4時 5 分前の英語

この装着穴５内の超硬チップ４は、植え込み部分4bの一部が前記外周部分2bから突出することにより、穿孔時の穴壁に対するゲージ機能が付加される。例文帳に追加

A part of an implanted part 4b is protruded from the peripheral part 2b so that the gauge function for a hole wall during drilling can be added to the tip 4 inside the fitting hole 5. - 特許庁

器具上部の調節つまみ４を回す事により、器具内部で連携しているギア５、６、７、９を回転させ、赤ちゃんの首がくる部分２を上下させると同時に、頭のくる部分を前後させる構造になっている。例文帳に追加

When a control knob 4 on the top of the apparatus is turned, gears 5, 6, 7, 9 cooperating inside the apparatus are rotated, a part 2 on which the baby's neck is laid goes up and down, and the part on which the baby's head is laid goes back and forth. - 特許庁

そして、切り替えバルブ８を反対方向に操作することで、溶融樹脂は分岐ランナ８，９，１１を介してキャビティ４，５，７に供給され、左右のシュラウドと前記とは別機種分のリヤフェンダが同時に成形される。例文帳に追加

By operating the change-over valve 8 in the opposite direction, the molten resin is supplied to cavities 4, 5, and 7 through branch runners 8, 9, and 11, and the right and left shrouds and rear fenders for another model are molded simultaneously. - 特許庁

送信機１０はダミー負荷回路５を有し、ローリングコードがメモリ４に書き込まれる前に、ダミー負荷回路５が動作され、このダミー負荷回路５によってローリングコードの書込処理時に消費される電力量相当分の電力が消費される。例文帳に追加

This transmitter 10 has a dummy load circuit 5; the circuit 5 is operated before the rolling code is written in the memory 4; and electric power equivalent to electrical energy consumed in processing for writing the rolling code is consumed by the circuit 5. - 特許庁

展示は、第１室「始源時代室」、第２室「平安京遷都前の山城」、第３室「平安の都」、中央ホール「清凉殿」、第４室「平安文学と生活の部屋」、第５室「紫女の部屋」に分かれていた。例文帳に追加

Exhibits were displayed in the Room 1 - 'Primordial Period', Room 2 - 'Yamashiro Prior to the Transfer of the capital Heian-kyo City', Room 3 - 'The Heian Capital', the Central Hall - 'Seiryoden Hall' Room 4 - 'Heian Literature and Life', and Room 5 - 'Lady Murasaki'.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

また、各クッション２、３、５、６により、外箱１と機器本体４との空間距離が十分確保され、上下左右および前後からの運送時の衝撃に対して緩衝性が向上する。例文帳に追加

A space distance between the outer box 1 and the equipment body 4 is secured sufficiently with each of the cushions 2, 3, 5, 6 and shock absorbing ability against impact from up and down and left and right at transportation is increased. - 特許庁

補間候補選択部４から出力されたＡ_１,１の補間値は遅延器５にも供給されて、ここで１処理時間分遅延されて前記補間候補値Ａ_１,０’とされる。例文帳に追加

The interpolation value of A_1,1 outputted from an interpolation candidate selection portion 4 is supplied to the delay unit 5 as well. - 特許庁

蒸着源位置制御機構４により基板５と蒸着源３に備えられた開口部３ａとの離間距離ＴＳを変化させることにより、前記基板上に成膜された薄膜の膜厚分布の経時変化を抑制する。例文帳に追加

By changing a distance TS between the substrate 5 and an opening 3a provided at the vapor deposition source 3 by a vapor deposition source position control mechanism 4, change with elapse of time in the film thickness distribution of a thin film deposited on the substrate is controlled. - 特許庁