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磨子十の英語
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「磨子十」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 41件
微細な研磨粒子を用いた精密研磨用の研磨フィルムであって、研磨加工に際して被研磨物との間に研磨液が必要十分に保持され、バインダーの溶着や研削焼け等の不具合を発生させることなく優れた研磨性能が安定して得られる研磨フィルムを提供する。例文帳に追加
To provide a abrasive film for precision polishing by use of fine abrasive particles capable of holding a required and sufficient amount of grinding liquid between a material to be ground and it when performing grinding machining and obtaining excellent abrasive performance stably without causing inconveniences such as deposition of binder and grinding burn. - 特許庁
保護層４に硬質無機粒子を添加することで十分な耐磨耗性を具備させることができる。例文帳に追加
The protective layer 4 has sufficient resistance against wear by adding hard inorganic particles. - 特許庁
研磨剤として有用な複合粒子の製造方法、及びこの方法により製造される複合粒子、並びに複合粒子を含有し、十分な研磨速度が得られ、且つスクラッチ及び断線等が十分に抑えられる化学機械研磨用水系分散体を提供する。例文帳に追加
To provide a process for preparing a composite particle useful as an abrasive, a composite particle prepared through this process, and an aqueous dispersion for grinding chemical machines which contains this composite particle, yields a sufficient abrasion speed and sufficiently inhibits scratching, disconnection, or the like. - 特許庁
スクラッチの発生が少なく、かつ十分な研磨速度があり、平坦化性能に優れた半導体ウエハ研磨用樹脂砥石、その製造法、半導体ウエハの研磨方法、この半導体ウエハを用いた半導体素子及び半導体装置を提供する。例文帳に追加
To provide a resin grinding wheel for semiconductor wafer polishing which generates little scratch, has a sufficient polishing speed, and with an excellent flatness property, and its manufacturing method. - 特許庁
十分な研磨力を有しつつも、研磨時の相手部材への傷付きを抑制でき、無機微粒子の脱落による影響のない研磨ブラシを提供すること。例文帳に追加
To provide a polishing brush capable of suppressing damage to a work object member during polishing without being affected by falling of inorganic fine particles, although the polishing brush has sufficient polishing force. - 特許庁
Ａｌ及びＡｌ合金のＣＭＰ中の研磨パッドのグレージングは、研磨材粒子の研磨副産物による塊状化を防止するのに十分な量の界面活性剤を含む中性研磨スラリを利用することで除去又は大幅に減少される。例文帳に追加
Polishing pad glazing during the CMP of the Al and Al alloy is eliminated or greatly reduced by utilizing neutral polishing slurry containing a sufficient amount of surfactant to prevent agglomeration due to the polished by-products of abrasive particles. - 特許庁
化学的機械的研磨ステップで研磨後にほぼ擦り傷なしの表面が得られるように、十分大きい粒子サイズを有する粒子から構成される最上部層を有する、半導体素子に使用するための軟金属導体７８である。例文帳に追加
The soft metal conductor 78 has an uppermost layer composed of particles having sufficiently large particle sizes so that the surface without abrasion is obtained after polishing in the chemical mechanical polishing step and the conductor is used for a semiconductor device. - 特許庁
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「磨子十」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 41件
十分な硬度と適度な柔軟性とを兼ね備えるとともに、耐溶剤性および耐熱性にも優れ、例えば研磨剤用粒子として用いた場合に高精度の均一な研磨が可能な、新規なアミノ樹脂架橋粒子を提供する。例文帳に追加
To provide novel crosslinked amino resin particles having sufficient hardness and moderate flexibility, being excellent in solvent resistance and heat resistance, and being capable of performing highly precise uniform polishing when used as, for example, polishing particles. - 特許庁
コロイダルシリカを研磨材として用いたとしても洗浄性に優れ、砥粒や研磨カスを十分に除去できる電子デバイス基板用洗浄剤組成物、および電子デバイス基板の洗浄方法を提供する。例文帳に追加
To provide a cleaner composition for an electronic device substrate and a method of cleaning an electronic device substrate both of which are excellent in cleaning performance and can sufficiently remove abrasive grains and polish wastes even if colloidal silica is used as a polishing agent. - 特許庁
研磨粒子を添加した二成分現像剤を用いる場合において、キャリア付着や余計なトナー消費を生じることなく、像担持体の表面を研磨するのに十分な量の研磨粒子を供給することのきできる画像形成装置を提供する。例文帳に追加
To provide an image forming apparatus in which when a two-component developer to which abrasive particles have been added is used, a sufficient amount of the abrasive particles to polish a surface of an image bearing member can be supplied without causing carrier deposition and excess toner consumption. - 特許庁
「笠置曼荼羅図」には、弥勒磨崖仏と木造十三重塔が描かれており、最盛期の境内の様子がこの絵から想像される。例文帳に追加
Kasagi Mandala-zu' depicts the engraved Miroku image and the thirteen-storey wooden pagoda, making it possible to imagine the temple at the height of its prosperity.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
研磨粒子を用いなくても汚れに対する十分な研摩性ないし掻き取り性を有する清掃用シートを提供すること。例文帳に追加
To provide a cleaning sheet having sufficient abrasive performance and scraping performance to stain without using abrasive particles. - 特許庁
α化率が高く、十分に小さい粒子径で、研磨速度の高い微粒αアルミナを製造する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing fine particle alpha-alumina having a high rate of transformation to the alpha-alumina, a sufficiently small particle size, and a high rate of polishing. - 特許庁
廃液を発生することなく十分に硬化している粒子状の樹脂製研磨材を効率良く安価に製造する方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a method efficiently manufacturing granular resin abrasive sufficiently hardened without generating waste liquid at a low cost. - 特許庁
研磨粒子を用いなくても汚れに対する十分な掻き取り性を有する清掃用シートを提供すること。例文帳に追加
To provide a cleaning sheet which achieves sufficient performance of scraping off dirt without using polishing grains. - 特許庁
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