硬膜下ブロックの英語

１００℃以下で架橋塗膜を形成可能であり、かつ、湿気安定性及び貯蔵後硬化性が良好なブロックポリイソシアネート組成物の提供。例文帳に追加

To provide a blocked polyisocyanate composition forming a crosslinked coating film at ≤100°C and having good humidity stability and good curability after storage. - 特許庁

寒冷下で結晶化しにくく、低温硬化性に優れ、かつ、焼付け後の塗膜硬度に優れるブロックポリイソシアネート組成物、及びそれを用いた一液型熱硬化性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a blocked polyisocyanate composition that hardly crystallizes under cold conditions, excels in low-temperature curability, and also excels in hardness of a coating film after baking, and a one-pack type thermosetting composition using the same. - 特許庁

１００℃以下でも架橋塗膜を形成可能であり、水性塗料組成物としての貯蔵安定性及び貯蔵後の硬化性保持率も優れたブロックポリイソシアネート組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a block polyisocyanate composition capable of forming a crosslinked coating film even at 100°C or lower and being also excellent in storage stability as a water-based coating composition and a curing property retaining ratio after storage. - 特許庁

加圧ツール１６を透過したＵＶ光１７と、ブロック１１の下面と側面とに形成された反射膜１４Ａ，１４ＢにおいてＵＶ光１７が反射した反射光とにより、回路モジュール２０の下方も含めて光硬化性樹脂１０を上方と下方とから照射して確実に硬化させる。例文帳に追加

The photosetting resin 10 as well as the lower side of the circuit module 20 is irradiated from both upper and lower sides with the UV light 17 transmitting the pressurizing tool 16 and the reflected light thereof reflecting on reflection films 14A and 14B formed respectively on the lower and side surfaces of the block 11, so that they are cured securely. - 特許庁

スチレン−イソブチレン−スチレントリブロック共重合体９９〜６０質量％と、ポリアミドを分子鎖に含むショアＤ硬度が７０以下のポリアミド系ポリマー１〜４０質量％を含むポリマー混合物からなるサイドウォール保護膜に関する。例文帳に追加

The sidewall-protective film includes a polymer mixture containing 99-60 mass% of a styrene-isobutyrene-styrene triblock copolymer and 1-40 mass% of a polyamide-based polymer containing a polyamide in a molecule chain and having a Shore D hardness of 70 or less. - 特許庁