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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英・英日専門用語 > 炭化ハフニウムの英語・英訳 

炭化ハフニウムの英語

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日英・英日専門用語辞書での「炭化ハフニウム」の英訳

炭化ハフニウム


「炭化ハフニウム」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 25



例文

基板を加熱せずに炭化ハフニウム薄膜を形成する。例文帳に追加

To deposit a hafnium carbide thin film without heating a substrate. - 特許庁

モリブデン炭化物、タングステン炭化物、バナジウム炭化物、クロム炭化物、タンタル炭化物、チタン炭化物、ジルコニウム炭化物及びハフニウム炭化物のうちの1種または2種以上:0.01〜5.0%を含むことが好ましい。例文帳に追加

The alloy preferably comprises 0.01 to 5.0% of one or more kinds selected from molybdenum carbide, tungsten carbide, vanadium carbide, chromium carbide, tantalum carbide, titanium carbide, zirconium carbide and hafnium carbide. - 特許庁

カーボンブラック、炭化ジルコニウム、炭化チタン、炭化ハフニウム、珪化ジルコニウム、珪化チタン、チタンブラック、珪化ハフニウムなどの蓄熱剤を含有する有機繊維糸条を用いて芯地を構成する。例文帳に追加

The heat-storage interlining cloth is produced by using the organic fiber yarns containing a heat-storage agent such as carbon black, zirconium carbide, titanium carbide, hafnium carbide, zirconium silicate, titanium silicate, titanium black or hafnium silicate. - 特許庁

オリゴヌクレオチドまたはDNA断片を表面に担持可能なスライドグラスにおいて、炭化ハフニウム炭化ニオブ、炭化珪素、炭化タンタル、炭化トリウム、炭化チタン、炭化ウラン、炭化タングステンまたは炭化ジルコニウム等の表面処理層が形成されていることを特徴とするスライドグラス。例文帳に追加

A surface-treated layer of hafnium carbide, niobium carbide, silicon carbide, tantalum carbide, thorium carbide, titanium carbide, uranium carbide, tungsten carbide, zirconium carbide, or the like is formed in the slide glass which are capable of carrying oligonucleotide or DNA fragments on the surface. - 特許庁

本発明の固体支持体は、オリゴヌクレオチドまたはDNA断片を表面に担持可能な固体支持体において、炭化ハフニウム炭化ニオブ、炭化珪素、炭化タンタル、炭化トリウム、炭化チタン、炭化ウラン、炭化タングステンまたは炭化ジルコニウム等の表面処理層が形成されていることを特徴とする。例文帳に追加

A solid substrate which can carry oligonucleotide or a DNA fragment on its surface has a surface treatment layer of a hafnium carbide, niobium carbide, silicon carbide, tantalum carbide, thorium carbide, titanium carbide, uranium carbide, tungsten carbide, zirconium carbide, etc., on its surface. - 特許庁

また、炭化ハフニウムは融点が非常に高いので、本発明の電子放出源の寿命は長い。例文帳に追加

Since the hafnium carbide has an extremely high melting point, the electron emission source has a long service life. - 特許庁

例文

III族窒化物半導体基板形成用基板1は、下地基板11と、この下地基板11上に設けられ、炭化アルミニウム、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム炭化バナジウムまたは炭化タンタルから選択される炭化物層を窒化した層12と、炭化物層を窒化した層12上に設けられたIII族窒化物半導体膜13とを備える。例文帳に追加

The substrate 1 for forming a group III nitride semiconductor substrate comprises a base substrate 11, a nitrided layer 12 of a carbide layer selected from aluminum carbide, titanium carbide, zirconium carbide, hafnium carbide and vanadium carbide on the base substrate 11, and a group III nitride semiconductor film 13 provided on the nitrided carbide layer 12. - 特許庁

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Weblio例文辞書での「炭化ハフニウム」に類似した例文

炭化ハフニウム

例文

carburetted hydrogenhydrocarbon

例文

a carbide

例文

a fluorocarbon with chlorine

例文

a gaseous hydrocarbon C4H6

10

炭化水素基(C4H9)

例文

a hydrocarbon radical (C4H9)

