水処理工程の英語

電気分解工程、気泡の微細化工程、反応・分離工程、循環工程及び排出工程から構成される汚水の電解処理法である。例文帳に追加

This electrolytic treatment method of sewage is constituted of a electrolytic decomposition process, a gas bubble finely dividing process, a reaction and separation process, a circulating process and a discharge process. - 特許庁

この酸素処理工程はＣｌ_２ 、塩素化合物ガスを用いる脱水工程とは別工程とする。例文帳に追加

The oxygen treatment process is set to be a process different from a dehydration process using the gaseous chlorine compound. - 特許庁

この際、加水分解処理の前工程又は後工程に、色素除去工程を設けてもよい。例文帳に追加

Before or after the hydrolysis treatment, a colorant removal step may be set. - 特許庁

原料を加圧熱水で処理する熱水処理工程、その熱水処理物を機械的粉砕処理する機械的粉砕処理工程及びその機械的粉砕物を酵素で糖化処理する糖化処理工程を含む処理方法である。例文帳に追加

A method for treating lignocellulosic biomass is provided, comprising the step of treating the raw material biomass with pressurized hot water, the step of subjecting the resultant hot-water-treated product to mechanically grinding treatment and the step of subjecting the resultant mechanically ground product to saccharifying treatment with an enzyme. - 特許庁

被処理水にオゾンを添加して酸化処理する酸化処理工程１と、酸化処理工程１を経た水を逆浸透膜により処理する逆浸透膜処理工程３とを有する水処理方法。例文帳に追加

This water treatment method includes an oxidation step 1 of adding ozone to water to be treated to conduct oxidation treatment, and a reverse osmosis membrane treatment step 3 of subjecting water from the oxidation step 1 to treatment through a reverse osmosis membrane. - 特許庁

有機性薬品を含有する有機性排水を微生物によって分解処理する生物処理工程と、該生物処理工程で処理された処理水を活性炭に担持された微生物によって処理する生物活性炭処理工程と、該生物活性炭処理工程で処理された処理水を物理化学的に酸化分解処理する酸化分解工程とを実施する排水処理方法および排水処理装置を提供する。例文帳に追加

These method and device for treating wastewater execute: a biotreatment step of subjecting organic wastewater containing organic chemicals to degradative treatment by microorganisms; a biological activated carbon treatment step of treating the treated water treated in the biotreatment step by microorganisms supported to activated carbon; and an oxidative decomposition step of physicochemically subjecting the treated water treated in the biological activated carbon treatment step to oxidative decomposition treatment. - 特許庁

そして、ＨＦ処理工程（処理Ｓ２３）とオゾン処理工程（処理Ｓ２５）との間に、半導体基板を純水で洗浄処理する純水処理工程（処理Ｓ２４）を備える。例文帳に追加

Further, a deionized water treatment process (treatment S24) for cleaning the semiconductor substrate with deionized water is provided between the HF treatment process (treatment S23) and the ozone treatment process (treatment S25). - 特許庁

水素化処理工程における二相タービンの使用例文帳に追加

USE OF TWO-PHASE TURBINE IN HYDROTREATMENT PROCESS - 特許庁