There is provided the method for producing the keratan sulfate oligosaccharide fraction represented by formulas (I), (II) and (III), and having properties (A) to (C).例文帳に追加

式（Ｉ）、（II）及び（III）で表され、かつ下記（Ａ）〜（Ｃ）の性質を有するケラタン硫酸オリゴ糖画分の製造法。 - 特許庁

This production method comprises contacting an olefin of the formula: R^2CF=CF_2, ICl and chlorosulfonic acid at a temperature of about -20 to about 45°C.例文帳に追加

式Ｒ^２ＣＦ＝ＣＦ_２のオレフィン、ＩＣｌ及びクロロスルホン酸を約−２０〜約４５℃の温度で接触させる。 - 特許庁

The new intermediate usable for producing a compound of formula Ia is represented by formula XXV, formula B or formula C.例文帳に追加

式Ｉａの化合物の製造に使用される式ＸＸＶ、式Ｂおよび式Ｃで表される新規中間体。 - 特許庁

The adhesive for the electronic part contains an epoxy compound (A) represented by formula (1), a silica particle (B) having a phenyl group on the surface, and an acid anhydride curing agent (C).例文帳に追加

式（１）で表されるエポキシ化合物（Ａ）と、フェニル基を表面に有するシリカ粒子（Ｂ）と、酸無水物硬化剤（Ｃ）とを含有することを特徴とする電子部品用接着剤。 - 特許庁

The compound shown in formula (I) can be produced by applying to a series of reactions that a compound shown in formula (II) is reacted with lithium bromide or magnesium bromide at a high temperature of 60-100°C.例文帳に追加

式−（ＩＩ）の化合物を臭化リチウム、臭化マグネシウムと６０ないし１００℃の高温で反応させる一連の反応に付すことで式（Ｉ）の化合物を製造することができる。 - 特許庁

The liquid crystal aligning agent contains a polyamic acid, obtained by reacting a diamine represented by formula (N), or a mixture of the diamine and the other diamine and at least two tetracarboxylic dianhydride at 70 to 200°C.例文帳に追加

式（Ｎ）で表されるジアミンまたはこのジアミンとその他のジアミンとの混合物と少なくとも２種類のテトラカルボン酸二無水物を７０〜２００℃で反応させて得られるポリアミック酸を含有する液晶配向剤。 - 特許庁

An ether alcohol compound represented by general formula (R denotes a 1-10C alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, with the proviso that R has no hydroxy group) is hydrolyzed in the presence of at least one kind of acid catalyst under temperature conditions of <200°C.例文帳に追加

（式中ＲはＣ１〜１０のアルキル基，シクロアルキル基，又はアリール基を示す。但しＲは水酸基を有していないものとする。） - 特許庁

The method for producing the microaqueous benzimidazole compound comprises dissolving a solvate and/or a hydrate of a compound represented by formula (I) in a soluble solvent, crystallizing the compound with alkaline water at pH≥8 and drying the resultant crystal at a low temperature of <50°C.例文帳に追加

式（Ｉ）で示される化合物の溶媒和物および／または水和物を可溶性の溶媒に溶解し、ｐＨ８以上のアルカリ性水により該化合物を結晶化させ、５０℃未満の温度で低温乾燥する。 - 特許庁

The method for producing 10α-[4'-(S,S-dioxothiomorpholin-1'-yl)]-10-deoxo-10-dihydroartemisinin (1a) in one step comprises reacting a compound represented by formula (1b) [wherein X is a halogen atom] with thiomorpholine dioxide at -30°C to +20°C.例文帳に追加

式（１ｂ）［式中、Ｘはハロゲン原子である］で表される化合物とチオモルホリンジオキサイドを−３０℃から＋２０℃の範囲の温度で反応させることで１０α−［４’−（Ｓ，Ｓ−ジオキソチオモルホリン−１’−イル）］−１０−デオキソ−１０−ジヒドロアルテミシニン（１ａ）を１段階で製造する。 - 特許庁

This organic salt mixture contains a hydrogen sulfate represented by a formula 1, a sulfate represented by a formula 3, and an organic salt compound and shows a liquid property within a temperature range from 0 to 100°C.例文帳に追加

