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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 英和対訳 > Behind the Maskの意味・解説 

Behind the Maskとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 「ビハインド・ザ・マスク」(BEHIND THE MASK)は、YMOの楽曲。、ビハインド・ザ・マスク


Weblio英和対訳辞書での「Behind the Mask」の意味

Behind the Mask

ビハインド・ザ・マスク

Behind the Mask (song)

ビハインド・ザ・マスク ()
「ビハインド・ザ・マスク」(BEHIND THE MASK)は、YMO楽曲
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「Behind the Mask」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 14



例文

The near-infrared camera 16 is arranged behind the black mask member 18.例文帳に追加

黒色マスク部材18の背後に近赤外カメラ16を配置する。 - 特許庁

Holmes, with a laugh, passed his hand behind the child's ear, a mask peeled off from her countenance,発音を聞く 例文帳に追加

ホームズは笑いながら、その子供の耳の後(うしろ)に、彼の手をやって、その顔から面をはぎ取った。 - Conan Doyle『黄色な顔』

The projector that illuminates the scene with multiplexed light patterns includes: a passive physical mask; and a set of spatially dispersed optical emitters arranged behind the physical mask.例文帳に追加

多重化された光パターンによりシーンを照明するプロジェクタは、パッシブ型の物理マスクと、物理マスクの背後に配置された一組の空間的に分散された発光体とを備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a curved surface of a microlens and the like by exposing a resist arranged behind a mask by relatively rotating a light source arrayed with light sources having directivity in an array and the mask.例文帳に追加

指向性のある光源をアレイ状に並べてなる光源とマスクを相対的に回転させてマスク背後に配置したレジストを露光することでマイクロレンズ等の曲面を製造する方法の提供。 - 特許庁

The mask 1 has a face body 11 which enables respiration, and a plurality of head bands 13 extending toward the rear of the head of the mask wearing person from the face body 11, and the water storage bag 12 formed so as to abut on the head from behind is fixed to the face body 11 through a head band 13.例文帳に追加

マスク1が吸排気可能な面体11と、面体11からマスク着用者の頭部後方に向かって延びる複数本のヘッドバンド13とを有し、その頭部に後方から当接可能に形成された貯水袋12がヘッドバンド13を介して面体11に取り付けられる - 特許庁

Next, the exposed photoresist film is developed, leaving behind the photoresist pattern with at least one concave portion formed corresponding to the slit of the mask.例文帳に追加

次に、露出されたフォトレジスト膜は現像され、マスクのスリットに対応して形成された少なくとも一つの凹部を有するフォトレジストパターンを残す。 - 特許庁

例文

The eye mask 13 is constituted of a main body 11 of the eye mask, a closely contacting material 20 attached to the peripheral edge of the back surface, a gauze 19 fixed to the main body 11 by the peripheral edge held tightly between the closely contacting material 20 and the main body 11, and behind-the-ear bands 18 provided on both sides of the main body 11.例文帳に追加

アイマスク13はアイマスク本体11と、その背面周縁部に取り付けられる密着材20と、密着材20とアイマスク本体11との間に周縁部が挟持されることによりアイマスク本体11に固定されるガーゼ19と、アイマスク本体11の両側部に設けられる耳掛けバンド18とから構成されている。 - 特許庁

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Weblio例文辞書での「Behind the Mask」に類似した例文

behind the mask

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the back gore of a 'hakama'

5

例文

the back of a bank-note

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a mask called {'hyakumanako'}

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見え隠れにをつけた

例文

I followed him at a distance.

例文

the backdoor

例文

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例文

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例文

far back

例文

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17

やみにまぎれ

例文

the back portion of a shoe

例文

abaft the mainmast

26

あしのを支える

例文

under glass

30

親切心仮面をかぶって[にかこつけて].

