表洗ポンプの英語

本発明の粒子含有液の無菌均質化方法は、プランジャポンプ１０により粒子含有液を均質バルブに送液して均質化する粒子含有液の無菌均質化方法において、プランジャポンプ１０におけるシリンダ１１内に装填されたパッキング（第１のパッキング５１）より後方にてプランジャ１２表面を電解水で洗浄する。例文帳に追加

This sterile homogenization method of the particle including liquid, is a sterile homogenization method of the particle including liquid for homogenizing the particle including liquid by sending the liquid to the homogenizing valve by the plunger pump 10, and cleans a surface of a plunger 12 by the electrolytic water in the rear of the packing (the first packing 51) loaded in the cylinder 11 in the plunger pump 10. - 特許庁

案内羽根25, 26は旋回流を上下方向の流れに変換し、攪拌槽10に投入された破砕し渣は表面に浮くことなく下面の排出管22より排水ポンプ24によって流体移送管23に吸引され、地表近くに設置されたし渣洗浄装置に流体移送される。例文帳に追加

The guide blades 25 and 26 convert the swirl into the flow in the vertical direction, and the pulverized dregs charged into the stirring tank 10 are not afloat but sucked to a fluid transfer pipe 23 by a water discharge pump 24 from a discharge pipe 22 below the fluid surface, and fluid-transferred to a dregs cleaning device installed close to the ground surface. - 特許庁

流体噴流を生成する流体ポンプに接続するための少なくとも１つのノズルと、流体マニピュレータ３の少なくとも一部が入る洗浄域３３に向かって流体噴流を偏向するよう位置付けられた少なくとも１つの偏向板表面を含む１または２以上の再利用可能な流体マニピュレータを洗浄するための洗浄要素１８とする。例文帳に追加

A wash element 18 for washing one or more reusable fluid manipulators comprises: at least one nozzle for connection to a fluid pump to generate a fluid jet; and at least one deflector surface positioned to deflect the fluid jet toward a washing zone 33 for receiving at least a portion of a fluid manipulator 3. - 特許庁

水洗トイレのタンクの水を小型ポンプで車のラジエターに代表される熱交換機に循環させ、そこにファンを用いて送風する事により、熱交換された室温より低い温度の風を発生させる事を実現した。例文帳に追加

The water in the tank for the flush toilet is circulated by a small pump through a heat exchanger represented by a radiator for a vehicle while air is ventilated through the heat exchanger employing a fan whereby the generation of air, whose heat is exchanged already and whose temperature is lower than the room temperature, is realized. - 特許庁

剥離処理が終ると基板Ｗは洗浄処理室４へ搬送され、ポンプ３０が駆動されて純水供給源２９内に貯溜されている二酸化炭素を溶存させた純水がノズル２４から基板Ｗの表面に供給される。例文帳に追加

After the flaking process, the substrate (W) is carried to the cleaning processing chamber 4 and pump 30 is driven to feed the surface of the substrate (W) with pure water dissolved with carbon dioxide and stored in a pure water feed source 29. - 特許庁

ジェットポンプ４７によって高圧に加圧された純水をウェハＷに供給して洗浄処理するジェットノズル４０を備えた表面洗浄処理装置７において，ウェハＷにミスト状の炭酸水溶液を供給する炭酸水溶液供給ノズル４１をジェットノズル４０と別に設けた。例文帳に追加

A processing apparatus for surface cleaning having a jet nozzle 40 for supplying deionized water pressurized by a jet pump 46 for the cleaning process, is provided with, aside from the nozzle 40, a nozzle 41 for supplying aqueous solution of carbonic acid, which supplies aqueous solution of carbonic acid in a form of mist to a wafer. - 特許庁

電子工業用基板表面の付着物の除去に当り、洗浄を終えた洗浄液を実質的に濃度変化の少ないオゾンを利用する処理方法で再生し、かつ微粒子除去用フィルターや送液ポンプに化学的損傷を与えずに超微粒子を除いて再利用できる技術を提供する。例文帳に追加

To provide such a technology for removing depositions on the substrate for electronic industry, which can reproduce a cleaning liquid which is once used for cleaning, through a treating method using an ozone having substantially less change in concentration, and which can remove ultra-fine particles without giving chemical damages to a filter for removing fine particles or a liquid feed pump and reuse the cleaning liquid. - 特許庁