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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 英和対訳 > And al Iの意味・解説 

And al Iとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 アンダリ(イタリア語: Andali)は、イタリア共和国カラブリア州カタンザーロ県にある、人口約700人の基礎自治体(コムーネ)よしひさ。


Weblio英和対訳辞書での「And al I」の意味

Andali

アンダリ
アンダリ(イタリア語: Andali)は、イタリア共和国カラブリア州カタンザーロにある、人口700人の基礎自治体コムーネ)よしひさ。
Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「And al I」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 24



例文

In the semiconductor light-emitting element, a composite buffer layer 12, formed by alternately laminating a plurality of Al_xB_yGa_1-x-yN first layers 12A and a plurality of Al_aB_bGa_i-a-bN second layers 12b upon another is provided on a low-resistance silicon substrate 11.例文帳に追加

低抵抗のシリコンから成る基板11の上にAl_xB_xGa_1-x-yNから成る第1の層12aとAl_aB_bGa_i-a-bNから成る第2の層12bとを交互に複数積層した複合層構造のバッファ層12を設ける。 - 特許庁

In the semiconductor light emitting element, a composite laminated buffer layer 12, formed by alternately laminating a plurality of Al_xIn_yGa_1-x-yN first layers 12a and a plurality of Al_aIn_bGa_i-a-bN second layers 12b upon another, is provided on a low-resistance silicon substrate 11.例文帳に追加

低抵抗のシリコンから成る基板11の上にAl_xIn_xGa_1-x-yNから成る第1の層12aとAl_aIn_bGa_i-a-bNから成る第2の層12bとを交互に複数積層した複合層構造のバッファ層12を設ける。 - 特許庁

A protective wall 52 of Al is formed on the ϕ_I wiring 32 and the bonding pad of this wiring while another protective wall 54 of Al is formed on a V_GA wiring 26 and the bonding pad of this wiring.例文帳に追加

φ_I 配線32およびこの配線のボンディングパッド上にAlの保護壁52を、V_GA配線26およびこの配線のボンディングパッド上にAlの保護壁54を形成した。 - 特許庁

(i) A court-appointed contract defense counsel et al. who has formed a contract that provides remuneration and expenses for each case: said remuneration and expenses発音を聞く 例文帳に追加

一 報酬及び費用が事件ごとに定められる契約を締結している国選弁護人等契約弁護士 当該報酬及び費用 - 日本法令外国語訳データベースシステム

A phthalocyanine composition is used as a charge generating material in a charge generating layer 3 and an Al complex of formula (I) is further added.例文帳に追加

電荷発生層3に電荷発生材料としてフタロシアニン組成物を用い、さらに構造式(I)に示すAl錯体を加える。 - 特許庁

When the E-type core 1 and the I-type core 2 are combined, AL value at no load is at least 160 nH/N^2.例文帳に追加

E型コア1及びI型コア2を組み合わせた場合の無負荷時のAL値は160nH/N^2 以上である。 - 特許庁

例文

When the distance between a certain position in a contact area of the transfer belt and a part in the contact area nearest to an image carrier body and current flowing into the part are defined respective as L and I, a transfer brush 1 satisfying I<aL+b (a>0, b>0) is selected.例文帳に追加

転写ベルトの接触領域のうちもっとも像担持体に近い部分からの距離L、その部分に流れる部分電流Iを、I<aL+b(a>0、b>0)を満たす転写ブラシ1を選別する。 - 特許庁

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「And al I」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 24



例文

The underlayer 3 consists of a p-type poly-Si, the (p) layer 4 consists of p-type a-Si:H, the (i) layer 5 consists of i-type a-Si:H, the (n) layer 6 consists of n-type a-Si:H, and the electrode 7 consists of Al.例文帳に追加

下地層3は、p型poly−Siからなり、p層4は、p型a−Si:Hからなり、i層5は、i型a−Si:Hからなり、n層6は、n型a−Si:Hからなり、電極7は、Alからなる。 - 特許庁

