| 意味 | 例文 (36件) |
127 filmとは 意味・読み方・使い方
追加できません
(登録数上限)
単語を追加
意味・対訳 127フィルム（いちにななフィルム、英語: 127 film）は、スチル写真用のフィルムの規格である。
「127 film」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
An interlayer insulating film 127 and an ITO film are formed over a whole face.例文帳に追加
その後、全面に層間絶縁膜１２７及びＩＴＯ膜を形成する。 - 特許庁
The antenna element (12) includes feeding terminals (126, 127) formed by being exposed from the resin film.例文帳に追加
アンテナ素子（１２）は、樹脂フィルムから露出して形成された給電端子（１２６，１２７）を含む。 - 特許庁
In a film cutting step, a long belt-like insulating film 127 is drawn out from one end in a longitudinal direction of a film roll 128 and is cut in each predetermined size to form insulating films 127 of a given shape.例文帳に追加
フィルム切断工程において、フィルムロール１２８の長手方向の一端側から、長尺帯状をなす絶縁フィルム１２７を引き出しつつ所定寸法毎に切断し、所定形状の絶縁フィルムを形成する。 - 特許庁
When a gas generating agent burns by operation of a second igniter 127 to generate gas, the cup-shaped thin film member 147 ruptures with the gas pressure to open, discharging the gas.例文帳に追加
第２点火器127の作動によりガス発生剤が燃焼してガスが発生すると、ガス圧によりカップ状薄膜部材147が破壊されて開口し、ガスが排出される。 - 特許庁
Then, a barrier metal 125, a lower electrode 126a, a ferroelectric film 127, and an upper electrode 128a are formed.例文帳に追加
次いで、バリアメタル１２５、下部電極１２６ａ、強誘電体膜１２７及び上部電極１２８ａを形成する。 - 特許庁
At this time, the amount of oxygen to be supplied into the atmosphere is adjusted according to cumulative time spent for a target during the formation of the ferroelectric film 127.例文帳に追加
このとき、強誘電体膜１２７形成時に使用したターゲットの累積使用時間に応じて、雰囲気中の酸素供給量を調整する。 - 特許庁
The long insulating film 127 has a position marking part 126r formed beforehand for every predetermined dimension in a longitudinal direction, and cutting positioning of the long insulating film 127 is performed by inserting a positioning pin PP into each position marking part 126r in an abutting state on it.例文帳に追加
なお、長尺絶縁フィルム１２７には、その長手方向の所定寸法毎に予め位置決め部１２６ｒが形成されてなり、この位置決め部１２６ｒに、位置決め用ピンＰＰを挿入・当接させることにより長尺絶縁フィルム１２７の切断位置決めを行う。 - 特許庁
-
履歴機能
過去に調べた
単語を確認! -
語彙力診断
診断回数が
増える! -
マイ単語帳
便利な
学習機能付き! -
マイ例文帳
文章で
単語を理解! -
「127 film」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
The light-emitting device is provided with a lower supporting body 110, a base insulation film 112 having a through-hole 130 arranged on the lower supporting body 110, a light-emitting element 127 arranged on the lower insulation film 112, and an upper supporting body 122 arranged on the light emitting element 127.例文帳に追加
発光装置が、下部支持体１１０と、下部支持体１１０上に設けられた貫通孔１３０を備える下地絶縁膜１１２と、下地絶縁膜１１２上に設けられた発光素子１２７と、発光素子１２７上に設けられた上部支持体１２２とを有する。 - 特許庁
Optimum exposure energy and optimum developing bias corresponding to each film thickness are stored in a memory 127 as a film thickness corresponding value while they are made to correspond to each film thickness.例文帳に追加
各膜厚に対応する最適露光エネルギーおよび最適現像バイアスが膜厚対応値として各膜厚と対応させながらメモリ１２７に記憶される。 - 特許庁
Next a mask film is removed to form a second insulating film 126, and then a gate electrode 127 of the high-voltage driven TFT made of an Al alloy is formed on the second insulating film.例文帳に追加
次いで、マスク膜を除去し、第２の絶縁膜１２６を形成し、その上にＡｌ合金により高電圧駆動ＴＦＴのゲート電極１２７を形成する。 - 特許庁
A Ti/TiN film 129 as a first conductor film is deposited, the contact holes 127 having the small diameters are buried, and the film 129 is only deposited in the contact holes 125, 126 and 128 having the large diameters.例文帳に追加
第１の導体膜であるＴｉ／ＴｉＮ膜１２９を堆積して、小径のコンタクト孔１２７を埋め、大径のコンタクト孔１２５，１２６，１２８内にはＴｉ／ＴｉＮ膜１２９を堆積するだけにする。 - 特許庁
A ferroelectric film (PZT film) 127 that constitutes a ferroelectric capacitor 130 is formed by a sputtering method, and it is subsequently subjected to thermal processing (RTA) in an oxygen atmosphere.例文帳に追加
強誘電体キャパシタ１３０を構成する強誘電体膜（ＰＺＴ膜）１２７をスパッタ法により形成した後、酸素雰囲気中で熱処理（ＲＴＡ）を施す。 - 特許庁
The fixed end side of the film member 121 is provided so that a minute gap 127 formed between the developer carrier 110 and the film member 121 may be constant.例文帳に追加
フィルム部材１２１の固定端側は、現像剤担持体１１０とフィルム部材１２１との間に形成された微小隙間１２７が一定となるように設けられる。 - 特許庁
A first interlayer insulating film 124 is deposited on the substrate, and contact holes 125, 126 and 128 penetrating to the insulating film 124 and having large diameters and contact holes 127 having small diameters are formed.例文帳に追加
基板上に第１層間絶縁膜１２４を堆積した後、第１層間絶縁膜１２４を貫通する大径のコンタクト孔１２５，１２６，１２８と、小径のコンタクト孔１２７とを形成する。 - 特許庁
Hereon, a bit line 123 is made, and a third interlayer insulating film 125 is stacked, and etching is made to the landing pad 117, and is filled with a storage electrode 127, and hereon a conductive film 131 and a plate electrode 133 are made.例文帳に追加
この上にビットライン１２３を形成し、第３層間絶縁膜１２５を積層してランデングパット１１７までエッチしてストレージ電極１２７を充填し、この上に該電膜１３１及プレート電極１３３を形成する。 - 特許庁
|
| 意味 | 例文 (36件) |
127 filmのページの著作権
英和・和英辞典
情報提供元は
参加元一覧
にて確認できます。
|
Text is available under Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA) and/or GNU Free Documentation License (GFDL). Weblio英和・和英辞典に掲載されている「Wikipedia英語版」の記事は、Wikipediaの127 film (改訂履歴)の記事を複製、再配布したものにあたり、Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA)もしくはGNU Free Documentation Licenseというライセンスの下で提供されています。 |
ピン留めアイコンをクリックすると単語とその意味を画面の右側に残しておくことができます。 |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
みんなの検索ランキング
閲覧履歴
 | 「127 film」のお隣キーワード |
weblioのその他のサービス
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
