炭素クラスターイオンの英語

炭素原子クラスターイオン生成装置及び炭素原子クラスターイオンの生成方法例文帳に追加

CARBON ATOM CLUSTER ION GENERATING DEVICE AND CARBON ATOM CLUSTER ION GENERATING METHOD - 特許庁

サイズの揃った炭素クラスターイオンを効率よく生成させるとともに、小型で消費電力の小さい炭素クラスターイオン生成装置及び炭素クラスターイオン生成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a carbon atom cluster ion generating device with a reduced size and reduced power consumption generating carbon cluster ions in uniform size efficiently, and a carbon atom cluster ion generating method. - 特許庁

被加工物３２が収容された真空槽１２中に、キャリアガスを用いずに気体状の炭素クラスターイオン源３１を導入後、高周波電圧を印加してプラズマ化して炭素クラスターイオン３３を生成させ、被加工物３２に負電圧を印加して表面に炭素クラスターイオン３３を照射することによりイオン加工する第３工程とを有することを特徴とする表面加工方法。例文帳に追加

The surface processing method has a third step to introduce an ion source 31 of a gaseous carbon cluster into a vacuum chamber 12 in which the workpiece 32 is contained without using a carrier gas, subsequently to apply a high frequency voltage to the ion source and making it into plasma to generate a carbon cluster ion 33, and to apply a negative voltage to the workpiece 32 and to ion process it by making its surface irradiated with the carbon cluster ion 33. - 特許庁

これまでに、サイズの揃った炭素原子クラスターイオン（特にＣ_20）を効率よく生成し、炭素原子以外の不純物イオンの生成が抑えられることが確認されている。例文帳に追加

It has been confirmed that carbon atom cluster ions (particularly C20) in uniform size are generated efficiently and the generation of impurity ions other than carbon atom is restrained. - 特許庁

真空減圧下で炭素膜を基材上に気相成長させる方法であって、蒸発炭素質材料を基材表面に付着させる際に、ガスクラスターイオンとモノマーイオンの混合イオンビームを連続的又は断続的に照射することを特徴とする炭素膜形成方法並びにその方法を実施するための装置。例文帳に追加

In the method of vapor-depositing a carbon film on a base material under a vacuum, when an evaporating carbonacious material is deposited on the surface of the base material, a mixed ion beam of gas cluster ions and monomer ions is continuously or discontinuously applied. - 特許庁

炭素原子クラスターイオン源を真空チャンバー７にセットし、真空チャンバー７を真空排気した後、加熱装置１に通電し、カーボンナノチューブ２を加熱し、加速電圧＋Ｅ_1 と引出電圧−Ｅ_2 を調節してナノチューブ２を構成する炭素原子をクラスターの状態で電界蒸発させる。例文帳に追加

A carbon atom cluster ion source is set in a vacuum chamber 7, a heating device 1 carries a current to heat a carbon nanotube 2 after the vacuum chamber 7 is vacuumized, and carbon atoms comprising the carbon nanotube 2 are vaporized in cluster state in an electric field by adjusting an acceleration voltage +E1 and an extraction voltage -E2. - 特許庁

真空減圧下に基材上に炭素質の硬質膜を気相成膜する方法であって蒸発炭素質材料を、イオン化して、もしくはイオン化せずに基体表面に付着させる際に、常温・常圧下では気体状の物質の原子または分子の集合体としてのガスクラスターをイオン化して生成させたガスクラスターイオンを照射して成膜する。例文帳に追加

In this method for vapor-depositing a carbonaceous hard film on a base material under the evacuated pressure, in the case an evaporation carbonaceous material is ionized or is not ionized and is deposited on the surface of a substrate, gas cluster ions generated by ionizing a gas cluster as an aggregate of the atoms or molecules of a substance gaseous at ordinary temperature and under ordinary pressure are cast to deposit a film. - 特許庁