式（１）：（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＨＮ^＋）・ＨＳＯ_４^− （１）［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はアルキル基、シクロアルキル基又は式（２）：Ｒ’−[Ｏ−（ＣＨ_２−ＣＨＲ”−）_r]_ｐ− （２）で表される官能基等を示し、それらは互いに同じであっても異なっていても良く、置換基を有していてもよい。 - 特許庁

The thermosetting resin composition contains: a polyimide resin having a structure represented by formula (1) and/or formula (2) and formula (3), wherein the content of Y in the formula (3) in the resin is 50 to 90 wt.%; an epoxy resin; and a hindered phenolic antioxidant (C).例文帳に追加

式（１）および／または式（２）、並びに式（３）で示される構造を有する樹脂中の式（３）が有するＹの含有率が５０〜９０重量％であるポリイミド樹脂、エポキシ樹脂およびヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｃ）を含有する熱硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

The preservation method is a preservation method of cyclohexanetricarboxylic anhydride liquid at normal temperature containing trans, trans-1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride presented by formula (1), wherein the preservation temperature is 100 to 150°C.例文帳に追加

式（１）で表されるtrans, trans−１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物を含有する、常温で液状のシクロヘキサントリカルボン酸無水物の保存方法であって、保存温度が１００〜１５０℃であることを特徴とするシクロヘキサントリカルボン酸無水物の保存方法。 - 特許庁

Therein, R^1 is an alkylene group, a cycloalkylene group, phenylene group or a substituted phenylene group originated from the compound (A); R^2 is a hydroxyl group-removed residue of the compound (B); Y^1 and Y^2 are each the hydroxy group-removed residue of the compound (C).例文帳に追加

(式中、Ｒ^１は前記化合物(Ａ)に由来する、アルキレン基、シクロアルキレン基、ジシクロアルキレン基、フェニレン基又は置換フェニレン基を、Ｒ^２は前記化合物(Ｂ)から水酸基を除いた残基を、Ｙ^１及Ｙ^２は前記化合物(Ｃ)から水酸基を除いた残基を示す。) - 特許庁

In the formula, A is an arylene, a divalent heterocyclic residue, alkylene or a divalent group of aromatic hydrocarbons bonded through an alkylene chain; each Ar_1 is aryl, a heterocyclic group or aralkyl; each Ar_2 is aryl or a heterocyclic group; and each Z is a group of atoms required to form a ring together with Ar_2 and C.例文帳に追加

（式中、Ａは、アリーレン基、価の複素環残基、アルキレン基、またはアルキレン鎖で結ばれた芳香族炭化水素の２価基。Ａｒ１は、アリール基、複素環基又はアラルキル基。Ａｒ２は、アリール基又は複素環基。Ｚは、Ａｒ２および炭素原子と共に環を形成するために必要な原子群。） - 特許庁

This method for producing the methacrylic acid and the methacrolein comprises bringing a mixed gas containing isobutane and molecular oxygen into contact with a catalyst comprising a heteropolyacid represented by formula: Cu_aH_bP_cMo_dV_eO_f (I) and/or a heteropolyacid represented by formula: H_8PMo_10VO_39 (II), or its dehydrated derivative at a temperature of 250 to 450°C.例文帳に追加

式：Ｃｕ_ａＨ_ｂＰ_ｃＭｏ_ｄＶ_ｅＯ_ｆ（Ｉ）で示されるヘテロポリ酸および／または式：Ｈ_８ＰＭｏ_１０ＶＯ_３９（ＩＩ）で示されるヘテロポリ酸もしくはこの脱水された誘導体からなる触媒に、２５０℃〜４５０℃の温度でイソブタンと分子状酸素を含む混合ガスを気相で接触させる。 - 特許庁

In the formula (1), R^2, R^3, and R^6 each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, or an acyl group.例文帳に追加

（Ｉ） ０≦ＤＳ_A≦１．４ （II） ０＜ＤＳ_B （III） ０＜ＤＳ_C［式中、ＤＳ_Aは、上記単位中にＲ^2、Ｒ^3及びＲ^6として存在する水素原子の数であり、ＤＳ_Bは、同単位中にＲ^2、Ｒ^3及びＲ^6としてそれぞれ存在する無置換の脂肪族炭化水素基の数であり、及びＤＳ_Cは、同単位中にＲ^2、Ｒ^3及びＲ^6としてそれぞれ存在するアシル基の数であり、ＤＳ_A＋ＤＳ_B＋ＤＳ_Cは３である。 - 特許庁