方位ピットの英語

工場棟１内の前側部位置にごみピット２を形成し、ごみピット２の上方部にあるごみクレーン７の上方位置にプラットホーム１２を形成する。例文帳に追加

A refuse pit 2 is formed at a front side position in a factory building 1, and a platform 12 is formed at an upper position of a refuse crane 7 located at an upper portion of the refuse pit 2. - 特許庁

エレベーターの昇降路５を横断歩道橋３の橋体４と歩道１との間に設け、歩道１面よりも上方位置にピット底面１０を配置し、また下階乗場１２を歩道１に対応して設けてピット底面１０よりも上方位置に配置する。例文帳に追加

A hoistway 5 of an elevator is provided between a bridge body 4 of a pedestrian overpass 3 and a sidewalk 1, a pit bottom face 10 is located on a position upper than the sidewalk 1 face, and a landing of a lower floor 12 is located corresponding to the sidewalk at a position upper than the pit bottom face 10. - 特許庁

ここで、バッファ層１１としてＡｌＮを用いているため、凹凸の深さ１．２〜２．５μｍ、凹凸側面の傾斜角度が４０〜８０°の場合であっても、結晶にピットが発生せず、結晶方位のばらつきが小さい。例文帳に追加

Since AlN is used as a material of the buffer layer 11, pits do not occur in the crystal and variation in crystal orientation is small, even if the depth of the unevenness is 1.2 to 2.5 μm, and the inclination angle of the side surfaces of convex portions is 40 to 80°. - 特許庁

エピタキシャル成膜前にガスエッチングが施されるとピット欠陥が発生し易くなるが、面方位が（１００）であり、［１００］軸に対して［００１］方向または［００１］方向に角度θ、［０１０］方向または［０１０］方向に角度φとした傾斜角を、特定範囲とすることで、ピット欠陥が発生し難くなり、健全なエピタキシャル層が得られる。例文帳に追加

The sound epitaxial layer is obtained by setting the plane orientation to be (100) and specifying a range of an angle tilted in the [001] direction or at θ in the[001] direction to the [100] axis or an angle tilted in the [010] direction or at ψ in the [010] direction to hardly cause the pit defect. - 特許庁

方位検出センサ１０では、地磁気の影響を受ける球体２２の表面に、２次元バーコードや記号、ピット等によって示される光学コードによって、方位や傾斜角を示す座標情報を記し、これを光学コード読取り部２６Ｈ、２６Ｖで読み取ることによって歩行者の方位を検出する構成とした。例文帳に追加

In an azimuth detection sensor 10, coordinate information showing an azimuth or inclination by an optical code shown by a two-dimensional barcode, a mark or a pit is written on the surface of a sphere 22 to be influenced by geomagnetism, and it is read by optical code reading parts 26H and 26V, whereby the azimuth of a walker is detected. - 特許庁

頂部にごみ投入口２を、底部にごみ排出口３を設けたケーシング１内のごみ投入口２の下方位置に、フィード装置４を設け、その一側にカッティング装置１８を設け、他側に異物排出ピット４９を設ける。例文帳に追加

A feed device 4 is provided at the lower part position of a refuse feeding port 2 in a casing 1 provided with the refuse feeding port 2 at the top and a refuse discharge port 3 at the bottom, and a cutting device 18 is provided on one side and a foreign matter discharge pit 49 is provided on the other side. - 特許庁

高純度アルミニウム材コイル内での高レベルの（１００）方位密度の実現とエッチングピットの分散密度の均一化をはかり、一部の直流電解エッチング条件によって生じる場合があった局部的かつ圧延方向に展伸した未エッチング部の発生を解消した、電解コンデンサ電極用アルミニウム材とその製造方法等を提供する。例文帳に追加

To provide aluminum material for an electrolytic capacitor electrode in which (100) orientation density of a high level and uniformization of distribution density of etching pits in a high purity aluminum material coil are achieved, thereby the local generation of unetched parts elongating in a rolling direction which has sometimes occurred depending on some DC electrolytic etching conditions is eliminated, and to provide a method for producing the same or the like. - 特許庁