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CRITICAL DIMENSIONとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 臨界次元
「CRITICAL DIMENSION」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 99件
To provide a plasma processing apparatus which has small variation in CD (Critical Dimension) precision by stabilizing the temperature of an in-apparatus member of the plasma processing apparatus.例文帳に追加
プラズマ処理装置の装置内部材の温度を安定化し、CD(Critical Dimension)精度の変動の少ないプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method capable of attaining both CDU (Critical Dimension Uniformity) performance and defect performance at high levels.例文帳に追加
CDU(Critical Dimension Uniformity)性能と欠陥性能とを高い水準で両立させることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The analysis of the entire substrate of the measured critical dimension data is modeled by a response model of the critical dimension.例文帳に追加
測定したクリティカルディメンジョンデータの全基板解析が、クリティカルディメンジョンの応答モデルによってモデル化される。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a printing plate to achieve a fine pattern by minimizing a variation of etching CD (critical dimension).例文帳に追加
エッチングCD(critical dimension)の変化を最小化して微細パターンを形成することができる印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT HAVING FEATURE WITH SMALL CRITICAL DIMENSION例文帳に追加
臨界寸法を小さくしたフィーチャを有する集積回路の製造方法 - 特許庁
REAL-TIME CONTROL OF GATE ETCH CRITICAL DIMENSION BY OXYGEN MONITORING例文帳に追加
酸素モニタリングによるリアルタイム・ゲート・エッチ限界寸法制御 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「CRITICAL DIMENSION」の意味 |
Critical dimension
出典:『Wikipedia』 (2011/06/13 17:28 UTC 版)
「CRITICAL DIMENSION」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 99件
METHOD OF REDUCING CRITICAL DIMENSION USING PLURAL MASKING STEPS例文帳に追加
複数のマスキングステップを用いて微小寸法を低減する方法 - 特許庁
To improve controllability of critical dimension in a wiring structure.例文帳に追加
配線構造におけるクリティカルディメンションの制御性を向上させる。 - 特許庁
POST-EXPOSURE MODIFICATION OF CRITICAL DIMENSION IN MASK FABRICATION例文帳に追加
マスクの製造におけるクリチカル寸法の露呈後の修正方法 - 特許庁
METHOD FOR ADJUSTING CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY IN ETCH PROCESS例文帳に追加
エッチング処理において限界寸法の均一性を調節するための方法 - 特許庁
CORRECTION OF RESIST CRITICAL DIMENSION VARIATION IN LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加
リソグラフィプロセスにおけるレジストの限界寸法の変動の修正 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING CRITICAL DIMENSION AND MONITORING MANUFACTURE UNIFORMITY例文帳に追加
限界寸法の測定、及び、製造均一性を監視する方法とシステム - 特許庁
To provide a method of forming a minute pattern having a target critical dimension.例文帳に追加
目標臨界寸法を有する微細パターンを形成方法を提供する。 - 特許庁
ELECTRON BEAM DOSE CONTROL FOR SCANNING ELECTRON MICROSCOPY AND CRITICAL DIMENSION MEASUREMENT EQUIPMENT例文帳に追加
走査電子顕微鏡法および臨界寸法測定機器のための電子ビーム線量制御 - 特許庁
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