透明薄膜材料の英語

画素電極４２Ａの透明電極に対向する面側に、対向する透明電極と同材料の導電性薄膜４３を、絶縁性薄膜４５を介して形成する。例文帳に追加

A conductive thin film 43 made of the same material as a confronting transparent electrode is formed, via an insulating thin film 45, on the surface of a pixel electrode 42A confronting with the transparent electrode. - 特許庁

基板３０上に中間層材料の薄膜を形成し、該薄膜にマイクロレンズ原版１０を押し付けて成形して透明な中間層を形成してから、レンズ材料を充填しても良い。例文帳に追加

Otherwise a thin film of an intermediate layer material is formed on the substrate 30, a transparent intermediate layer may be formed by molding while pressing the microlens original plate 10 to the thin film and then the lens materials may be charged. - 特許庁

透明な基板１２の表面に透明な電極材料により所定のピッチでストライプ状となるように透明電極１４を形成し、この透明電極１４にＥＬ材料からなる発光層２０を真空薄膜形成技術により積層する。例文帳に追加

Transparent electrodes 14 are formed with a transparent electrode material at specified intervals in a stripe shape on the surface of a transparent substrate 12, and a luminescent layer made of an EL material is stacked on the transparent electrodes 14 by vacuum thin film forming technology. - 特許庁

ガラスや樹脂等の透明な基板１０の表面にＩＴＯ等の透明な電極材料により所定の形状となるように透明電極１２を形成し、この透明電極１２に有機ＥＬ材料からなる発光層２２を蒸着等の真空薄膜形成技術により積層する。例文帳に追加

A transparent electrode 12 is formed in a predetermined shape from a transparent electrode material, such as ITO(indium tin oxide), on the surface of a transparent substrate 10 of glass or resin, etc., and an emission layer made from an organic EL(electroluminescent) material is laminated over the transparent electrode 12 by vacuum thin film formation techniques such as vapor deposition. - 特許庁

ガラスや樹脂等の透明な基板１２の表面にＩＴＯ等の透明な電極材料により所定のピッチでストライプ状となるように透明電極１４を形成し、この透明電極１４にＥＬ材料からなる発光層を蒸着等の真空薄膜形成技術により積層する。例文帳に追加

Transparent electrodes 14 are formed in a stripe shape at the prescribed pitch with a transparent electrode material such as ITO on the surface of a transparent substrate 12 made of glass or a resin, and a luminescent layer made of an EL material is laminated on the transparent electrodes 14 by the vacuum thin film forming technique such as deposition. - 特許庁

薄膜太陽電池１００は、好ましくは、第１の透明導電層３と半導体層５との間に結晶質の透明導電性材料からなる第２の透明導電層４をさらに備える。例文帳に追加

Preferably, the thin-film solar cell 100 is further provided with a second transparent conductive layer 4 composed of a crystalline transparent conductive material between the first transparent conductive layer 3 and semiconductor layer 5. - 特許庁

薄膜材料が、干渉変調器及び透明基板を覆って堆積されて、干渉変調器を封入する。例文帳に追加

A thin film material is deposited over an interferometric modulator and transparent substrate to encapsulate the interferometric modulator. - 特許庁

ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。例文帳に追加

To provide new thin film materials that can be used to coat transparent substrates of the glass type, new deposition processes and new installations. - 特許庁