高分子アジドの英語

〔１〕カルボキシル基およびオキセタン骨格を有する高分子化合物（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、並びに多価フェノール化合物（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

[1] The radiation sensitive resin composition comprises a high molecular compound (A) having a carboxyl group and an oxetane backbone, a quinonediazido compound (B), and a polyhydric phenol compound (C). - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂、１，２−キノンジアジド化合物、及び特定のフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive type resist composition contains an alkali-soluble resin, a 1,2-quinonediazido compound and a high molecular compound having a fluoroaliphatic group derived from a specified fluoroaliphatic compound in a side chain. - 特許庁

（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となる高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を分子中に有する化合物を含有することを特徴とする波長３００ｎｍ以上の紫外線を露光光源とするレジスト材料。例文帳に追加

To provide a resist material capable of forming a pattern, having high resolution and high sensitivity and excellent in plating resistance by exposure, particularly with UV exposure with ≥300 nm wavelength, and to provide a pattern forming method. - 特許庁

水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビニル重合系高分子化合物と、o-ナフトキノンジアジドとを含有する感光性組成物において、該ビニル重合系高分子化合物が、（Ａ）アルカリ可溶性基を有する（メタ）アクリル酸誘導体及び（Ｂ）ポリ（オキシアルキレン）鎖を有する（メタ）アクリレートを単量体性分として含有する共重合体であることを特徴とする感光性組成物。例文帳に追加

In the photosensitive composition containing a vinyl polymerized high molecular compound insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution and o-naphthoquinone diazide, the high molecular compound is a copolymer containing (A) a (meth)acrylic acid derivative having an alkali-soluble group and (B) a (meth)acrylate having a poly(oxyalkylene) chain as monomer components. - 特許庁

末端にアルキニル基を含むフッ化ビニリデン系ポリマーとその製造方法、ならびに該フッ化ビニリデン系ポリマーを用い、アジド末端ポリアルキレンオキシドと高分子反応させるブロック共重合体の製造方法および新規ブロック共重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a vinylidene fluoride-based polymer having an alkynyl group at the terminal, its production method, a method for producing a block copolymer by a polymer reaction of the vinylidene fluoride-based polymer having the alkynyl group at the terminal with azide-terminated polyalkylene oxide, and a new block copolymer. - 特許庁

高分子化合物（Ａ）の含有量は放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で通常５〜９０％であり、キノンジアジド化合物の含有量は固形分に対して質量分率で通常２〜３０％であり、多価フェノール化合物（Ｃ）の含有量は固形分に対して質量分率で通常０．１〜１０％であり、架橋剤（Ｄ）の含有量は固形分に対して質量分率で通常１〜３０％である。例文帳に追加

The contents of the high molecular compound (A), the quinonediazo compound (B), the polyhydric phenol compound (C) and the crosslinker (D) are usually 5-90 mass%, 2-30 mass%, 0.1-10 mass% and 1-30 mass%, respectively, based on the solid content of the radiation sensitive resin composition. - 特許庁

下記構造式（１）で示される繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１，０００〜３０，０００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル基で置換され、かつ残りの水酸基の一部の水素原子が−ＣＲ^１Ｒ^２ＯＲ^３で示される酸不安定基により置換及び／又は−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−Ｒ^６−Ｏ−ＣＲ^７Ｒ^８−で示される架橋基により分子内又は分子間で架橋されていることを特徴とする高分子化合物。例文帳に追加

To obtain both a polymer compound useful as a base resin for a positive type resist material and the positive type resist material containing the polymer compound, having excellent uniformity in fine processing, high sensitivity/high resolution, excellent pattern shape, excellent heat resistance film remaining properties, adhesivity to a substrate and storage stability. - 特許庁