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窒化ケイ素化合物の英語
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英訳・英語 silicon nitride compound
「窒化ケイ素化合物」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
窒素含有ケイ素化合物膜の形成方法例文帳に追加
METHOD FOR FORMING SILICON COMPOUND FILM COMPRISING NITROGEN - 特許庁
好適な密着促進剤には、窒素、窒素含有化合物、炭素含有化合物、炭素及び窒素含有化合物、ケイ素含有化合物、ケイ素及び炭素含有化合物、ケイ素、炭素及び窒素含有化合物、そしてそれらの混合物が含まれる。例文帳に追加
The adhesion promoting agent preferably includes nitrogen, nitrogen containing compounds, carbon containing compounds, carbon and nitrogen containing compounds, silicon containing compounds, silicon and carbon containing compounds, silicon, carbon and nitrogen containing compounds, and their mixtures. - 特許庁
さらに可溶性ケイ素化合物を含むものは、酸化ケイ素の析出がなくなおかつ酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択比も高い。例文帳に追加
Further, by the etching composition comprising a soluble silicon compound, there will be no precipitation of the silicon oxide and etching selectivity for silicon nitride to silicon oxide is high as well. - 特許庁
酸化ケイ素および窒化ケイ素膜の誘電的特性を変更するための有機シラン化合物例文帳に追加
ORGANOSILANE COMPOUNDS FOR MODIFYING DIELECTRIC PROPERTY OF SILICON OXIDE FILM AND SILICON NITRIDE FILM - 特許庁
また、前記ケイ素化合物中には、炭化ケイ素およびまたは窒化ケイ素は実質的に含まれないことが好ましい。例文帳に追加
It is preferable that silicon carbide or silicon nitride is substantially not contained in the silicon compound. - 特許庁
1個以上のメルカプト基を有する有機ケイ素化合物とクロロシランとを含窒素複素環化合物の存在下に反応させて、硫黄−ケイ素結合を形成することを特徴とする有機ケイ素化合物の製造方法。例文帳に追加
In the method for producing the organosilicon compound, an organosilicon compound having one or more mercapto groups is reacted with chlorosilane in the presence of a nitrogen-containing heterocyclic compound, to thereby form a sulfur-silicon bond. - 特許庁
リン酸、可溶性ケイ素化合物、硝酸及び/又は硝酸塩、水を含んでなり、しかもフッ酸を含有しない窒化ケイ素のエッチング用組成物では、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択比が高く、なおかつバッチ処理を繰り返した場合における酸化ケイ素の再析出の問題がない。例文帳に追加
The composition for etching silicon nitride which contains phosphoric acid, a soluble silicon compound, nitric acid and/or nitrate, and water and contains no hydrofluoric acid has a high etching selection ratio of silicon nitride to silicon oxide and is free of a problem of redeposition of silicon oxide when a batch process is repeated. - 特許庁
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「窒化ケイ素化合物」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
硫酸、フッ化物及び水を含有するエッチング液で窒化ケイ素及び/又は窒化酸化ケイ素をエッチングした後、このエッチング液を加熱及び/又は減圧して、エッチングにより生じたケイ素化合物を除去する。例文帳に追加
Silicon nitride and/or silicon nitride oxide is etched by an etchant containing sulfuric acid, fluoride and water, and thereafter the etchant is heated and/or depressurized to remove a silicon compound produced by the etching. - 特許庁
シリコン含有化合物と窒素含有化合物とを反応させることにより窒化ケイ素層204を形成する。例文帳に追加
A silicon-contained compound is reacted with a nitride-contained compound to form a silicon nitride layer 204. - 特許庁
有機ケイ素化合物を含有し、有機ケイ素化合物が、分子内に、1個以上のケイ素−酸素結合と、1〜10個の硫黄原子と、を有し、かつ、ケイ素原子から原子数で3〜8個離れた位置に窒素原子を1個以上有するポリサルファイド系硬化型組成物である。例文帳に追加
The polysulfide-based curable composition contains an organic silicon compound which has ≥1 silicon-oxygen bonds, 1-10 sulfur atoms and ≥1 nitrogen atoms at positions apart from silicon atoms in 3-8 number of atoms in the molecule. - 特許庁
本発明の窒化ケイ素研磨用組成物は、コロイダルシリカと、リン酸系化合物および硫酸化合物からなる研磨助剤とを含む。例文帳に追加
The composition for polishing the silicon nitride contains colloidal silica, and a polishing aid comprising a phosphoric acid compound and a sulfuric acid compound. - 特許庁
ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤と、窒素−ケイ素結合を有する化合物とを含有することを特徴とする接着剤組成物。例文帳に追加
This adhesive composition contains a radically polymerizable compound, a radical polymerization initiator and a compound having a nitrogen-silicon bond. - 特許庁
リン化合物、ホウ素化合物及び/又はそれらのフッ化物を含んでなる窒化ケイ素のエッチング用組成物では、長時間の使用においても酸化ケイ素の析出がない。例文帳に追加
By the etching composition comprising a phosphorus compound, a boron compound, a silicon compound and/or their fluorides thereof, there will be no precipitation of silicon oxide even when the composition is used for a long period of time. - 特許庁
窒化ケイ素焼結体は、窒化ケイ素を75〜97質量%、窒化チタン粒子を0.2〜5質量%、およびSi−R−Al−O−N化合物(R:希土類元素)を主として含む粒界相を2〜20質量%の範囲で含有する。例文帳に追加
The silicon nitride sintered compact comprises silicon nitride within the range of 75-97 mass % titanium nitride particles within the range of 0.2-5 mass % and a grain boundary phase consisting essentially of an Si-R-Al- O-N compound (R is a rare earth element) within the range of 2-20 mass %. - 特許庁
複合層20は、ケイ素含有の化合物、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、あるいは、それらの混合物である誘電材料16と、相変化物質、窒素をドープした相変化物質、あるいは、酸素をドープした相変化物質である低熱伝導材料18、との交錯層、あるいは、混合層である。例文帳に追加
The composite layer 20 is a complex layer or a mixed layer of the dielectric material 16 which is a silicon-containing compound, for example, silicon oxide, silicon nitride or a mixture of them, and the low heat-conducting material 18 which is a phase change material, a phase change material doped with nitrogen, or a phase change material doped with oxygen. - 特許庁
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