面スキャン法の英語

少なくとも被露光媒体の感光剤層側の面に付いた傷による傷画像がないまたは目立たないスキャン画像を得ることができる、被露光媒体のスキャン方法を提供する。例文帳に追加

To prevent a method of scanning a medium to be exposed which can yield a scan image free of or inconspicuous of flawed image by a flaw occurring at least the surface on a photosensitive agent layer of the medium to be exposed. - 特許庁

本発明によるシステムおよび方法においては、メディア背面をスキャンまたは読み取って、メディア背面における印の存在を検出する。例文帳に追加

The system and the method are for detecting the presence of a mark on a medium rear surface by scanning or reading the medium back surface. - 特許庁

表面を像形成する方法は、表面の第１領域を一次荷電粒子ビームで第１スキャン速度においてスキャニングして、その第１領域から第１の二次荷電粒子ビームを発生し、表面の第２領域を一次荷電粒子ビームで上記第１スキャン速度よりも速い第２スキャン速度においてスキャニングして、その第２領域から第２の二次荷電粒子ビームを発生することを含む。例文帳に追加

The method for imaging a surface includes: scanning a first region of the surface with a primary charged particle beam at a first scan rate so as to generate a first secondary charged particle beam from the first region; and scanning a second region of the surface with the primary charged particle beam at a second scan rate faster than the first scan rate so as to generate a second secondary charged particle beam from the second region. - 特許庁

投射面上の湾曲した筒状の物体を検出するのにスキャンライン法を利用する効果的なレンダリング法例文帳に追加

an effective rendering method which uses a scan line algorithm for detecting curved tubular objects on the projection plane発音を聞く  - コンピューター用語辞典

ビーム照射効率を向上させるとともにドーズ量の面内均一性を維持できるイオンビームスキャン処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an ion beam scan processing method with which beam radiation efficiency is improved and in-plane uniformity of dosage can be maintained. - 特許庁

マルチフォーカス検査装置及びマルチフォーカス検査方法に関し、１回のスキャンで高速且つ高精度の全面外観検査を可能にする。例文帳に追加

To perform high-speed and high-precision full visual inspection in a single scan with regard to a multi-focus inspection device and a multi-focus inspection method. - 特許庁

その後、気相エッチングにて鏡面化されたシリコンウェハ表面をＴＸＲＦ法にてスキャンし、シリコンウェハの第１表層に含まれる金属不純物の面内分布情報を取得する。例文帳に追加

After that, the silicon wafer surface mirror-finished by the gas-phase etching is scanned by a TXRF method so that in-plane distribution information of the metal impurities contained in the first surface layer of the silicon wafer is obtained. - 特許庁

スキャン所要時間を増大させる事なく、被検出面の異物検出精度を高め、しかも、表面のみならず裏面の状態をも検出する光学的測定方法およびその装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical measurement method and apparatus, which can enhance the accuracy in detecting a foreign body on a surface to be detected and which detect the states of the front surface and the back surface, without increasing the required scan time. - 特許庁