沿磁場電流の英語

電流消費が低く、極く弱い外部磁場を検出することができ、また直交する２つの方向に沿って磁場を検出することができる磁気センサを提供する。例文帳に追加

To obtain a magnetic sensor whose current consumption is low which can detect an extremely weak external magnetic field and which can detect a magnetic field along two orthogonal directions. - 特許庁

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバの主軸に実質的に沿って、このチャンバ内に磁場を適用するための磁場発生器、このチャンバ内に方位性電場を誘導するための電流コイル、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバに注入するためのプラズマ供給源、を備える、プラズマ閉じ込めデバイスを提供する。例文帳に追加

The plasma confinement device is provided which includes a chamber, a magnetic field generator for applying a magnetic field into the chamber virtually along its main axis, a current coil for guiding a directional electric field into the chamber and a plasma source for pouring plasma containing electrons and ions into the chamber. - 特許庁

そこで、コイル１の一部において、前記磁場空間２の磁場方向および超電導バルク３−１の長手方向に直交してその超電導バルク３−１に近接するコイル部分１−ａを確保し、前記コイル１に電流を供給することにより、コイル部分１−ａに超電導バルク３−１の長手方向に沿った電磁気力Ｆを発生させることができる。例文帳に追加

Then, at one portion of the coil 1, a coil part 1-a that orthogonally crosses the magnetic field direction of the magnetic field space 2 and the longitudinal direction of a superconducting bulk 3-1 is secured, and current is supplied to the coil 1, thus generating electromagnetic force F along the longitudinal direction of the superconducting bulk 3-1 in the coil part 1-a. - 特許庁

シリコン単結晶インゴット１０の成長装置の外側に配置されたコイル部材１６，１７によって、チャンバの軸方向に沿って非対称磁場を印加し、非対称磁場の比率または強さを電流制御などで付加的な構成要素なく制御し、ZGPZero Gauss Planeがシリコン融液１２の表面上部に位置するようにする。例文帳に追加

A ZGP (Zero Gauss Plane) is placed at an upper portion of a silicon melt 12 by applying asymmetric magnetic fields along the axis direction of a chamber by coil members 16, 17 arranged at the outside of the growing apparatus of the silicon single crystal ingot 10 and controlling the ratio and intensity of the asymmetric magnetic fields by current control or the like without additional constitutive elements. - 特許庁

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバ３１０の主軸に実質的に沿って、このチャンバ内に磁場を適用するための磁場発生器３２５、このチャンバ３１０内に方位性電場を誘導するための電流コイル３２０、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバ３１０に注入するためのプラズマ供給源３４５を備える。例文帳に追加

The plasma confining device includes a chamber, a magnetic field generator 325 for applying a magnetic field into the chamber substantially along the main axis of the chamber 310, a current coil 320 for inducing an azimuthal electric field into the chamber 310, and a plasma supply source 345 for injecting the plasma including electrons and ions into the chamber 310. - 特許庁

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバの主軸に実質的に沿って、このチャンバ内に磁場を適用するための磁場発生器、このチャンバ内に方位性電場を誘導するための電流コイル、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバに注入するためのプラズマ供給源、を備える、プラズマ閉じ込めデバイスを提供する。例文帳に追加

The plasma confinement device is provided which includes the following:a chamber, a magnetic field generator for applying a magnetic field into the chamber substantially along its main axis, a current coil for inducing a directional electric field into the chamber, and a plasma source for injecting plasma containing electrons and ions into the chamber. - 特許庁

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバ３１０の主軸に実質的に沿って、チャンバ３１０内に磁場を適用するための磁場発生器５２５、チャンバ３１０内に方位性電場を誘導するための電流コイル３２０、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバに注入するためのプラズマ供給源３４５を備える。例文帳に追加

The device for confining plasma includes a chamber, a magnetic field generator 525 for applying a magnetic field into the chamber 310 substantially along the main axis of the chamber 310, a current coil 320 for inducing an azimuthal electric field into the chamber 310, and a plasma supply source 345 for injecting the plasma including electrons and ions into the chamber. - 特許庁