気相化学反応の英語

熱移動及び物質移動に対する抵抗が少なく、プロセス設備容積を劇的に減少させるチャンスを創り出す化学反応器及び反応チャンバ及び気相反応物質を有する触媒化学反応を行う方法を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical reactor, reaction chamber, and method for conducting a catalytic chemical reaction including gas phase reactants, which provides less resistance to heat and mass transfer thus creates the opportunity for dramatic reductions in process hardware volume. - 特許庁

化学気相成長装置の反応部の外部でアルコールまたはアルコールの水溶液を自然蒸発などで気化させることにより得られるガスをこの反応部に導入することにより反応を行う。例文帳に追加

Reaction is carried out by introducing the gas obtained by evaporating the alcohol or the aqueous alcohol solution by spontaneous vaporization at the outside of the reaction zone of the chemical vapor deposition unit. - 特許庁

このプラズマは、気泡中に含まれる、液体に由来の気相状態の物質に作用し、合成反応や分解反応等の化学反応を進行させる。例文帳に追加

The plasmas act on a gaseous material, contained in the bubbles, originated from the liquid to promote a chemical reaction such as a synthesis reaction and a decomposition reaction. - 特許庁

（二）　有機金属化学的気相成長反応炉であって、第二十号又は第二十一号に該当する材料を化学的に反応させることにより化合物半導体の結晶を成長させるもの例文帳に追加

2. Metal-organic chemical vapor deposition reactors that grow compound semiconductor crystals by causing a chemical reaction among materials that fall under item (xx) or item (xxi)発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

上記目的は、選択的に堆積する化学種が反応領域内の反応ガスの滞留時間を延長することにより形成される化学気相成長システム及び方法により達成される。例文帳に追加

In the chemical vapor growth system and method, chemical species that are selectively built up are formed by extending the residence time of a reaction gas in a reaction region. - 特許庁

気相化学反応システムにおける凝縮可能な蒸気を、効果的にかつ効率良く収集するための液体冷却捕捉器を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid cooled trap for effectively and efficiently collecting condensable vapor in a chemical vapor reaction system. - 特許庁

液相での気体発生を伴う一段階の化学反応によって、目的とする反応生成物を生成するにあたり、溶液中へ原料を、気泡の層に阻害されることなく供給することができ、反応生成物を効率良く製造することができる反応装置を提供する。例文帳に追加

To provide a reaction apparatus capable of supplying raw materials to a solution without inhibition by a layer of foams and producing a reaction product at a high efficiency in the case of producing an objective reaction product by one-step chemical reaction accompanied with gas emission in a liquid phase. - 特許庁

その上にポリシリコン膜が形成された半導体基板をプラズマ化学気相蒸着装置の反応チャンバ内に位置させる（段階Ｓ１０）。例文帳に追加

A semiconductor substrate on which a polysilicon film is formed is positioned in a reaction chamber of a plasma chemical vapor deposition apparatus (step S10). - 特許庁