例文

under a mask of kindness

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「Behind the Mask」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 14



例文

This peeling device patterns a paste film on a substrate through sand blast processing using a mask formed of a resist film in specific pattern, and then removes the resist film used as the mask for the sand blade processing; and a dedicated nozzle Na is installed behind nozzles N for peeling the resist film off the substrate G so that only the solid resist film C on the substrate G is sprayed.例文帳に追加

レジスト膜からなる所定パターンのマスクを介してのサンドブラスト加工により基板上のペースト膜をパターニングした後に、そのサンドブラスト加工のマスクとして使用したレジスト膜を除去するための剥離装置であって、基板Gにおけるレジスト膜の剥離を行う複数のノズルNの後方に、基板Gにおけるベタ状レジスト膜Cのみにスプレーが当たるように専用ノズルNaを設置する。 - 特許庁

This opening 103 is positioned on a bottom face inside a recess face behind a contact face of the depositing mask 21 with the base plate 101, and the opening 103 of the depositing mask 101 is separated from the base plate 101 with a predetermined gap space 23, and depositing particles from a depositing source 105 are deposited on the base plate 101 through the opening 103.例文帳に追加

この開口部103は、蒸着マスク21が基板101と接触する面から後退させた凹面内の底面に有し、蒸着マスク101の開口部103を基板101から所定のギャップ空間23をもって離間して蒸着源105からの蒸着粒子粒を開口部103を通して基板101に蒸着する - 特許庁

The laser beam machining apparatus 1 includes: a laser source 2 emitting laser beams 6; and an electron type mask mechanism 5 arranged behind the laser source 2 and covering materials to be worked 9, 10, and the laser beam machining apparatus 1 works or joins the materials to be worked 9, 10.例文帳に追加

上記課題は、レーザ光6を発するレーザ源2及びレーザ源2の後方に配置され加工材料9、10を覆う電子式マスク機構5を有する加工材料9、10を加工又は接合するレーザ加工装置1により解決される。 - 特許庁

A color filter 10R, a color filter 10G, and a color filter 10B formed of negative resist films are exposed at the same time by using a photo mask shading the areas to be connected with transparent pixel electrodes behind each source electrode 8.例文帳に追加

各ソース電極8の後に透明画素電極に接続される領域を遮光するフォトマスク11を使用してネガ型レジスト膜からなるカラーフィルタ10R、カラーフィルタ10G及びカラーフィルタ10Bを同時に露光する。 - 特許庁

An image processor 4 generates a combined image data obtained by combining lateral image data, obtained by vertically and horizontally inverting a peripheral image behind the vehicle imaged by a camera 2, with mask image data for masking a predetermined area including a lower edge part of the lateral image data.例文帳に追加

画像処理装置4は、カメラ2により撮像された車両後方の周辺画像を縦横反転した横向き画像データと、この横向き画像データの下端部分を含む所定の領域をマスクするためのマスク画像データとを合成した合成画像データを生成する。 - 特許庁

Based on an operational status of an internal combustion engine, a mask time Tmsk from ignition timing to the start of detection of an ion current peak value is set so that the detection of the ion current peak value is started behind the generation timing of a combustion ion current peak value by an initial flame immediately after ignition timing.例文帳に追加

内燃機関の運転状態に基づいて、点火タイミング直後の初期火炎による燃焼イオン電流ピーク値の発生時期よりも遅れて、イオン電流ピーク値の検出を開始するように、点火タイミングからイオン電流ピーク値の検出を開始するまでのマスク時間Tmskを設定する。 - 特許庁

例文

A surface 28 to be ground of a thin finished semiconductor wafer 27 is dry-etched by using a mask 29 composed of a resist, and a rib 30 is formed corresponding to a scribe line 24 by leaving the thickness of a substrate 20 behind, and a cavity 31 corresponding to a chip 23 is recessed so as to encircle the cavity with the rib 30.例文帳に追加

薄仕上げ半導体ウエハ27の被研削面28にレジストからなるマスク29を使用してドライエッチングを施し、スクライブライン24に対応したリブ部30をサブストレート20の厚みを残して形成し、チップ部23に対応した窪み31をリブ部30で囲むように陥没させる。 - 特許庁

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