酸化第一銅の英語

多孔質の担体１５に、酸化第一銅と三水酸化硝酸銅とを担持してなることを特徴とする脱臭成形体１。例文帳に追加

In this deodorizing molding, cuprous oxide and copper nitrate trihydroxide are carried on a porous carrier 15. - 特許庁

多孔質の担体１５に，酸化第一銅と三水酸化硝酸銅とを担持してなることを特徴とする脱臭成形体１。例文帳に追加

The deodorization molding 1 carries cuprous oxide and copper trihydroxyde nitrate on a porous carrier 15. - 特許庁

酸化第一銅、硫化第一銅、ヨウ化第一銅、又は塩化第一銅などの一価銅化合物を有効成分として含み、微生物の短時間不活化に用いるための微生物不活化剤。例文帳に追加

There is provided the microorganism-inactivating agent used for the inactivation of the microorganisms in a short time, containing a monovalent copper compound such as cuprous oxide, cuprous sulfide, cuprous iodide, or cuprous chloride as an active ingredient. - 特許庁

ダイオード４は、銅−亜鉛合金を低温酸化して、形成された亜鉛酸化物を主とする第一層と銅酸化物を主とする第二層とを備えた二層構造膜の酸化物半導体である。例文帳に追加

The diode 4 is an oxide semiconductor of two layer structure film having a first layer mainly containing a zinc oxide formed by the low temperature oxidation of the copper-zinc alloy, and a second layer which is mainly a copper oxide. - 特許庁

その後、銅層の酸化が行われない第一雰囲気中にて第一熱処理を行う。例文帳に追加

After that, a first heat treatment is performed in a first atmosphere in which the copper layer is not oxidized. - 特許庁

従って、銅酸化物を含有する第一の銅薄膜５１と、第一の銅薄膜５１よりも銅酸化物の含有量の少ない第二の銅薄膜５２をエッチングする際に、オーバーエッチングが起こらず、アンダーカットと呼ばれる現象が起こらない。例文帳に追加

Thus, overetching can be prevented in etching a first copper thin film 51 containing a copper oxide and a second copper thin film 52 having the content of a copper oxide lower than that of the first copper thin film 51, and a phenomenon called "undercut" can be prevented. - 特許庁

１次粒径が１００ｎｍ以下の酸化第一銅微粒子の分散体であって、該酸化第一銅微粒子の含量が４０重量％以上であり、水含有量が最大で８．０重量％であることを特徴とする分散媒が有機分散媒である酸化第一銅濃厚分散体。例文帳に追加

The cuprous oxide concentrated dispersion is a dispersion of cuprous oxide fine particles with a primary particle size of 100 nm or less, in which the content of the cuprous oxide fine particles is 40 wt.% or more and the content of water is up to 8.0 wt.%. - 特許庁

酸化第一銅原料及び分散剤を含有する溶液を撹拌装置中に注入した後、還元作用を有する化合物を含有する溶液を前記撹拌装置中に注入し、撹拌混合させて酸化第一銅結晶を成長させる酸化第一銅粒子の成長工程を含む酸化第一銅粒子の製造方法である。例文帳に追加

The method for producing a cuprous oxide particle comprises pouring a solution containing a cuprous oxide raw material and a dispersant into an agitating apparatus, thereafter pouring a solution containing a compound having reduction actions into the agitating apparatus, and growing the cuprous oxide crystal by agitating and mixing the solution. - 特許庁