By applying heat treatment to a metal magnetic powder containing Fe, Si, and Al produced by an atomize method, when the diffraction intensity by X-ray diffraction method from (111) is made to be I(111) and the diffraction intensity from (220) is made to be I(220), the metal magnetic powder is adjusted so as to be I(111)/I(220)≥0.025.例文帳に追加

アトマイズ法により作製したFe、SiおよびAlを含む金属磁性粉末に、熱処理を施して、X線回折法による(111)からの回折強度をI(111)、(220)からの回折強度をI(220)としたとき、I(111)/I(220)≧0.025からなる金属磁性粉末となるように調整する。 - 特許庁

The respective concentrations of the Al and Ni are more preferably the ones in the range surrounded by points F, G, H, I and J in Fig.1, and are further more preferably the ones in the range surrounded by points K, L and M.例文帳に追加

前記AlおよびNiのそれぞれの濃度は、図1の点F、G、H、I、Jで囲まれた範囲の濃度であるとより好ましく、点K、L、Mで囲まれた範囲の濃度であるとさらに好ましい。 - 特許庁

Parts of surfaces of the Si(n) film 14 and Si(i) film 13 of a channel part 18 are etched using the remaining photoresist pattern 22 and the Al oxide coating 17 as a mask.例文帳に追加

残存するフォトレジストパターン22およびAl酸化皮膜17をマスクとして、チャネル部18のSi(n)膜14およびSi(i)膜13の表面の一部をエッチングする。 - 特許庁

In the formula (I) above, M is a metal atom containing at least one kind of metal atoms selected from a group consisting of Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Mg, Zn, V, Ca, Sr, Ba, Ti, Al, Si, and Mo, satisfying:0<X<2.例文帳に追加

Li_XMPO_4 (I)(上記式(I)において、Mは、Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Mg,Zn,V,Ca,Sr,Ba,Ti,Al,Si,B及びMoからなる群から選択された金属原子少なくとも一種類を含む金属原子であり、0<X<2である。) - 特許庁

The element M is at least one kind of element selected from the group consisting of B, Na, Mg, Al, Si, S, P, K, Ca, Mo, W, Cr, Mn, Co, Ni, and Fe.例文帳に追加

0< M/Ti ≦0.5 (I) 1≦ Nb/Ti ≦5 (II) 前記元素Mは、B、Na、Mg、Al、Si、S、P、K、Ca、Mo、W、Cr、Mn、Co、Ni及びFeから成る群から選択される少なくとも1つである。 - 特許庁

The manufacturing method of the layered double hydroxide having incorporated thereinto an ultraviolet- absorbing compound comprises adding to an aqueous solution containing the ultraviolet- absorbing compound the layered double hydroxide represented by formula (I) or the layered double hydroxide represented by formula (I) having been subjected to a heat treatment, mixing them by stirring and subsequently batching off and drying the resultant precipitate.例文帳に追加

[Zn(1-x)Al_x(OH)_2]_x^+[(CO_3)_x・yH_2O]_x^- (I) (式中、xは0.1≦x<0.4、yは0より大きい実数を表す) または、紫外線を吸収する化合物を含有する水溶液に、式(I)で表される層状複水酸化物又は式(I)で表される層状複水酸化物を加熱処理したものを添加し、攪拌混合後、沈殿を分取乾燥することによる紫外線を吸収する化合物を取り込んだ層状複水酸化物の製造方法。 - 特許庁

例文

Fe and has such a relationship of an average coating mass Mav (g/m^2) to a maximum coating mass Mmax (g/m^2) of the plated film as to satisfy the expression (i): Mmax≤4.5×Mav.例文帳に追加

Mmax≦4.5×Mav ・・・(i) 製造に当たっては、焼鈍、冷却、一定温度範囲保持などの工程を経た鋼板をめっきする際に、母材鋼板中のSiとAlの濃度の和をW(質量%)、溶融亜鉛浴侵入直前のスナウト内雰囲気ガスの露点をV(℃)とすると、WとVが下記(ii)式を満足するようにする。 - 特許庁

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