ACETYLENE CARBOXYLIC ACIDとは 意味・読み方・使い方

PRODUCTION OF ACETYLENE CARBOXYLIC ACID DERIVATIVE例文帳に追加

アセチレンカルボン酸誘導体の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ACETYLENE CARBOXYLIC ACID COMPOUND例文帳に追加

アセチレンカルボン酸化合物の製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing an acetylene carboxylic acid compound by which acetylene carboxylic acid or an acetylene carboxylic acid compound as the derivative thereof can be obtained from acetylene alcohol at a high yield.例文帳に追加

アセチレンアルコールからアセチレンカルボン酸またはその誘導体であるアセチレンカルボン酸化合物を高収率で得ることができるアセチレンカルボン酸化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing an acetylene carboxylic acid compound comprises: an electrolytic oxidation stage where acetylene alcohol is subjected to electrolytic oxidation in an acid aqueous solution to produce acetylene carboxylic acid; an extraction stage where the acetylene carboxylic acid is extracted from the acid aqueous solution; and an esterification stage where the acetylene carboxylic acid extracted in the extraction stage is esterified.例文帳に追加

本発明のアセチレンカルボン酸化合物の製造方法は、酸性水溶液中でアセチレンアルコールを電解酸化してアセチレンカルボン酸を生成させる電解酸化工程と、酸性水溶液中からアセチレンカルボン酸を抽出する抽出工程と、抽出工程にて抽出したアセチレンカルボン酸をエステル化するエステル化工程とを有する。 - 特許庁

The deodorant includes a specific compound with an acyl group and an esterified carboxylic acid group at both ends of ethylene and/or a specific compound with esterified carboxylic acid groups at both ends of acetylene, and is preferably a water and/or ethanol solution.例文帳に追加

アシル基とエステル化されたカルボン酸基をエチレンの両端に有する特定の化合物及び／又はエステル化されたカルボン酸基をアセチレンの両端に有する特定の化合物を含有する消臭剤であり、水及び／又はエタノール溶液としたものが好ましい。 - 特許庁

This antibacterial or antifungal aqueous dispersion is characterized by containing the quaternary ammonium salt-based antibacterial or antifungal agent, the aromatic carboxylic acid salt, an acetylene-based surfactant and water.例文帳に追加

四級アンモニウム塩系抗菌・防カビ剤、芳香族カルボン酸塩、アセチレン系界面活性剤および水を含有することを特徴とする抗菌・防カビ性水分散体。 - 特許庁

The acid cleaning solution for a metallic material can contain: (A) low molecular polyamine whose average molecular weight is ranging from 150 to 1,500; (B) low molecular carboxylic acid (or its salt), and further contain; (C) acetylene alcohol; (D) hexamethylenetetramine; and (E) polyethylene glycol in hydrochloric acid (HCl) aqueous solution.例文帳に追加

金属材用酸洗浄液は、塩酸（ＨＣｌ）水溶液に、（Ａ）平均分子量が１５０〜１５００の低分子ポリアミンと、（Ｂ）低分子カルボン酸（またはその塩）を含み、更に（Ｃ）アセチレンアルコール、（Ｄ）ヘキサメチレンテトラミン、（Ｅ）ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 - 特許庁