銅キレートの英語

銅電解精練工程で得られる錫を含む電解液を、ホスホン酸とスルホン酸とを官能基に持つキレート樹脂に接触させ、電解液中の金属イオンをキレート樹脂に吸着させる工程と、キレート樹脂を水で洗浄する工程と、キレート樹脂に溶離液を通し、キレート樹脂から金属イオンを溶離させる工程とを含む浄液方法である。例文帳に追加

A purifying method includes steps of: contacting the electrolytic solution containing the tin obtained in a copper electrolysis refining step to a chelate resin having a phosphonic acid and a sulfonic acid as functional groups to adsorb metal ions in the electrolytic solution to the chelate resin; washing the chelate resin by water; and passing an eluent through the chelate resin to elute the metal ions from the chelate resin. - 特許庁

続いて、蒸留液１０がキレート樹脂カラム４を通過したときに、キレート樹脂層４１が蒸留液１０中に溶出した銅イオンを捕捉し、得られる処理液５０の銅濃度を飲料水の基準値以下にする。例文帳に追加

Then, while the distillate 10 passes through the chelate resin column 4, the chelate resin layer 41 captures copper ion eluted in the distillate 10 to make the copper concentration of the obtained treated liquid 50 at the standard value of that of drinking water or lower. - 特許庁

銅構造物を含有する半導体基板から残留物を除去するための１，３−ジカルボニル化合物キレート化剤及び銅防蝕剤を含む組成物例文帳に追加

COMPOSITION CONTAINING 1,3-DICARBONYL COMPOUND CHELATING AGENT AND COPPER ANTICORROSIVE FOR REMOVING RESIDUE FROM SEMICONDUCTOR WAFER CONTAINING COPPER BODY STRUCTURE - 特許庁

金属被膜形成物質やキレート剤がワイヤのブラストメッキから侵出した銅を捕獲し、銅のウェーハバルクへの侵入を防止する。例文帳に追加

The metal film forming substance or the chelating agent captures copper exuded from blast plating of a wire and prevents the copper from invading a wafer bulk. - 特許庁

絶縁油中にキレート剤を添加することで絶縁油中に含有する硫化銅中間物質の銅−硫黄錯体を不活性化させる。例文帳に追加

A copper-sulfer complex of an intermediate of a sulfide of copper, contained in the insulating oil is inactivated by adding the chelating agent into the insulating oil. - 特許庁

この電解銅めっき皮膜は20〜150 g/Lの硫酸銅及び30〜250 g/Lのキレート剤を含有し、かつ銅イオンの還元剤を含有しない、pHを10.5〜13.5に調整した電解銅めっき液を使用する電解銅めっき方法により形成される。例文帳に追加

This electrolytic copper plating film is formed by the electrolytic copper plating method using the electrolytic copper plating solution which contains 20 to 150 g/L copper sulfate and 30 to 250 g/L chelating agent and does not contain a reducing agent of copper ions and is regulated to a pH 10.5 to 13.5. - 特許庁

本発明の殺菌・除菌用酸化触媒は、（ａ）配位座が５以下のキレート剤および／または該キレート剤から生じた陰イオンと、（ｂ）銅化合物とを含有することを特徴とする。例文帳に追加

The oxidation catalyst for sterilization/disinfection contains (a) a chelating agent having ≤5 coordination positions and/or an anion derived from the chelating agent and (b) a copper compound. - 特許庁

本発明の漂白助剤は、（ａ）配位座が５以下のキレート剤および／または該キレート剤から生じた陰イオンと、（ｂ）銅および／またはマンガン化合物とを含有することを特徴とする。例文帳に追加

The bleaching aid is characterized by comprising (a) a chelating agent having ≤5 coordination sites and/or an anion produced from the chelating agent, and (b) a copper compound and/or a manganese compound. - 特許庁