形態計測学の英語

本実施形態の測光装置では、第１光学フィルタ４及び第１光電変換器５からなる第１輝度計測部で明所視輝度Lpを計測し、第２光学フィルタ６及び第２光電変換器７からなる第２輝度計測部で暗所視輝度Lsを計測している。例文帳に追加

In a photometric device of the present embodiment, a first luminance measuring part consisting of a first optical filter 4 and a first photoelectric converter 5 measures a photopic vision luminance Lp, and a second luminance measuring part consisting of a second optical filter 6 and a second photoelectric converter 7 measures a scotopic vision luminance Ls. - 特許庁

次いで、本実施の形態の製造方法では、計測工程Ｓ１で得られた計測結果、すなわちマイクロフライアイレンズ５の各微小光学面の面形状に関する計測データを２階微分して照度ムラ関数を求める（Ｓ２）。例文帳に追加

Then,, measurement results acquired in a measuring process S1, namely, the data measured on the surface shape of each fine optical surface of the micro fly-eye lens 5, are subjected to second differentiation, to determine an illuminance irregularity function (S2). - 特許庁

また、実施の形態の核医学イメージング装置は、核医学画像を生成するための検出器により放射線が検出された回数を計測する。例文帳に追加

Further, the nuclear medicine imaging device according to the embodiment counts the number of times that radiation is detected by the detector for generating a nuclear medicine image. - 特許庁

本実施形態のパターン描画装置１は、各光学ヘッドによるパルス光の照射位置を計測し、その照射位置のずれ量Ｐおよびずれ量の差分ΔＰに応じて較正処理の時間間隔Ｔｓを変更する。例文帳に追加

The pattern drawing apparatus 1 measures the irradiation position of pulse light by each optical head and changes the time interval Ts of the calibration process in accordance with the deviation amount P of the irradiation position and with the difference ΔP in the deviation amounts. - 特許庁

一実施形態が、光学計測装置を使用して測定されたスペクトルデータとプロファイルライブラリとを使用することによって、テストパターン線のプロファイルデータを取得するための非破壊的な方法である。例文帳に追加

One embodiment of this system is a nondestructive method, by which profile data about test pattern lines are acquired by using spectral data measured, using an optical measurement instrument and a profile library. - 特許庁

アパーチャ装置（１７）内の少なくとも１つのアパーチャ開口（２８）が、ビーム方向に見て、計測すべき層の形態に少なくとも部分的に一致する領域を投影する幾何学的形状を有する。例文帳に追加

The at least one aperture opening 28 inside the aperture device 17 has a geometric shape projecting an area consistent at least partially with a form of the layer to be measured, in view along a beam direction. - 特許庁

他の実施形態において、チャンバは、化学気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、計測チャンバ、熱処理チャンバ、又は物理気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、基板搬送チャンバ、又は真空チャンバの１つである。例文帳に追加

In another embodiment, the chamber is one of a chemical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a metrology chamber, a thermal processing chamber, or a physical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a substrate transfer chamber or a vacuum chamber. - 特許庁