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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英・英日専門用語 > 支持体の前処理の英語・英訳 

支持体の前処理の英語

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主な英訳pretreatment of backing; pretreatment of base material

日英・英日専門用語辞書での「支持体の前処理」の英訳

支持体の前処理


「支持体の前処理」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 233



例文

基板を処理する処理室と、該処理室内で基板を支持する支持11と、処理室内の基板を加熱するヒータとを有する基板処理装置に於いて、支持上部に断熱部25を設けた。例文帳に追加

A substrate treating device having the treating chamber for treating the substrates, a supporting body 11 which supports the substrates in the treating chamber, and a heater which heats the substrates in the treating chamber is provided with a heat insulating section 25 in the upper part of the supporting body 11. - 特許庁

ウエーハ状の被処理を水平に支持して熱処理する際に使用する熱処理用治具であって、記被処理の裏面側を支持する支持部を有し、該支持部の支持面が、凸曲面状に形成されていることを特徴とする熱処理用治具。例文帳に追加

The heat treatment tool to be used for heat treatment by horizontally supporting a wafer-like object to be heat-treated has a supporting part for supporting the rear side of the object to be heat-treated, and the supporting surface of the supporting part is formed like a projected curve. - 特許庁

支持上に輝尽性蛍光層を形成するに、該支持表面をエネルギー照射処理または/及びポリマーコートすることが好ましい。例文帳に追加

A surface of the support body is preferably energy-irradiation-processed or/and polymer-coated before forming the stimulable phosphor layer on the support body. - 特許庁

一定経路1上で移動可能な移動20の上部に、処理の被搬送物120を支持自在な着脱支持具40,45と、着脱支持具40,45を離脱した状態で、処理後の被搬送物123を支持自在な固定支持具27を設けた。例文帳に追加

On the upper part of a moving element 20 that can move on a fixed path 1, an attaching/detaching supporting tools 40, 45 supporting an article to be carried before processing 120, and a fixed supporting tool 27 supporting a carried article after processing 123 while breaking away the attaching/detaching supporting tools 40, 45. - 特許庁

記ワイヤレスセンサは、処理されるべき基板と実質的に同じ大きさの支持に配置される。例文帳に追加

The wireless sensor is disposed on a supporting body which is of substantially the same size as the substrate to be processed. - 特許庁

支持部および脚部を有し、ランフラット走行時に荷重を支持可能な環状のランフラットタイヤ用支持の製造方法であって、 少なくとも支持部の径方向内側端部で記脚部との接着領域に、化成処理含む表面処理を施し、記径方向内側端部と記脚部とを接着することを特徴とするランフラットタイヤ用支持の製造方法である。例文帳に追加

In a method of manufacturing an ring support for runflat tires having a supporting portion and a leg capable of bearing loads during runflat-driving, surface treatment including chemical conversion is performed to an area where bonding with the leg is made at the radially inward end of at least the supporting portion, and the radially inward end and the leg are bonded. - 特許庁

例文

本発明は、回転可能な刃具支持に回転刃を備えた連続帳票後処理装置であって、記刃具支持に該刃具支持と一形成により、もしくは別部材として形成した把持部を設けたこと特徴とする。例文帳に追加

In this continuous slip post-treatment apparatus, a rotary blade is provided on a rotatable edge tool support, and a grasping part integrally formed along with the edge tool support or formed as a separate member is provided on the edge tool support. - 特許庁

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「支持体の前処理」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 233



例文

基板処理装置は、プラズマにより基板を処理する処理容器203と、処理容器203の中に設けられ、アース電極22を有するサセプタ217と、少なくとも基板の周縁部を支持する支持部11を有して記サセプタ上に設けられる基板載置10とを備えている。例文帳に追加

The substrate processing equipment comprises a processing container 203 for processing the substrate by plasma, a susceptor 217 provided in the processing container 203 and provided with a grounding electrode 22, and a substrate mounting body 10 provided with a support 11 for supporting the peripheral edge of the substrate at least and provided on the susceptor. - 特許庁

処理システム内で基板を支持する基板ホルダは、第1温度を有する温度制御された支持基盤、該温度制御された支持基盤に対向し、かつ基板を支持するように備えられた基板支持、及び該基板支持と結合し、かつ記基板支持を第1温度よりも高温である第2温度に加熱するように備えられた1以上の加熱素子、を有する。例文帳に追加

The substrate holder for supporting a substrate in a processing system includes: a temperature-controlled support base having a first temperature; a substrate support opposing the temperature-controlled support base and provided to support the substrate; and one or more heating elements coupled to the substrate support and provided to heat the substrate support to a second temperature above the first temperature. - 特許庁

画像処理装置の本下面に取り付けられ、設置面上で記本支持するための支持部材において、その支持部材の形状をその接地部位が設置面と線で接触する形状としたことを特徴とする。例文帳に追加

This support member is attached to an under surface of the image processing device main body to support the main body on an installation surface and has a surface that makes a line contact with the ground surface. - 特許庁

支持形成工程で得られた多孔質支持を中間層形成工程のにアルカリ処理する、および/または、中間層形成工程で得られた中間層を備えた多孔質支持を活性層形成工程のにアルカリ処理する。例文帳に追加

The porus support body obtained by the support body formation process is subjected to alkali treatment before the intermediate layer formation process, and/or the porous support body equipped with the intermediate layer obtained by the intermediate layer formation process is subjected to alkali treatment before the active layer formation process. - 特許庁

真空引き可能になされた処理容器44内に処理ガスを供給して被処理Wに対して処理を施すために処理容器44内で記被処理を載置して支持するための載置台構造において、記被処理を載置する載置面を有する載置台本50と、記被処理の移載時に記被処理を突き上げるために昇降可能になされた昇降ピン機構106と、記被処理記載置台本上に載置している時に記被処理の周辺のエッジ部38の下面を処理ガスに晒すために記載置面に形成されたエッジ露出用段部122とを有する。例文帳に追加

The placing table structure is used to place the workpiece W and support it in the processing container 44 in order to supply a processing gas into the processing container 44 constituted to be vacuumed and apply processing to the workpiece W. - 特許庁

支持への処理及び処理後の乾燥接着性並びに湿潤接着性の良好な画像受容層を有する画像形成部材、特に延伸ポリエステルのような高疎水性支持を有する画像形成部材の開発。例文帳に追加

To provide an image forming member with an image receiving layer having good dry adhesiveness and wet adhesiveness to a support before and after processing and to particularly provide an image forming member with a highly hydrophobic support such as a stretched polyester. - 特許庁

一対の対向する電極間に支持を位置させ、記電極間に電圧を印加して支持に放電処理を行う放電処理装置に用いる電極において、一対の対向する記電極の少なくとも一方の対向面は、金属とセラミックスの複合材料を母材とし、該母材表面に誘電を被覆したものであることを特徴とする放電処理用の電極と、それを用いた放電処理方法及び放電処理装置。例文帳に追加

The electrode is used in the method of electrodischarge treatment and the electrodischarge treatment according to the present invention. - 特許庁

例文

支持20の表面に誘電層23と配線層とを積層し、中間を形成する工程と、該中間から支持を除去し、配線基板を得る工程と、から成り、記中間形成工程のに、支持20の表面20aに粗化処理を施しておくことを特徴とする。例文帳に追加

There are provided steps of providing a dielectric layer 23 and a wiring layer on a surface of a support 20 to form an intermediate body, removing the support from the intermediate body to obtain a wiring board, and carrying out a roughening treatment over a surface 20a of the support 20 before the intermediate body forming step. - 特許庁

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