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酸化ダメージの英語
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英訳・英語 oxidative damage
「酸化ダメージ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 162件
スパッタリング法によるダメージをモリブデン酸化物によって抑制できる。例文帳に追加
The damage due to the sputtering method can be suppressed by the molybdenum oxide. - 特許庁
コンタクトの酸化を防止しつつ、強誘電体キャパシタのダメージを回復させる。例文帳に追加
To recover damages on a ferroelectric capacitor while preventing oxidation of a contact. - 特許庁
この時、R1<L1(ゲート酸化膜のダメージとなる規定値)を満たすように配線のレイアウトを行う。例文帳に追加
Hereupon, a wiring layout is carried out so that R1<L1 (a specified value to cause damage to the gate oxide film) is satisfied. - 特許庁
低温でダメージの少ない良質な酸化膜を形成する方法とその装置を提供する。例文帳に追加
To provide a method and a device for forming an oxide film of good quality with little damage at a low temperature. - 特許庁
紫外光による基板のダメージを最小限に抑えながら基板の酸化膜の改質を行う。例文帳に追加
To reform an oxide film on a substrate while minimizing damage on the substrate due to ultraviolet light. - 特許庁
次に、ダメージが導入されたスルー酸化膜13をウエットエッチングにより除去する。例文帳に追加
Next, the damaged through-oxide film 13 is removed through wet etching. - 特許庁
本発明は、母材にダメージを与えることなく耐酸化性膜を除去することを課題とする。例文帳に追加
To remove an oxidation resistant film without giving damage to a base material. - 特許庁
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「酸化ダメージ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 162件
その後、n^- 型エピ層2を犠牲酸化したのち、この犠牲酸化によってできた酸化膜を除去し、RIEによるダメージを除去する。例文帳に追加
Thereafter the epitaxial layer 2 is subjected to sacrificial oxidation and an oxide film formed by the sacrificial oxidization is removed to eliminate the damages by the RIE. - 特許庁
低誘電率膜であるSiCOH膜とCu配線との夫々の露出面に炭素の脱落したダメージ層及び酸化物が夫々形成された基板に対してダメージ層を回復させ且つ酸化物を還元すること。例文帳に追加
To recover a damaged layer for a substrate with a decarbonized damaged layer and an oxide formed on respective exposed surfaces of a SiCOH film as a low dielectric constant film and Cu wiring and to reduce the oxide. - 特許庁
次に、スルー酸化膜にアルゴンのイオン注入を行い、ダメージが導入されたスルー酸化膜13を形成する。例文帳に追加
Then, argon ions are implanted into the through-oxide film 12 for the formation of a through-oxide film 13 where damages are introduced. - 特許庁
ゲート酸化膜やゲート酸化膜と半導体基板の界面にダメージを与えることなく、界面準位の低減を図る。例文帳に追加
To reduce an interface level without damaging a gate oxide film and an interface between the gate oxide film and a semiconductor substrate. - 特許庁
厚いゲート酸化膜が、薄いゲート酸化膜の形成前に行われる洗浄、フッ酸前処理工程によってダメージを受けないようにする。例文帳に追加
To prevent a thick gate oxide film from being damaged by a washing and hydrofluoric acid pretreatment process that is made before forming a thin gate oxide film. - 特許庁
切断端面、開口部端面のマイクロクラック等のダメージ層を除去して性能を向上できると共にダメージ層の除去が容易にできる酸化物単結晶材料の加工方法を提供する。例文帳に追加
To provide a processing method for monocrystalline oxide materials which enables improvement in performance by removing damaged layers such as microcracks in cut end faces and opening end faces and also enables the easy removal of the damaged layers. - 特許庁
自然酸化膜除去工程(P2)、スライスダメージ層除去工程(P4)、テクスチャー形成工程(P6)、ダメージ層除去工程(P8)を同一の真空処理槽2内で行う。例文帳に追加
The natural oxide film removing step (P2), slicing damaged layer removing step (P4), texture forming step (P6), and damaged layer removing step (P8) are carried out in the same vacuum processing tank 2. - 特許庁
この還元処理では過酸化水素水を用いるため、表面電極7やデバイスにダメージを与えることがない。例文帳に追加
The surface electrode and device are not damaged because of employing hydrogen peroxide in the reducing process. - 特許庁
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