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英訳・英語 transition element


日英・英日専門用語辞書での「転移元素」の英訳

転移元素


「転移元素」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 17



例文

強磁性相においてNiAs型六方晶構造を有し、第1元素としてのMnと、第2元素としてのAsと、第2元素と置換可能な第3元素とを含み、230K以上318K未満の温度範囲で磁気相転移を起こす。例文帳に追加

This substance has an NiAs type hexagonal structure in a ferromagnetic phase and a third element substitutable for the second element, and brings about a magnetic phase transition in a temperature range not lower than 230 K to lower than 318 K. - 特許庁

この耐還元性誘電体セラミックの相転移点は−25℃未満であることが好ましく、また、希土類元素を含有していることが好ましい。例文帳に追加

The phase transition temp. of the reduction resistant dielectric ceramic is preferably <-25°C and preferably contains rare earth elements. - 特許庁

組成転移層は上部物質層をなす元素及び下部物質層をなす元素の両方を含んで、下部物質層上から上部物質層に至るまでの濃度勾配を持って、上部物質層に隣接する部分で上部物質層を構成する元素の濃度が相対的に大きい。例文帳に追加

The composition transition layer contains both forming elements of the upper material layer and the lower material layer, has a concentration gradient from above the lower material layer up to the upper material layer, and the concentration of the elements forming the upper material layer is relatively large at its adjoining part to the upper material layer. - 特許庁

本発明は、相互作用パラメータが相異なる物質元素をそれぞれ含んでなる下部物質層及び上部物質層の界面に組成転移層が導入される多重膜を提供する。例文帳に追加

This invention provides a multifilm having a composition transition layer led into the interface between a lower material layer and an upper material layer which respectively contain material elements whose interaction parameters are different from each other. - 特許庁

CaまたはSr元素およびLa,Mn,Oの元素を含むペロブスカイト型マンガン酸化物薄膜において、電子冷却温度範囲内に金属−絶縁体相転移温度が存在することを特徴とし、さらに、前記薄膜がゾルーゲル法にて作製されたペロブスカイト型マンガン酸化物薄膜であることを特徴とし、前記薄膜を用いて、赤外線検出素子を提供することを特徴とする。例文帳に追加

In the thin perovskite type manganese oxide film contg. the element Ca or Sr and the elements La, Mn and O, a metal-insulator phase transition temp. is present in an electronic cooling temp. range, The film is formed by a sol-gel process. - 特許庁

少なくとも脂環族ジカルボン酸成分および脂環族ジオール成分を含むポリエステル組成物であり、アンチモン元素および/またはゲルマニウム元素の含有量が20ppm以上、150ppm以下、ガラス転移温度が65℃以上90℃以下、屈折率が1.500以上1.570以下、ゲル化率が30重量%未満であるポリエステル組成物とする。例文帳に追加

The polyester composition comprises at least an alicyclic dicarboxylic acid component and an alicyclic diol component and has the content of antimony element and/or germanium element of20 ppm and ≤150 ppm, a glass transition temperature of65°C and ≤90°C, a refractive index of ≥1.500 and ≤1.570 and a gelation rate of <30 wt.%. - 特許庁

例文

これにより転位の発生を抑制しつつ、かつ、Pウエル層4とNウエル層5それぞれに適した転移抑制元素を打ち分けることで拡散抵抗の上昇を抑制し、歩留まりを向上させ、素子の信頼性を高めることができる。例文帳に追加

The occurrence of a dislocation is suppressed, therefore, and the rise of diffusion resistance is suppressed, the yield ratio and the reliability of the devices is improved by implanting suitable dislocation suppressive elements into the P-type well layer 4 and the N-type well layer 5, respectively. - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「転移元素」の英訳

転移元素


「転移元素」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 17



例文

シリコン結晶中に埋め込み構造で作成されているシリカガラスに不純物元素を含有させることにより、ガラス転移温度(Tg)を低下させ、且つガラスの熱膨張係数(α)を増加させ、ガラスの熱特性をシリコンのそれに近づける。例文帳に追加

An impurity compound is incorporated into silicon glass formed in a structure of being embedded into the silicon crystal, so that the glass transition temperature (Tg) is lowered, the coefficient of thermal expansion (α) of the glass is increased and the thermal characteristics of the glass are made to approach to those of the silicon. - 特許庁

