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非結晶半導体の英語
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「非結晶半導体」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 473件
次いで、非晶質半導体膜及び非晶質半導体を共に結晶化し、多結晶半導体膜及び多結晶半導体16aにし、さらに多結晶半導体膜を熱酸化して熱酸化膜17を形成する。例文帳に追加
Both the amorphous semiconductor film and the amorphous semiconductor are crystallized, a polycrystalline semiconductor film and a polycrystalline semiconductor 16a are formed and the polycrystalline semiconductor film is oxidized thermally to form a thermal oxidation film 17. - 特許庁
半導体エピタキシャル結晶ウエハの非破壊検査方法例文帳に追加
NONDESTRUCTIVE TEST METHOD FOR SEMICONDUCTOR EPITAXIAL CRYSTAL WAFER - 特許庁
結晶系IV族半導体の非晶質化方法例文帳に追加
METHOD FOR MAKING AMORPHOUS CRYSTAL SYSTEM IV GROUP SEMICONDUCTOR - 特許庁
非単結晶半導体薄膜の製造方法例文帳に追加
MANUFACTURE OF NON-SINGLE CRYSTAL SEMICONDUCTOR THIN FILM - 特許庁
非単結晶半導体の結晶化を安全かつ高効率に行なうことが可能な半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor manufacturing apparatus and method for manufacturing semiconductor, which can safely and efficiently carry out the crystallization of non-single crystal semiconductor. - 特許庁
レーザ光により微結晶半導体膜上の非晶質半導体膜は結晶化し、成膜法による微結晶半導体膜を含む微結晶半導体層を形成することができる。例文帳に追加
The amorphous semiconductor film over the microcrystalline semiconductor film is crystallized by laser beams, and the microcrystalline semiconductor layer including the microcrystalline semiconductor film formed by a deposition method can be formed. - 特許庁
非結晶半導体膜の結晶化方法及び結晶化用被処理基板の製造装置例文帳に追加
METHOD OF CRYSTALLIZING NON-CRYSTAL SEMICONDUCTOR FILM, AND DEVICE OF MANUFACTURING SUBSTRATE TO BE TREATED FOR CRYSTALLIZATION - 特許庁
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「非結晶半導体」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 473件
絶縁層上に非晶質半導体薄膜を堆積し、その一部に単結晶半導体層を接触させ、熱処理によって単結晶半導体層の結晶性を反映させ非晶質半導体薄膜を単結晶化する半導体薄膜の結晶化方法。例文帳に追加
A method of crystallizing a semiconductor thin-film includes steps of depositing an amorphous semiconductor thin-film on the insulation layer, bringing the monocrystalline semiconductor layer into contact with part of the former thin-film, and single-crystallizing the amorphous semiconductor thin-film with crystallinity of the monocrystalline semiconductor layer reflected by heat treatment. - 特許庁
半導体装置は非単結晶半導体膜(14)と、非単結晶半導体膜(14)を支持する支持基板(12)と、非単結晶半導体膜(14)の一部をチャネル領域(22)として有する能動素子(10)とを備える。例文帳に追加
The semiconductor device has a non-single-crystal semiconductor film (14), a supporting substrate (12) for supporting the non-single-crystal semiconductor film (14), and an active element (10) having a portion of the non-single-crystal semiconductor film (14) as its channel region (22). - 特許庁
また、非晶質半導体膜に不純物を添加した後に結晶化を行うことで、結晶質半導体膜の結晶構造の破壊を防ぐ。例文帳に追加
Furthermore, the crystal structure of a crystalline semiconductor film is protected against destruction, causing crystallization after adding impurities an amorphous semiconductor film. - 特許庁
所定の光強度分布を有する光を非単結晶半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。例文帳に追加
The crystallizing apparatus irradiates a light having a predetermined light intensity distribution on the non-monocrystal semiconductor film to generate a crystallizing semiconductor film. - 特許庁
同一基板101上に擬似単結晶半導体113を用いた薄膜トランジスタと粒状の多結晶半導体112を用いた薄膜トランジスタの形成における結晶化前の非晶質半導体膜の膜厚を、擬似単結晶半導体部分205>多結晶半導体部分206とした。例文帳に追加
The film thickness of an amorphous semiconductor film before crystallization in formation of a thin film transistor using a pseudo-monocrystal semiconductor 113 and a thin film transistor using a granular polycrystalline semiconductor 112 on the same substrate 101 is made larger in the pseudo-monocrystal semiconductor portion 205 than in the polycrystalline semiconductor portion 206. - 特許庁
最初、半導体膜5は非晶質半導体膜で形成され、レーザーアニールにより結晶化させる。例文帳に追加
The semiconductor film 5 is formed of amorphous semiconductor material first and is then turned into crystalline by laser annealing. - 特許庁
半導体装置の半製品およびその非晶質半導体層の結晶化方法例文帳に追加
PARTIALLY FABRICATED ITEM OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR CRYSTALLIZING AMORPHOUS SEMICONDUCTOR LAYER OF IT - 特許庁
I型半導体層を含む非単結晶シリコンの半導体薄膜14を設ける。例文帳に追加
The solar battery is provided with a thin non-single crystal silicon semiconductor film 14 containing the I-type semiconductor layer. - 特許庁
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noncrystal semiconductor
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