荷電粒子分布の英語

比較的簡易な構成により、選別対象である粒子に荷電を要さず、しかも質量分布（サイズ分布）の狭い確実な粒子選別を可能とする。例文帳に追加

To surely sort particles with a narrow mass distribution (size distribution) by a relatively simple constitution without charging the sorting object particles. - 特許庁

荷電粒子線の線量分布における辺縁部のむらや低下を簡易に抑制することができる荷電粒子線照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide charged-particle beam irradiation equipment which can easily suppress unevenness and deterioration in marginal sections in dose distributions of a charged-particle beam. - 特許庁

荷電粒子ビームのビーム強度分布測定方法及び荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法例文帳に追加

BEAM INTENSITY DISTRIBUTION MEASURING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM, AND BEAM RESOLUTION CAPACITY MEASURING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM - 特許庁

描画中の電流密度分布の自動調整が可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam drawing device and a charged particle beam drawing method which can automatically adjust the current density distribution during drawing. - 特許庁

粒子源の放射角分布を事前に検査し常に高品質な露光パターンを維持することが可能な荷電粒子線露光装置と、これに用いる荷電粒子線成形マスク、および荷電粒子線検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam exposure device that can always maintain a high-quality exposure pattern by inspecting the irradiating angle distribution of a particle source in advance, and to provide a charged particle beam forming mask and a method of inspecting a charged particle beam used for the exposure device. - 特許庁

荷電粒子の強度分布測定方法および装置、並びに半導体製造装置例文帳に追加

INTENSITY DISTRIBUTION MEASUREMENT METHOD AND DEVICE FOR CHARGED PARTICLES, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS - 特許庁

荷電粒子線または電磁波が照射された物質における電荷分布およびポテンシャル分布を正確に解析できる電荷分布の解析方法、および、ポテンシャル分布の解析方法、それらを用いた電磁場解析方法、荷電粒子光学系の設計方法、荷電粒子光学系、および荷電粒子線装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an analyzing method of charge distribution as well as analyzing method of potential distribution which accurately analyzes charge distribution and potential distribution at a material to which charged particle beam or electromagnetic wave is projected, and analyzing method of electromagnetic field, charged particle optical system, designing method for it, and charged particle beam device. - 特許庁

荷電粒子線照射装置１では、制御装置６が、照射ラインに沿って荷電粒子線Ｒを照射するときの走査速度を、荷電粒子線Ｒの線量分布における辺縁部が補正されるように変更する。例文帳に追加

In the charged-particle beam irradiation equipment 1, the controller 6 modifies a scanning speed in the irradiation of an object with the charged-particle beam R along an irradiation line so as to compensate the marginal sections in the dose distributions of the charged-particle beam R. - 特許庁