本発明は、Sn元素を含むはんだを用いてなる装置から該はんだを回収する方法であって、この装置を低温に曝す冷却処理により、上記はんだ中のβ−Snをα−Snに転移させ、該はんだを崩壊させて上記装置と該はんだとを分別することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for recovering solder containing an Sn element from a device made by using the solder, by cooling treatment where the device is exposed to a low temperature, β-Sn is transited to α-Sn to collapse the solder, and the device and solder are fractionated. - 特許庁

第一の窒化物半導体においてIII属元素の含有量の合計に対するAl含有量が50原子%以上であり、転移密度が10^11/cm^2以下であり、(002)面におけるX線ロッキングカーブの半値幅が200sec以下である。例文帳に追加

In the first nitride semiconductor, the Al content amount is 50 atom% or more against the sum of III element contents, a dislocation density is 10^11/cm^2 or below, and the half band width of an X-ray locking curve on a (002) plane is 200 sec or below. - 特許庁

核医学診断装置1は、被検体Pに投与された放射性同位元素から放出される放射線を検出する放射線検出器21と、被検体Pの体軸O方向を中心に放射線検出器21を回転移動させる回転駆動機構22とを備える。例文帳に追加

The diagnostic equipment for nuclear medicine 1 comprises: a radiation detector 21 for detecting radiation radiated from the radio isotope administered to a subject P; and a rotary driving mechanism 22 for rotatably moving the radiation detector 21 while centering a body axis O of the subject P. - 特許庁

PEFC用電極の製造方法において、カ−ボン粒子と陽イオン交換樹脂とを含む混合物を、前記陽イオン交換樹脂のガラス転移温度以上、分解温度以下の温度で加熱した後、前記混合物に含まれる前記陽イオン交換樹脂に白金族金属元素を含む陽イオンを吸着させ、その後前記陽イオンを還元する工程を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The manufacturing method of a PEFC electrode includes a process in which a mixture containing carbon particles and a cation exchange resin is heated at a temperature of glass transition temperature or more and decomposition temperature or less of the cation exchange resin, and then, cations containing a platinum metal element are adsorbed to the cation exchange resin contained in the above mixture, and then the cations are reduced. - 特許庁

窒化物系半導体発光素子は、n型クラッド層120と、前記n型クラッド層上に形成された活性層130と、前記活性層上に形成され、第3族転移元素を含むp型窒化物半導体からなる電子遮断層140と、前記電子遮断層上に形成されたp型クラッド層150とを含む。例文帳に追加

This nitride semiconductor light emitting device comprises: an n-type clad layer 120; an active layer 130 formed on the n-type clad layer; an electron blocking layer 140 which is formed on the active layer and consists of a p-type nitride semiconductor containing Group III transition elements; and a p-type clad layer 150 formed on the electron blocking layer. - 特許庁

ポリカルボン酸とポリオールとの重縮合反応により得られ、該ポリカルボン酸の3mol%以上50mol%未満が式(1)及び/又は式(2)で表され、触媒由来の金属元素の含有量が0ppm以上10ppm以下であり、ガラス転移温度が50℃以上80℃以下であることを特徴とする静電荷像現像トナー用結着樹脂。例文帳に追加

The binder resin for the electrostatic image developing toner is obtained by polycondensation reaction of a polycarboxylic acid and a polyol, wherein a fraction from 3 mol% to less than 50 mol% of the polycarboxylic acid is expressed by formula (1) and/or formula (2), including 0 ppm to 10 ppm of metal element derived from a catalyst, and has a glass transition temperature of from 50°C to 80°C. - 特許庁

例文

窒化物半導体発光素子は、n型窒化物半導体層220と、前記n型窒化物半導体層上に形成され、第3族転移元素を含む窒化物半導体層からなる電子放出層230と、前記電子放出層上に形成された活性層240と、前記活性層上に形成されたp型窒化物半導体層250と、を含む。例文帳に追加

This nitride semiconductor device comprises an n-type nitride semiconductor layer 220, an electron emitting layer 230 comprising a nitride semiconductor layer including a tertiary group transition element, formed on the n-type nitride semiconductor layer, an active layer 240 formed on the electron emitting layer, and a p-type nitride semiconductor layer 250 formed on the active layer. - 特許庁

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