上含む賦活剤を用いて500〜700℃で賦活処理することを特徴とする電気二重層キャパシタ電極用炭素材料の製造方法。例文帳に追加

In the method of producing a carbon material for an electric double layer capacitor electrode, a pitch obtained by polymerizing condensed polycyclic hydrocarbon or a substance comprising the same in the presence of hydrogen fluoride-boron trifluoride is heat-treated, and is next subjected to activation treatment at 500 to 700°C using an activation agent comprising70 wt.% sodium hydroxide. - 特許庁

縮合多環式合物またはこれを含有する物質を水素・三硼素の存在下で重合させて得られた光学的等方性ピッチと、p-ベンゾキノン、アントラキノン、硫黄から選ばれる少なくとも1種の架橋剤とを反応させた後、800℃以上の温度で熱処理する。例文帳に追加

After bringing into reaction an optical isotropic pitch, which is obtained by polymerizing a condensed polycyclic compound or a material containing the same under the presence of hydrogen fluoride/boron trifluoride, and at least one kind of crosslinking agent selected from p-benzoquinone, anthraquinone, and sulfur, a thermal treatment is performed at a temperature of 800°C or higher. - 特許庁

水素酸を含む処理液に基板を接触させて該基板表面に二酸珪素被膜を形成する方法において、二酸珪素被膜が形成された基板をカルシウム塩を含む水溶液と接触させる。例文帳に追加

In the method for depositing a silicon dioxide film on the surface of a substrate by bringing a substrate into contact with a treating solution containing hydrosilicofluoric acid, a substrate deposited with a silicon dioxide film is brought into contact with an aqueous solution containing calcium salt. - 特許庁

切断、溶接、焼結を施した合成石英材に対して、水素酸水溶液で予め30μm程度、合成石英材の表面をエッチング処理する。例文帳に追加

The surface of the synthetic quartz which is cut, welded, and sintered is etched to approximately 30 μm, in advance, by hydrofluoric acid solution. - 特許庁

硝酸クロム、硝酸コバルト、硫黄合有機酸を含む亜鉛又は亜鉛合金めっき上に三価黒色クロメート皮膜を形成するための三価黒色クロメート処理液において、塩クロム0.5〜10g/Lと、一水素アンモニウム0.01〜20g/Lを含めたものを用いて処理を行う。例文帳に追加

A trivalent black chromate treating liquid is used for depositing the trivalent black chromate film on zinc or zinc alloy plating containing chromium nitrate, cobalt nitrate and sulfur-combined organic acid, wherein the treatment is performed by using the liquid containing 0.5-10 g/L chromium chloride and 0.01-20 g/L ammonium monohydrogen difluoride. - 特許庁

有機珪素合物を含有する溶液中の珪素の含有量を測定するに際し、有機珪素合物を含有する溶液を予め水素処理した後に誘導結合プラズマ発光分析装置に導入することにより珪素の含有量を測定する。例文帳に追加

When measuring a content of silicon in a solution containing an organic silicon compound, the solution containing the organic silicon compound is previously treated with hydrogen fluoride, and then is introduced into an ICP optical emission spectrometer, thereby measuring the content of silicon. - 特許庁

例文

本発明によれば、分解により水素のような高腐食性を有する酸性ガスを生成する合物量を測定し、酸性ガスを除去するための酸性ガス除去剤を酸性ガス処理装置に効率良く供給し、ランニングコストの低減を実現するシステムと方法を提供することができる。例文帳に追加

To provide a system and a method for measuring the amount of compounds producing a highly corrosive acidic gas, e.g. hydrogen fluoride, after decomposition, supplying an acidic gas remover for removal of the acidic gases efficiently to an acidic gas treating apparatus and realizing a reduction of the running cost. - 特許庁

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