電子ビーム偏向器の英語

成膜装置は、薄膜材料容器５と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段とを備える。例文帳に追加

This film forming device is equipped with a thin film material container 5, an electron beam irradiating means to irradiate electron beams, and a deflecting means to deflect the electron beams output from the electron beam irradiating means so that it goes toward the thin film material container. - 特許庁

描画装置１００は、電子ビーム２００を偏向せずに通過させることでビームＯＮさせ、偏向することでビームＯＦＦさせるＢＬＫ偏向器２１２と、電子ビーム２００を偏向して成形する成形偏向器２０５と、電子ビーム２００を試料１０１の所定の位置に偏向する対物偏向器２０８と、を備える。例文帳に追加

The lithography apparatus 100 comprises a BLK deflector 212 for turning on electron beams 200 by passing them without any deflection and turning off the beams by deflecting them, a forming deflector 205 for deflecting the electron beams 200 for forming, and an objective deflector 208 for deflecting the electron beams 200 to a predetermined position in a sample 101. - 特許庁

複数の電子ビームをそれぞれ偏向する複数の偏向器間のクロストークを低減し、ウェハにパターンを精度よく露光することができる電子ビーム偏向装置及び電子ビーム露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam deflector and an electron beam aligner in which crosstalk can be reduced among a plurality of deflectors for deflecting a plurality of electron beams respectively and a wafer can be exposed with a pattern accurately. - 特許庁

ウェハにおける所望の領域に電子ビームを照射させるべく電子ビームを偏向する偏向器の偏向歪みを精度良く補正する電子ビーム補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam correcting method which precisely corrects deflection distortion of a deflector which corrects an electron beam to be applied on a desired area of a wafer. - 特許庁

本発明は電子ビーム装置に関し、電子レンズと偏向器の形状を小型化することができる電子ビーム装置を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide an electron beam apparatus in which the shapes of an electron lens and a deflector are reduced in size. - 特許庁

複数の偏向器の間に生成される電界を遮蔽することにより、複数の電子ビームを精度よくウェハに照射することができる電子ビーム露光装置及び電子ビーム偏向装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam aligner and an electron beam deflector in which a wafer can be irradiated with a plurality of electron beams accurately by shielding electric fields generated among a plurality of deflectors. - 特許庁

電子線鏡筒装置１０を、電子線源１４から生じた電子ビーム１５をそのビーム光軸１９を平行に保ったまま偏向する１対の主偏向器２１及び２２の間に、電子ビーム１５がマスク３０に所定入射角度で入射するように電子ビーム１５を偏向する副偏向器５１及び５２を配置して構成する。例文帳に追加

The electron-beam tube device 10 is constituted by arranging sub-deflectors 51 and 52 deflecting electron beams 15 so that electron beams 15 are projected to a mask 30 at a specified incident angle between a pair of main deflectors 21 and 22 deflecting electron beams 15 generated from an electron-beam source 14 as the beam optical axis 19 of electron beams is kept in parallel. - 特許庁

近接露光方式電子ビーム露光装置の副偏向器のゲイン較正方法例文帳に追加

GAIN CALIBRATION METHOD FOR SUB-DEFLECTOR OF PROXIMITY EXPOSURE METHOD ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE - 特許庁