例文

a hydride

例文

a sulphide

22

シントールという炭化水素

例文

a hydrocarbon called {synthol}

例文

oxide of zinc

例文

an oxide

例文

unite with carbon

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「炭化ハフニウム」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 25



例文

このように、本発明によれば、電荷質量比の大きい、活性の高いイオン化されたハフニウム粒子のみが基板に到達するので、基板を加熱しなくてもハフニウム粒子と有機ガスとが反応し、炭化ハフニウムの薄膜が形成される。例文帳に追加

In this way, only ionized hafnium particles having a high charge mass ratio and high activity reach the substrate, so that the hafnium particles and an organic gas are reacted even without heating the substrate, and a thin film of hafnium carbide is deposited. - 特許庁

III族窒化物半導体層の製造方法は、下地基板10上に、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム炭化バナジウムまたは炭化タンタルから選択されるいずれかの炭化物層11を形成する工程と、炭化物層11の上部にIII族窒化物半導体層12を成長させる工程と、III族窒化物半導体層12中で亀裂を生じさせて、前記下地基板10を除去し、III族窒化物半導体層を得る工程とを含む例文帳に追加

The production method of the group III nitride semiconductor layer includes steps of: forming a carbide layer 11 selected from titanium carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, vanadium carbide and tantalum carbide on a base substrate 10; growing a group III nitride semiconductor layer 12 above the carbide layer 11; and removing the base substrate 10 by inducing cracks in the group III nitride semiconductor layer 12 to obtain the group III nitride semiconductor layer. - 特許庁

炭化ホウ素7が中性子吸収材充填孔4内に充填され、ハフニウム7が中性子吸収材充填孔5内に充填される。例文帳に追加

Boron carbide 7 fills the neutron absorber packing hole 4, while hafnium 8 is filled within the neutron absorber packing hole 5. - 特許庁

HfC(炭化ハフニウム)からなる陰極チップの寿命の向上を図ることができるプラズマ電極の製造方法及びプラズマ電極を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a plasma electrode capable of enhancing a life of a cathode chip composed of HfC (hafnium carbide), and to provide the plasma electrode. - 特許庁

焼結体を放電焼結装置を用いて製造する際に、製造コストを低減することができる炭化ハフニウム焼結体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a hafnium carbide sintered compact which can reduce a production cost when a sintered compact is produced using a discharge sintering apparatus. - 特許庁

本発明の電子放出源20は尖形にされており、その先端部分からなる電子放出部23に炭化ハフニウム薄膜22が形成されている。例文帳に追加

This electron emission source 20 is formed into an acute shape, and a hafnium carbide thin film 22 is formed on an electron emission part 23 formed of the tip of the source. - 特許庁

両端に開口部20a,20bが設けられた筒状のダイ20内に炭化ハフニウム粉末Fを充填し、真空中又は不活性雰囲気中で炭化ハフニウムを、開口部20a,20bに配置された上パンチ40と下パンチ30で挟んだ状態で加圧しながら、パルス通電加熱して焼結する。例文帳に追加

Hafnium carbide powder F is filled into a cylindrical die 20 whose both edges are provided with opening parts 20a, 20b, and the hafnium carbide is subjected to pulse conduction heating and sintered in a vacuum or in an inert gas atmosphere while performing pressurization in a state of being held between an upper punch 40 and a lower punch 30 arranged at the opening parts 20a, 20b. - 特許庁

例文

炭化タングステンを主成分として含有する炭化物相と鉄族金属のバインダー相、およびジルコニウム及びニオブを必須成分として、必要によりチタン、ハフニウム、バナジウム、タンタル、クロム、モリブデンを含有する少なくとも1種の炭化物、炭窒化物固溶体相より成り、質量比Nb/(Zr+Nb)が少なくとも0.5である焼結超硬合金体。例文帳に追加

The cemented carbide body comprises a carbide phase comprising tungsten carbide as the main component and an iron group metal binder phase, and zirconium and niobium as essential components, and, if required, comprises at least one kind of carbide-carbonitride solid solution phase including titanium, hafnium, vanadium, tantalum, chromium and molybdenum, and mass ratio Nb/(Zr+Nb) is at least 0.5. - 特許庁

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「炭化ハフニウム」の英訳に関連した単語・英語表現

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