汚染モニターの英語

半導体プロセス中の汚染管理のためのＰＣＤ、ＳＰＶ等による金属不純物汚染の評価における、モニターウエーハ外周部の測定結果の信頼性向上を実現することができる金属汚染評価用シリコンウエーハを提供する。例文帳に追加

To provide a silicon wafer for metal contamination evaluation which can improve the reliability of the measured result of the outer peripheral part of a monitor wafer in evaluation of metal impurity contaminants by photo conductivity decay (PCD), surface photo-voltage (SPV) or the like for contamination management in semiconductor processing. - 特許庁

熱処理炉の金属不純物汚染の有無を検出するための汚染検出用モニターウェーハであって、ＣＺ法により育成された単結晶インゴットからスライスして製造された半導体単結晶基板の両主表面に、ノンドープの単結晶薄膜が気相成長されたものであることを特徴とする汚染検出用モニターウェーハ。例文帳に追加

The monitor wafer for contamination detection detects the presence/absence of the contamination of the heat treating furnace with a metal impurity, the monitor wafer for contamination detection is characterized in that non-doped single-crystal thin films are vapor-phase grown on both principal surfaces of the semiconductor single-crystal substrate manufactured by slicing a single-crystal ingot grown by the CZ method. - 特許庁

この研究の目的は、特定の水の有機物汚染クラスをモニターする既存の測定技術と超音波破砕を組み合わせることについての可能性を調べることであった。例文帳に追加

The objective of this study was to examine the potential of combining sonication with existing measurement technologies for monitoring specific classes of organic pollutants in water. - 英語論文検索例文集

ダイオキシン類汚染のスクリーニング用ＤＮＡアレイ及びスクリーニング方法、並びにダイオキシン類モニター用遺伝子及び植物形質転換用プラスミドベクター例文帳に追加

DNA ARRAY FOR SCREENING CONTAMINATION BY DIOXINS AND SCREENING METHOD AND GENE FOR MONITORING OF DIOXINS AND PLASMID VECTOR FOR PLANT TRANSFORMATION - 特許庁

重金属イオンによる汚染地域で試料採取したものをその場で、分析できまた、ごみ焼却場や処分場で重金属イオンのモニターもできる重金属イオンの測定方法及び装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a measuring method and a device of a heavy metal ion capable of analyzing on the site a sample gathered on a region polluted by the heavy metal ion, and monitoring the heavy metal ion at a refuge incineration place or a disposal place. - 特許庁

一以上の処理プロセスを組合わせてシリコンウエハーを再生する際に、該再生時におけるＣｕ汚染箇所を特定する方法であって、 モニターウエハーとして、Ｐ型シリコンウエハー、若しくはＰ型シリコンウエハー及びＮ型シリコンウエハーを使用し、前記再生時における単一若しくは連続する複数の処理プロセスの前後で、前記モニターウエハーの電気抵抗を検知する検知操作を、当該再生工程で、少なくとも一回実施することを特徴とするＣｕ汚染箇所の特定方法である。例文帳に追加

The method for specifying the Cu contaminated position when reproducing the silicon wafer in combination of one or more treatment processes uses a P-type silicon wafer or a P-type silicon wafer and a N-type silicon wafer as a monitoring wafer to perform at least one detecting operation in the reproducing processes for detecting the electric resistance of the monitoring wafer before and after the plurality of single or consecutive treatment processes during reproduction. - 特許庁

洗浄部材の摩耗・汚染の状態をモニターすることで、その交換時期を判断して、常に洗浄部材を清浄で摩耗していない状態に保つ基板洗浄装置の洗浄部材交換時期判定方法及び基板洗浄装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for determining timing of replacement of a cleaning member in a substrate cleaning apparatus and also to provide the substrate cleaning apparatus to continuously keep the cleaning member clean and not abraded, by determining the timing of replacement by monitoring abrasion or contamination condition of the cleaning member. - 特許庁