| 意味 | 例文 (51件) |
C-面取りの英語
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英訳・英語 C chamfer plane
「C-面取り」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 51件
The beveling process is a C beveling process or an R beveling process.例文帳に追加
面取り加工は、C面取り加工またはR面取り加工である。 - 特許庁
As for chamfering, it is preferable that at least one of C chamfering (chamfer plane) and R chamfering (round chamfer) is carried out.例文帳に追加
面取り加工は、C面取りおよびR面取りの少なくとも一方が施されることが好ましい。 - 特許庁
The periphery of the inclined grounding surface (3c) is better to be C chamfered or R bevelled.例文帳に追加
前記傾斜接地面(3c)の周囲を、C面取り又はR面取りした方がよい。 - 特許庁
Moreover, in the contacts, contact length is made the same and R chamfering or C chamfering is provided at both ends.例文帳に追加
また、前記接触部において、接触長を同一にし、両端部にR面取りあるいはC面取りを設ける。 - 特許庁
The end face 191 of the displacement transmission member 19 has a chamfered portion 194 obtained by chamfering its peripheral end portion 192, and the chamfered amount C of the chamfered portion 194 is 0.1 to 0.8 mm.例文帳に追加
変位伝達部材19の先端面191は、その外周端部192に面取りしてなる面取り部194を有し、面取り部194の面取り量Cは0.1〜0.8mmである。 - 特許庁
An outer peripheral edge part 79a of a groove 79 for installing the sliding partition ring 78, is formed in a chamfering shape (a C chamfer or a round chamfer) of 0.3 mm or less.例文帳に追加
摺動仕切り環78を装着する溝79の外周エッジ部79aを、0.3mm以下の面取り形状(C面取りまたはR面取り)としている。 - 特許庁
A chamfer part (c) is provided adjacent to the flap center side of the removed part (a).例文帳に追加
また、削除部aのフラップ中央側に隣接して面取り部cを設けている。 - 特許庁
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「C-面取り」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 51件
A hole is bored in a glass substrate with a drill and chamfered with a polishing drill (Fig. 2 (a) to (c)).例文帳に追加
ガラス基板にドリルによって孔をあけ、研磨ドリルで面取りを行う(図2(a)〜(c))。 - 特許庁
In the roller shaft, a chamfer part made at a corner of an end of the shaft is constituted in the order of an R chamfer part and a C chamfer part keeping contact with the R chamfer part from an end surface side of the shaft.例文帳に追加
ローラ用のシャフトにおいて、前記シャフトの端部の角に創製された面取り部が、該シャフトの端面側から、R面取り部および該R面取り部に接するC面取り部の順で構成されていることを特徴とするローラ用シャフト。 - 特許庁
Further, the top and rear surfaces can be discriminated by beveling one corner part C on the top surface.例文帳に追加
なお、表面の1つのコーナ部Cを面取りすることにより、表裏を区別するともできる。 - 特許庁
An annular groove 1 deeper than a C-chamfered part is formed in the inside-diameter part end surface of a bearing.例文帳に追加
軸受内径部端面にはC面取り部より大きい深さの円環溝1を形成した。 - 特許庁
The depth from an outer peripheral surface of the turning shaft 1b of the chamfered parts C is merely required to be set at a value greater than the height of the burr formed at the intersection B of the chamfered parts C and the plane section (parting line L).例文帳に追加
また、面取り部Cの回動軸1b外周面からの深さは、その面取り部Cと平面部(パーティングラインL)との交差部Bに発生するバリの高さより大きい値とすれば良い。 - 特許庁
The chamfered parts C are formed approximately perpendicular to the parting line L so as to open a mold without difficulty.例文帳に追加
この面取り部Cは、金型を開くときに支障がないよう、パーティングラインLに対して略垂直となっている。 - 特許庁
A shaft 13 for journaling the chamfering tool 10 may be made movable in approaching and separating directions by being mounted at one end part of a swing holder 15 having the other end part slidably supported on the chamfering device mounting part C, and be movably supported in the approaching and separating directions by a holder 30 fixed to the chamfering device mounting part C.例文帳に追加
面取り工具を軸支するシャフト13は、一端部が面取り装置取付部に揺動自在に支持されたスイングホルダ15の他端部に取り付けて接近離隔方向に移動自在としてもよいし、面取り装置取付部に固定したホルダ30に接近離隔方向に移動自在に支持させてもよい。 - 特許庁
The radius of curvature R3 of a chamfering part 13a, 13b side processing part C, is set to 110 % to 120 %; and the processing range ϕ is set to a width of 75° or more, and 0.2 mm or more from the chamfering part end.例文帳に追加
面取り部13a,13b側加工部Cの曲率半径R3を110%以上120%以下、加工範囲φ75°以上かつ面取り部端から0.2mm以上の幅とする。 - 特許庁
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