深堀の英語

放電プラズマＰの中心部に形成されたホロー放電プラズマＰｈにて、基板１４の処理面１４ａを深堀加工する。例文帳に追加

A processing face 14a of the substrate 14 is deeply dug by the hollow discharge plasma Ph formed at the central part of the discharge plasma P. - 特許庁

深堀を行うことなく不要既設管を処分して掘削コストを削減することができる不要既設管の処分方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for disposing an unnecessary existing pipe and capable of reducing an excavation cost by disposing the unnecessary existing pipe without deep excavation. - 特許庁

更に、頂点Ｐ２ 〜Ｐ６ 及びＰ９ 〜Ｐ１１については、その頂角の大きさに応じたウエイト時間に変更されるから、内回り現象及び深堀状態を防止できる。例文帳に追加

In addition, for apexes P2-P6, and P9-P11, the time is changed to the weight time according to the magnitude of the apex angle, any inboard turning phenomenon or deep gouging state can be prevented. - 特許庁

オフセット状態でも最大掘削深さ近くまで深く深堀ができるオフセットブームリンク式作業機構を有する油圧ショベルを提供する。例文帳に追加

To provide a hydraulic excavator with an offset boom link type working mechanism capable of deeply excavating up to a section in the vicinity of maximum excavation depth even under an offset state. - 特許庁

その他、島津氏と結んでいた筑前の秋月種実が日向に移封され、大村氏との対立から長崎港の襲撃や南蛮船からの通行料徴収を強要などを繰り返していた深堀純賢を海賊禁止令違反として所領没収にするなどの処分が行われた。例文帳に追加

Furthermore, Tanezane AKIZUKI in Chikuzen who colluded with the Shimazu clan was transferred to Hyuga, and Sumimasa FUKABORI, who repeatedly attacked Nagasaki Port and charged transport dues on the early European ships because of his confrontation with the Omura clan, was punished by depriving him of his territory for violation of Ban on Piracy.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

シリコン基板に異方性プラズマエッチングを施して、深堀エッチングを行う際に、地球温暖化係数が小さいエッチングガスを用いるようにし、かつエッチング処理に際して地球温暖化係数が小さい副次生成物が生成するようにし、しかも高いエッチング速度が得られるようにする。例文帳に追加

To provide a method capable of using an etching gas that has low global-warming coefficient in applying anisotropic plasma etching to a silicon substrate for depth etching, generating byproducts having low global-warming coefficients in etching processing, and obtaining high etching speed. - 特許庁

このとき、ホロー放電プラズマＰｈによる深堀加工によって形成される基板１４の処理面１４ａの凹凸を、ホロー放電プラズマＰｈの外周部に形成されたグロー放電プラズマＰｇによってその凸部をエッチングすることから、高精度の基板を平坦化することができる。例文帳に追加

In this case, the protrusion of the irregularities formed on a processing face 14a of the substrate 14 by digging by the hollow discharge plasma Ph is etched by glow discharge plasma Pg formed in the outer periphery of the hollow discharge plasma Ph so that the highly precise substrate is flattened. - 特許庁

磁石埋め込み式回転電機特に発電機において、磁石収容孔１１の周方向両側のバリア１３を磁石収容孔１１の周方向両側の側面の最深点である側端１６を通過する接線よりも径方向反ステータ側に深堀り部１３ａを設ける。例文帳に追加

In the magnet embedded dynamo-electric machine especially a power generator, a deeply dug section 13a of a barrier 13 is provided on the circumferential both sides of a magnet accommodating hole 11 on the radially opposite stator side to a tangent line passing through a side end 16 as the deepest point of side faces on the both circumferential sides of a magnet accommodating hole 11. - 特許庁